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蘇州永創(chuàng) 睿能·非衡_系列正負不對稱雙極性脈沖電源

王偉 ? 來源:jf_54114546 ? 作者:jf_54114546 ? 2025-12-04 10:50 ? 次閱讀
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正負不對稱雙極性脈沖電源

精準調(diào)控等離子體·賦能尖端薄膜工藝

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1. 產(chǎn)品概述

正負不對稱雙極性脈沖電源PPS±feih蘇州永創(chuàng)智能科技有限公司開發(fā)生產(chǎn)。睿能·非衡系列電源專為高級鍍膜工藝而設(shè)計的高精度、高性能電源解決方案。

正負不對稱雙極性脈沖電源PPS±feih它創(chuàng)新性地采用了雙極性不對稱輸出設(shè)計,可獨立產(chǎn)生+1200V/選配2000V的正脈沖與-900V/選配1500V的負脈沖,并能在10kHz至50kHz的高頻范圍內(nèi)進行精確的脈沖調(diào)制。通過獨立控制正負脈沖的寬度與頻率,該電源能實現(xiàn)對等離子體環(huán)境的精準塑造,顯著提升薄膜的附著力、致密性與綜合性能,是追求卓越鍍膜質(zhì)量的用戶的理想選擇。

正負不對稱雙極性脈沖電源PPS±feih蘇州永創(chuàng)智能科技有限公司開發(fā)生產(chǎn)。

2. 產(chǎn)品特點

①核心雙極不對稱輸出

獨立電壓控制:正極性輸出高達 +1200V,負極性輸出達 -900V,這種獨特的電壓不對稱性,能為工藝過程提供更優(yōu)化的能量輸入。

協(xié)同占空比調(diào)節(jié):正脈沖占空比(80%~100%)與負脈沖占空比(20%~0%)協(xié)同可調(diào),實現(xiàn)對離子轟擊與沉積過程的獨立精細控制,從而優(yōu)化薄膜生長動力學(xué)。

高頻精密脈沖調(diào)制

寬頻可調(diào):工作頻率在 10kHz ~ 50kHz 范圍內(nèi)可數(shù)字設(shè)置,滿足不同工藝階段對脈沖頻率的多樣化需求。

高精度輸出: 輸出電流 0~1A 可調(diào),確保在復(fù)雜工藝條件下仍能提供穩(wěn)定、純凈的脈沖波形。

③卓越的可靠性與穩(wěn)定性

軟啟動技術(shù):內(nèi)置先進的軟啟動電路,有效抑制開機瞬間的電壓電流沖擊,保護電源本身及后端昂貴的鍍膜設(shè)備。

嚴格過沖控制:輸出電壓過沖被嚴格控制在極低水平,確保工藝重復(fù)性和膜層質(zhì)量的一致性,保護基片與靶材。

④智能化與可視化操作

數(shù)字設(shè)置與監(jiān)控:所有關(guān)鍵參數(shù)(電壓、頻率、占空比)均可通過前面板數(shù)字設(shè)置,并實時顯示工作狀態(tài),操作直觀簡便。


3. 典型應(yīng)用

高級真空鍍膜

PVD(物理氣相沉積):如磁控濺射、電弧離子鍍等工藝中,作為基體偏壓電源,用于精確控制離子對基片的轟擊能量與方向。

制備高性能薄膜:如類金剛石薄膜(DLC)、氮化鈦薄膜(TiN)、氧化鋁薄膜等硬質(zhì)、耐磨、防腐涂層。

表面工程與改性

等離子體浸沒離子注入與沉積。

材料表面清洗與活化處理。

前沿科研領(lǐng)域

等離子體物理、新材料合成等需要對等離子體參數(shù)進行精密調(diào)控的科學(xué)研究。

4. 參數(shù)規(guī)格

項目........................要求

1. 輸出電壓....................正極性+1200V
輸出電壓....................負極性-900V

2. 輸出電流.....................0~1A

3. 頻率........................10kHz~50kHz可設(shè)置

4. 占空比......................PWM1(正脈沖)占空比80~100%

5. 占空比......................PWM2(負脈沖)占空比20~0%

6. 注意事項1...................電源的電壓電流數(shù)據(jù)采用485傳輸

7. 注意事項2...................PWM1和PWM2是互補的關(guān)系,

8. 注意事項3...................PWM1和PWM2的占空比設(shè)置要加入死區(qū)(固定值或百分比,當頻率高的時候固定值合適點)

正負不對稱雙極性脈沖電源PPS±feih蘇州永創(chuàng)智能科技有限公司開發(fā)生產(chǎn)。波形如下

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審核編輯 黃宇

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