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基于多物理場(chǎng)耦合的晶圓切割振動(dòng)控制與厚度均勻性提升2025-07-07 09:43
一、引言 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓切割是關(guān)鍵環(huán)節(jié),其質(zhì)量直接影響芯片性能與成品率。晶圓切割過(guò)程中,熱場(chǎng)、力場(chǎng)、流場(chǎng)等多物理場(chǎng)相互耦合,引發(fā)切割振動(dòng),嚴(yán)重影響晶圓厚度均勻性。探究多物理場(chǎng)耦合作用下的振動(dòng)產(chǎn)生機(jī)制,提出有效的控制策略以提升厚度均勻性,對(duì)推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展意義深遠(yuǎn)。 二、多物理場(chǎng)耦合對(duì)晶圓切割振動(dòng)及厚度均勻性的影響 2.1 熱 - 力場(chǎng)耦合作用 -
碳化硅襯底切割自動(dòng)對(duì)刀系統(tǒng)與進(jìn)給參數(shù)的協(xié)同優(yōu)化模型2025-07-03 09:47
一、引言 碳化硅(SiC)襯底憑借優(yōu)異性能在半導(dǎo)體領(lǐng)域地位關(guān)鍵,其切割加工精度和效率影響產(chǎn)業(yè)發(fā)展。自動(dòng)對(duì)刀系統(tǒng)決定切割起始位置準(zhǔn)確性,進(jìn)給參數(shù)控制切割過(guò)程穩(wěn)定性,二者協(xié)同優(yōu)化對(duì)提升碳化硅襯底切割質(zhì)量與效率意義重大。然而,當(dāng)前研究多將二者獨(dú)立分析,難以滿足高精度切割需求,亟需構(gòu)建協(xié)同優(yōu)化模型。 二、自動(dòng)對(duì)刀系統(tǒng)與進(jìn)給參數(shù)協(xié)同優(yōu)化的挑戰(zhàn) 2.1 動(dòng)態(tài)交互復(fù)雜 -
超薄碳化硅襯底切割自動(dòng)對(duì)刀精度提升策略2025-07-02 09:49
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修屏 4.0 時(shí)代:新啟航數(shù)字孿生技術(shù)如何實(shí)現(xiàn)激光修屏修復(fù)工藝遠(yuǎn)程優(yōu)化?2025-07-01 09:55
一、修屏 4.0 時(shí)代的技術(shù)特征 修屏 4.0 時(shí)代以智能化、數(shù)字化、遠(yuǎn)程化協(xié)同為核心特征。傳統(tǒng)修屏依賴人工經(jīng)驗(yàn)與現(xiàn)場(chǎng)調(diào)試,而 4.0 時(shí)代通過(guò)數(shù)字孿生、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等技術(shù)融合,實(shí)現(xiàn)修復(fù)全流程的虛擬映射與動(dòng)態(tài)優(yōu)化。新啟航數(shù)字孿生技術(shù)打破時(shí)空限制,構(gòu)建激光修屏 “物理設(shè)備 - 虛擬模型 - 數(shù)據(jù)交互” 閉環(huán),為遠(yuǎn)程優(yōu)化修復(fù)工藝提供技術(shù)支撐。 二、新啟航數(shù) -
柔性屏激光修屏禁區(qū)突破:新啟航如何實(shí)現(xiàn)曲面 OLED 面板的無(wú)損修復(fù)?2025-06-28 09:48
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循環(huán)經(jīng)濟(jì) 2.0:海翔科技如何用區(qū)塊鏈技術(shù)追溯二手設(shè)備全生命周期2025-06-27 09:58
摘要:在循環(huán)經(jīng)濟(jì) 2.0 時(shí)代,資源高效利用與透明化管理成為核心訴求。海翔科技創(chuàng)新性地將區(qū)塊鏈技術(shù)應(yīng)用于二手半導(dǎo)體設(shè)備全生命周期追溯,為行業(yè)發(fā)展提供新范式。本文通過(guò)分析循環(huán)經(jīng)濟(jì) 2.0 背景下的行業(yè)需求,闡述區(qū)塊鏈技術(shù)在二手設(shè)備追溯中的應(yīng)用路徑、優(yōu)勢(shì)及面臨的挑戰(zhàn),揭示海翔科技如何借助技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)二手設(shè)備產(chǎn)業(yè)升級(jí)。 一、引言 循環(huán)經(jīng)濟(jì) 2.0 強(qiáng)調(diào)在資源循 -
自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)對(duì)碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化2025-06-26 09:46
摘要:碳化硅襯底切割對(duì)起始位置精度與厚度均勻性要求極高,自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)作為關(guān)鍵技術(shù)手段,能夠有效提升切割起始位置精度,進(jìn)而優(yōu)化厚度均勻性。本文深入探討自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)的作用機(jī)制、實(shí)現(xiàn)方式及其對(duì)切割工藝優(yōu)化的重要意義。 一、引言 碳化硅襯底是第三代半導(dǎo)體器件的核心基礎(chǔ)材料,其切割質(zhì)量直接影響器件性能與成品率。在碳化硅襯底切割過(guò)程中,起始位置精度不足會(huì)導(dǎo)致切割路徑偏碳化硅 372瀏覽量 -
碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型2025-06-25 11:22
摘要:碳化硅襯底切割過(guò)程中,進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)緊密關(guān)聯(lián),二者協(xié)同調(diào)控對(duì)提升切割質(zhì)量與效率至關(guān)重要。本文深入剖析兩者相互作用機(jī)制,探討協(xié)同調(diào)控模型構(gòu)建方法,旨在為優(yōu)化碳化硅襯底切割工藝提供理論與技術(shù)支撐。 一、引言 碳化硅憑借優(yōu)異的物理化學(xué)性能,成為第三代半導(dǎo)體材料的核心。在其襯底加工環(huán)節(jié),切割是關(guān)鍵工序。切割進(jìn)給量直接影響切割效率與材料去除率,而磨粒磨損碳化硅 335瀏覽量 -
晶圓邊緣 TTV 測(cè)量的意義和影響2025-06-14 09:42
摘要:本文探討晶圓邊緣 TTV 測(cè)量在半導(dǎo)體制造中的重要意義,分析其對(duì)芯片制造工藝、器件性能和生產(chǎn)良品率的影響,同時(shí)研究測(cè)量方法、測(cè)量設(shè)備精度等因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的作用,為提升半導(dǎo)體制造質(zhì)量提供理論依據(jù)。 關(guān)鍵詞:晶圓邊緣;TTV 測(cè)量;半導(dǎo)體制造;器件性能;良品率 一、引言 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓總厚度偏差(TTV)是衡量晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo)之一,而晶圓邊