晶圓清洗是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)，直接影響芯片良率和性能。其工藝要點(diǎn)可歸納為以下六個(gè)方面：

一、污染物分類與針對性處理

顆粒污染：硅粉、光刻膠殘留等，需通過物理擦洗或兆聲波空化效應(yīng)剝離。

有機(jī)污染：油脂、光刻膠聚合物，常用SPM（H?SO?+H?O?）高溫氧化分解。

金屬離子污染：Fe、Cu等，采用SC-2（HCl+H?O?）絡(luò)合溶解，或加入螯合劑增強(qiáng)去除。

自然氧化層：使用DHF（稀氫氟酸）選擇性腐蝕，暴露新鮮硅表面。

二、化學(xué)試劑選擇與配比優(yōu)化

經(jīng)典RCA清洗流程：

SC-1（NH?OH+H?O?+H?O=1:1:5）：堿性環(huán)境氧化并排斥顆粒，適用于去除有機(jī)物及顆粒。

SC-2（HCl+H?O?+H?O=1:1:6）：酸性條件溶解金屬，有效去除堿金屬及過渡金屬污染。

先進(jìn)配方升級：

臭氧水（O?+H?O）：替代傳統(tǒng)化學(xué)品，減少硫酸用量，降低環(huán)保壓力。

HF/O?組合：同步去除氧化層與金屬污染，簡化工序。

三、物理作用參數(shù)控制

溫度管理：

SPM清洗需維持80–130℃以激活雙氧水強(qiáng)氧化性，但過高溫度會(huì)加速設(shè)備腐蝕。

流體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì)：

噴淋系統(tǒng)采用多孔陣列噴嘴，確保流速均勻覆蓋晶圓表面，避免“死區(qū)”。

超聲/兆聲波應(yīng)用：

高頻振動(dòng)破壞顆粒吸附力，但需平衡能量密度以防硅片損傷。

四、干燥技術(shù)革新

IPA蒸汽干燥：利用異丙醇低表面張力特性，通過馬蘭戈尼效應(yīng)驅(qū)除水分，實(shí)現(xiàn)無痕干燥。

超臨界CO?干燥：高壓下CO?呈超臨界態(tài)，滲透微小結(jié)構(gòu)且無殘留，適配高深寬比器件。

離心輔助脫水：結(jié)合高速旋轉(zhuǎn)甩離液滴，縮短干燥時(shí)間。

五、設(shè)備與過程監(jiān)控

材質(zhì)兼容性：接觸腔體采用PFA/PTFE防腐材料，防止金屬析出二次污染。

在線監(jiān)測系統(tǒng)：實(shí)時(shí)檢測pH值、電導(dǎo)率及TOC（總有機(jī)碳），動(dòng)態(tài)調(diào)整清洗參數(shù)。

顆粒計(jì)數(shù)器：每批次清洗后掃描≥0.06μm顆粒數(shù)，確保符合ASTM標(biāo)準(zhǔn)。

六、新興技術(shù)趨勢

激光誘導(dǎo)清洗：脈沖激光精準(zhǔn)定位污染物，非接觸式去除亞微米級顆粒。

生物酶清洗：蛋白酶特異性降解有機(jī)物，綠色環(huán)保。

原子級清潔：氫氣退火還原表面氧化物，獲得接近本征硅的表面狀態(tài)。