在電子化程度如此高的現(xiàn)在，人們身邊的電子設(shè)備比比皆是，而它們又都離不開(kāi)芯片?，F(xiàn)在芯片制程技術(shù)也處于飛速發(fā)展的階段，芯片巨頭臺(tái)積電和三星都將在今年下半年開(kāi)始量產(chǎn)3nm制程芯片，2024或2025年實(shí)現(xiàn)2nm制程的量產(chǎn)。

目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī)，而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm，也就是說(shuō)，再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來(lái)完成。

ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠?qū)⒊叽缃档?6%，如此一來(lái)芯片的制程又能繼續(xù)往前邁步，這種新型光刻機(jī)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。

目前EUV光刻機(jī)處于供不應(yīng)求的狀態(tài)，按道理來(lái)說(shuō)更加先進(jìn)的High-NA光刻機(jī)應(yīng)該更加搶手才對(duì)，不過(guò)奇怪的是，ASML表示已經(jīng)收到了來(lái)自5家客戶(hù)的5個(gè)High-NA光刻機(jī)訂單，High-NA光刻機(jī)貌似沒(méi)有想象中的那么火爆。不過(guò)這還是連3nm都沒(méi)有跨入的時(shí)代，可能有些廠商不愿過(guò)早購(gòu)買(mǎi)昂貴的新型光刻機(jī)，包括將3nm制程作為重點(diǎn)發(fā)展的臺(tái)積電也是一樣。

綜合整理自 笨鳥(niǎo)科技 簡(jiǎn)叔 百家眾神

審核編輯 黃昊宇