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SiC MOSFET的特性及使用的好處

臺電存儲 ? 來源:東芝半導體 ? 作者:東芝半導體 ? 2021-08-13 18:16 ? 次閱讀
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電力電子產(chǎn)業(yè)未來的發(fā)展趨勢之一便是使用更高的開關(guān)頻率以獲得更緊密的系統(tǒng)設計,而在高開關(guān)頻率高功率的應用中,SiC器件優(yōu)勢明顯,這就使得SiC MOSFET5G基站、工業(yè)電源、光伏、充電樁、不間斷電源系統(tǒng)以及能源儲存等應用場景中的需求不斷提升。

SiC MOSFET的特性

更好的耐高溫與耐高壓特性

基于SiC材料的器件擁有比傳統(tǒng)Si材料制品更好的耐高溫耐高壓特性,其能獲得更高的功率密度和能源效率。由于碳化硅(SiC)的介電擊穿強度大約是硅(Si)的10倍,因此,其允許使用更薄的漂移層來維持更高的阻斷電壓,這使得SiC功率器件可以提供高耐壓和低壓降。更薄以及更高注入的漂移層可以帶來更低的正向壓降以及導通損耗,與相同耐壓條件下的Si相比,SiC器件中的單位面積導通電阻更低。

單極器件,關(guān)斷損耗低

由于SiC MOSFET是單極器件,即便在高壓產(chǎn)品中,也只能通過電子工作,因此不會產(chǎn)生拖尾電流;同時,與Si IGBT相比,SiC MOSFET關(guān)斷損耗也較低,因此,其能夠在高頻范圍內(nèi)運行,這對于Si IGBT來講,是很難實現(xiàn)的。此外,該特性也有助于設計小型化無源元件。

高熱導率,適合高壓領(lǐng)域

SiC材料擁有3.7W/cm/K的熱導率,而硅材料的熱導率僅有1.5W/cm/K,更高的熱導率可以帶來功率密度的顯著提升??梢哉fSiC材料的出現(xiàn)使得MOSFET及肖特基二極管的應用范圍可以推廣到高壓領(lǐng)域。

與傳統(tǒng)的硅Si IGBT(低柵極輸入電荷等)相比,東芝的TW070J120B 1200V SiC MOSFET可提供更高的開關(guān)速度、低導通電阻和高柵極電壓閥值(Vth),可預防故障;較寬的柵極-源極電壓(VGSS),支持更簡單的柵極驅(qū)動設計。

了解過SiC MOSFET的多種特性,下面我們就以2kVA輸出單相逆變器為例,分析使用SiC MOSFET器件的好處。

使用SiC MOSFET的好處

在分析比對的過程中,工程師通過將產(chǎn)品中的IGBT替換為東芝TW070J120B,可以發(fā)現(xiàn)在導通損耗、開關(guān)損耗以及整體損耗方面都顯著降低,這在很大程度上歸功于SiC MOSFET增強的開關(guān)特性。

由于碳化硅(SiC)的寬帶隙特性,所以東芝TW070J120B在高耐壓、低導通電阻和高速開關(guān)特性方面具有極大優(yōu)勢。與IGBT不同,新器件結(jié)構(gòu)不會產(chǎn)生拖尾電流,這意味著可將開關(guān)損耗保持在較低水平。通過替換操作,2kVA輸出單相逆變器在額定運行期間每個器件的損耗可從14.4W降至8.5W,這相當于損耗降低了約41%。

除了降低損耗外,SiC MOSFET在高溫環(huán)境下具有優(yōu)異的工作特性,可簡化現(xiàn)有的散熱措施。此外,由于開關(guān)損耗非常低,系統(tǒng)可在更高的頻率下運行。如能提高開關(guān)頻率,就可以降低外圍器件(線圈和電容器)的大小,從而節(jié)省空間和成本,并使產(chǎn)品具有更大的競爭優(yōu)勢。

在升級為SiC MOSFET過程中,東芝不僅成功解決了功率損耗問題,還提供了大量的額外技術(shù)支持。未來,東芝也會持續(xù)地創(chuàng)新技術(shù),以提高SiC MOSFET性能,擴大基于碳化硅(SiC)的功率器件產(chǎn)品線,為碳中和的目標而助力。

編輯:jq

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原文標題:東芝SiC MOSFET降低功率損耗,邁向碳中和

文章出處:【微信號:gh_59da4a650b34,微信公眾號:臺電存儲】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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