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Tech Talk:解讀閃存原理與顆粒類型

深圳憶聯(lián)信息系統(tǒng)有限公司 ? 2024-02-05 18:01 ? 次閱讀
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NAND 閃存作為如今各種電子設備中常見的非易失性存儲器,存在于固態(tài)硬盤(SSD)、USB閃存驅(qū)動器智能手機存儲等器件。而隨著電腦終端、企業(yè)存儲、數(shù)據(jù)中心、甚至汽車配件等應用場景要求的多樣化,NAND閃存的存儲方式和堆疊技術(shù)也在持續(xù)演進。

本文將圍繞閃存顆粒相關(guān)的概念以及發(fā)展趨勢做介紹。

NAND閃存單元


NAND閃存基于浮柵晶體管,通過其中所存儲的電荷量表示不同的數(shù)據(jù)。NAND 閃存由NAND閃存單元(cell)組成,每個單元包含一個浮柵晶體管、一個源極和一個漏極。

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簡易的NAND閃存單元示意圖

在最簡單的形式中,當浮柵充電時,它被識別為“編程”狀態(tài)并標記為0。當浮柵沒有電荷時,它被識別為“擦除”狀態(tài)并標記為1。

浮柵內(nèi)部捕獲的電子數(shù)量與單元晶體管閾值電壓成正比。若捕獲大量電子,晶體管則實現(xiàn)高閾值電壓;若捕獲少量電子,則形成低閾值電壓。

如果周圍的電路沒有改變,浮柵處于絕緣狀態(tài),其存儲的電荷就保持狀態(tài)不變,即使器件斷電后數(shù)據(jù)也不會丟失。因此,NAND閃存便具備了非易失性。

然而,NAND閃存每個單元的編程/擦除(Program/Erase,簡稱P/E)次數(shù)是有限的。在電壓作用下,電子在硅襯底和浮柵之間穿過氧化物實現(xiàn)移動的過程,稱作“隧穿”。這個過程會造成隧道氧化層上的應力并且逐步破壞氧化層,因此浮柵最終將無法保持電荷,屆時閃存單元也無法使用,將被歸入壞塊池。

NAND閃存類型


根據(jù)每個單元可以存儲的位數(shù),NAND閃存類型可以進一步分為SLC、MLC、TLC和QLC。

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各NAND閃存類型的單元狀態(tài)

SLC(Single-Level Cell,單層單元)

每個存儲單元僅存儲一個比特的信息,即0或1。由于每個單元只有2種狀態(tài),SLC NAND閃存的存儲密度較低,但具有快速的寫入速度、耐久的P/E次數(shù),成本也最高。

MLC(Multi-Level Cell,多層單元)

每個存儲單元可以存儲多個比特,通常是2個或4個比特。這里是相對于SLC而言,僅指存儲兩個比特的多層單元,其具有4種單元狀態(tài)。

TLC(Triple-Level Cell,三層單元)

每個存儲單元可以存儲3比特,具有8種單元狀態(tài)。

QLC(Quad-Level Cell,四層單元)

每個存儲單元可以存儲4比特,具有16種單元狀態(tài)。

通過在每個單元中存儲更多的比特,MLC、TLC和QLC NAND 閃存的存儲密度依次提高、成本下降、芯片外觀尺寸也大大縮減,但相應地,數(shù)據(jù)寫入速度變慢、P/E次數(shù)減少。

目前業(yè)內(nèi)早已在研制PLC(Penta-Level Cell,五層單元),即每個存儲單元可存儲5比特信息,進一步提升存儲密度并降低成本。但同時,對存儲單元劃分越來越多的電壓閾值,讀寫操作對電壓以及電子數(shù)量的精確度要求就越高,由此進一步對性能以及損壞率帶來了挑戰(zhàn)。

顆粒優(yōu)缺點


基于各類型存儲單元的閃存顆粒,在性能、使用壽命和成本等方面的對比如下表所示。

單從成本角度考慮,QLC顆粒顯然最具有優(yōu)勢,但是實際由于其電壓狀態(tài)較多,控制的難度較大,進而帶來了顆粒穩(wěn)定性和耐久性的問題。因此,四種顆粒的性能和壽命反而是依次下降的。

以SSD存儲為例,選用顆粒時可以參考如下幾個原則:

性能和可靠性要求

如果對這兩方面要求較高,那么可以考慮SLC顆粒的高耐用性和快速讀寫性能。此類高要求常見于金融、醫(yī)療設備等行業(yè),但由于市面上SLC顆粒已經(jīng)很難見到,這類顆粒往往需要定制。

性價比要求

對于存儲容量和成本都有一定要求的情況下,可以考慮MLC顆粒,其具備相對合理的容量/價格比,常見于消費電子、普通企業(yè)服務器等行業(yè)。

存儲密度要求

如果對存儲密度有要求,也不需要極致壓縮成本,可選用TLC顆粒,常見于云存儲、大數(shù)據(jù)分析等場景。

海量存儲要求

QLC顆??梢砸詷O低成本實現(xiàn)海量數(shù)據(jù)存儲,部分應用如數(shù)據(jù)中心、云存儲等特定場景可以考慮此類顆粒。

因此,根據(jù)應用場景的特定需求,用戶可以靈活選用不同的閃存顆粒,實現(xiàn)在存儲容量、讀寫性能、壽命和成本上的平衡。

3D NAND發(fā)展趨勢

伴隨著存儲密度的持續(xù)提升,NAND閃存設計制造也正在經(jīng)歷從平面到立體、從2D到3D的演進。

2D NAND的容量取決于單Die上容納的單元數(shù)量以及每個單元可以存儲的比特,其發(fā)展很容易遇到瓶頸。而相較于2D NAND的水平堆疊,3D NAND更像摩天大樓,利用縱向維度,把閃存顆粒在立體空間內(nèi)進行多層垂直堆疊。

從具體設計和實現(xiàn)上來看,3D NAND也更多地采用電荷捕獲型結(jié)構(gòu)(charge trap)而不再單純沿用浮柵設計,或?qū)?a href="http://www.brongaenegriffin.com/tags/電流/" target="_blank">電流路徑從單晶硅通道提升為多晶硅通道等,擴大了空間。

3D NAND技術(shù)已廣泛應用于終端SSD,可以大幅度優(yōu)化性能、功耗、耐用性以及成本,借助糾正技術(shù)和均衡算法也進一步提高了存儲系統(tǒng)的可靠性,滿足數(shù)據(jù)中心、云計算和更多的關(guān)鍵應用場景下的存儲需求。

聚焦于SSD存儲領(lǐng)域,硬盤的性能和穩(wěn)定性在很大程度上取決于其主控制器與NAND顆粒之間的協(xié)同工作方式。作為硬盤的大腦,主控制器將精確控制NAND的所有操作并通過算法優(yōu)化來延長SSD的整體壽命與性能提升。

憶聯(lián)自研存儲控制器芯片目前已支持SLC、MLC、TLC與QLC全部四種顆粒,且前三者已實現(xiàn)產(chǎn)品化。關(guān)于主控的更多介紹,請關(guān)注后續(xù)的Tech Talk專題文章。

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