動態(tài)

• 發(fā)布了產品 2022-01-17 14:59

  微量水分測試儀（FalconTrace）

  

  產品型號：FT700WT;FT400WT;FT300WT 檢測精度：ppmv或ppbv級 環(huán)境：-110°C~-20°C

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• 發(fā)布了產品 2022-01-17 14:16

  半導體生產用高純度原料-氧化硼

  

  產品型號：高純氧化硼 規(guī)格尺寸：φ10mm~φ195mm 規(guī)格重量：1g~1000g

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• 發(fā)布了產品 2022-01-17 14:04

  半導體生產用高純度原料-紅磷

  

  產品型號：High Purity Red Phosphorus 化合物半導體：襯底 , 外延層 硅片：摻雜劑，離子注入

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• 發(fā)布了產品 2022-01-17 13:46

  高純鎵（Ga）

  

  產品型號：6N HIGH PURITY GALLIUM 用于化合物半導體：襯底，外延層

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• 發(fā)布了產品 2022-01-17 11:36

  半導體生產用高純度原料---高純銦

  

  產品型號：High Purity Indium 500g ingot： 32×210×16mm or 33×172×14mm 100g ingot： 23×82×9mm 1g shot：φ7×6mm

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• 發(fā)布了產品 2022-01-14 17:20

  VSP-半導體設備電壓保護裝置

  

  產品型號：単相ＶＳＰ；3相ＶＳＰ 規(guī)格：3相(3φ200V～240V)；単相(1φ200V～240V AC In put ：380～440V (Selectable), 50/60Hz ACOutput  ：380～440V (Selectable), 50/60Hz

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• 發(fā)布了產品 2022-01-14 14:21

  半導體設備治具清洗爐-新工藝

  

  產品型號：NBC-465C ；NBC-800C 設備型號：NBC-465C；NBC-800C 治具材質：碳化硅涂層的石墨 、石英等 清洗方式：通過潔凈氣體加熱反應法進行干洗 (使用H2, CL2, HC

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• 發(fā)布了文章 2022-01-13 17:39

  第三代功率器件材料，氧化鎵

  

  第三代半導體功率器件的理想材料，可以在溶劑中生長。

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• 發(fā)布了產品 2022-01-13 17:22

  高導熱添加劑-獨一技術

  

  產品型號：Thermalnite 導熱率 (W/mK)：270 W/mK 添加量：10-40 ％ 添加到母材料：陶瓷，樹脂 ?橡膠

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• 發(fā)布了產品 2022-01-13 14:36

  新型晶圓輪廓檢測儀器

  

  產品型號：EGPRO-512 測定尺寸：5寸，6寸，8寸，12寸wafer的Edge，Notch測量 機能：校正功能，圖像結果，測量數據可以保存 wafer的厚度測量：500~1400um

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