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光刻機是開路先鋒

MZjJ_DIGITIMES ? 來源:DIGITIMES ? 作者:DIGITIMES ? 2020-09-29 16:51 ? 次閱讀
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近期據外媒消息美國政府正考慮將中芯國際列入實體清單中,導致它的股價大跌。

此條爆炸性的新聞如成現(xiàn)實,未來意味著美國半導體設備制造商,如應用材料、科林、科磊、包括ASML、日本東京電子、愛德萬測試等都可能被要求不能向中芯國際出口設備及提供服務。

顯然目前僅是傳聞,并沒有公開證實。但是從近期美方對于華為的制裁逐步升級,中芯國際不得不要面對現(xiàn)實,作好最壞的準備,去迎接戰(zhàn)斗。

今天中芯國際及華為面臨的問題,并不是中芯國際及華為兩家公司的問題,而是中國半導體產業(yè)的問題,只不過中芯國際及華為作為中國科技的代表企業(yè)而被擺上風口浪尖。

中芯國際要面對現(xiàn)實,或許是企業(yè)成長的必修課之一,只有經過各種各樣的磨練,企業(yè)才能真正壯大與成長,走向國際化。

國產化不是目的

美國利用EDA工具與IP及半導體設備等“殺手锏武器”來打壓中國半導體業(yè)。對此別無退路,相反也必須首先從這兩個方面去迎戰(zhàn)。

盡管從理論上“一個世界、兩個體系”是可行的,但是中國半導體業(yè)幾乎不可能再重建一條國產化高達100%的生產線,也不經濟,幾乎也不太可能,連美國也做不到,必須依靠全球化的協(xié)同力量。但是眼前的態(tài)勢是殘酷的,沒有其它的可行之路,逼著向國產化邁進。

業(yè)者必須把國產化看作是必修課之一,只有通過國產化的進程來提高自身的競爭力,所以不單是要踏實苦干,循序漸進,同時要高歌挺進。相信當能將若干關鍵半導體設備如光刻機,CVD,離子注入機,測試儀等部分實現(xiàn)了國產替代,并能達到較高水平,那時高技術出口禁運政策就自然會瓦解。

這就是當前社會的基本邏輯,“強者勝出,弱者挨打”。

所以對于中國半導體業(yè)在現(xiàn)階段的受壓困境,要作好長遠的心理準備,因為無論EDA工具與IP及半導體設備與材料,都是“硬骨頭”,可能要5年左右時間的不懈努力攻關。集中國內的優(yōu)勢兵力,才有可能取得成功。全球化不是西方的恩施,而必須依靠競爭力的提升,所以全球化必須是通過競爭勝出努力爭取才會到來。

光刻機是開路先鋒

在“卡脖子”清單中有兩個大類是“硬骨頭”,分別是EDA工具與IP以及半導體設備與材料,而其中光刻機是首當其沖的“攔路虎”之一。

近日第一次見到中科院院長白春禮準備在光刻機,高端芯片等方面集結精銳力量組織系統(tǒng)攻關。

中國科學院將發(fā)揮多學科的綜合和建制化優(yōu)勢,集結精銳力量組織系統(tǒng)攻關,有效解決一批“卡脖子”問題。

白春禮介紹,中科院在院層面成立了專門的領導小組,加強組織推進和統(tǒng)籌協(xié)調,明確任務的組織單位,科研人員全身心投入到科技攻關當中,簽署軍令狀。

消息是十分鼓舞人心,希望科研院所改變之前關注解決從“0”到“1”的問題,而目前國內光刻機迫切要解決卡脖子問題,因為在國外光刻機設備進口受阻時,國內光刻機在芯片生產線中的量產水平,直接決定了國內芯片生產線的工藝制程水平,所以它是“開路先鋒”。

在這樣的目標任務下首先要解決的是193納米浸潤式光刻機,能滿足量大面廣的28至7納米邏輯芯片制造的需求,而不是EUV。它應該是下一步的目標。

結語

貿易戰(zhàn)時起彼伏,時松時緊,是常態(tài),要適應它。

未來中芯國際會怎么樣?無人知曉。但是如果把最壞的可能都想清楚,還有什么可以擔心。該來的一定會來。但是如果進入最困難的時期,首先要增強信心,千萬不能自亂陣腳,相信中國半導體業(yè)在美方的無邊際打壓下,暫時會有些困難,但是相信國家的實力支持及中芯國際的不懈努力,它應該仍是中國芯片制造業(yè)的領頭羊。

光刻機的攻堅任務是開路先鋒,它具有設備國產化的示范引導意義,因此必須集國內的智慧與人力及財力,在新的環(huán)境下,克服困難,徹底改變科研院所之前只關注解決從“0”到“1”,而不能與企業(yè)相結合,必須真正能解決芯片量產中的實用化問題。

同時對于光刻機國產化的復雜性要有充分認識與估計,因為02專項攻關任務中它是年年在列。顯然由于半導體設備卡脖子的教訓是刻骨銘心,推動此次產學研能真正的聯(lián)動,熱切盼望它將成為又一次打破美方技術壟斷與封鎖的典范。

關鍵核心技術是買不來,只有把關鍵核心技術掌握在自己手中,才能從根本上保障國家經濟與國防的安全。

原文標題:【名家】光刻機是科技攻關開路先鋒

文章出處:【微信公眾號:DIGITIMES】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

責任編輯:haq

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