一、產(chǎn)品概述
QDR清洗設(shè)備（Quadra Clean Drying System）是一款專為高精度清洗與干燥需求設(shè)計(jì)的先進(jìn)設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、光學(xué)、電子器件制造等領(lǐng)域。該設(shè)備集成了化學(xué)腐蝕清洗、超聲波/兆聲波清洗、多級漂洗及真空干燥等技術(shù)，能夠高效去除石英、硅片、金屬部件等表面的顆粒、有機(jī)物、氧化物及金屬污染，同時(shí)避免二次損傷，確保器件表面潔凈度與工藝兼容性。
二、核心特點(diǎn)
四維清洗技術(shù)（Quadra Clean）
- 化學(xué)腐蝕：精準(zhǔn)調(diào)配酸液（如HF、HCL、H?O?）或堿性溶液，針對特定污染物（如氧化層、金屬殘留）實(shí)現(xiàn)可控腐蝕。
- 超聲波+兆聲波協(xié)同：
- 超聲波（20-40kHz）：剝離頑固顆粒與薄膜。
- 兆聲波（>1MHz）：清除亞微米級顆粒，適用于納米結(jié)構(gòu)清洗。
- 多級漂洗：3-5級去離子水（DI Water）噴淋與溢流沖洗，徹底去除化學(xué)殘留。
- 真空干燥：低溫（<60℃）真空環(huán)境脫水，避免高溫?fù)p傷，防止水痕與氧化。
智能化控制系統(tǒng)
- PLC+觸摸屏：預(yù)設(shè)清洗程序，支持參數(shù)可調(diào)（時(shí)間、溫度、功率、流量）。
- 實(shí)時(shí)監(jiān)控：在線檢測清洗液濃度、pH值、顆粒數(shù)，自動補(bǔ)充或更換化學(xué)液。
- 數(shù)據(jù)追溯：記錄每次清洗的工藝參數(shù)與結(jié)果，符合ISO標(biāo)準(zhǔn)與行業(yè)追溯要求。
高精度兼容設(shè)計(jì)
- 多尺寸適配：可處理2寸至12寸晶圓、石英舟、金屬載具等，適應(yīng)不同工藝需求。
- 低損傷清洗：非接觸式流體沖刷與聲波振動，避免機(jī)械應(yīng)力損傷脆弱結(jié)構(gòu)（如薄膜、納米圖形）。
- 材料兼容性：腔體采用PFA、PTFE等耐腐蝕材料，避免交叉污染。
環(huán)保與安全
- 閉環(huán)化學(xué)液系統(tǒng)：廢液自動回收與分離，減少危廢處理成本。
- 安全防護(hù)：泄漏檢測、緊急排液、防爆設(shè)計(jì)，符合SEMI S8安全標(biāo)準(zhǔn)。
三、應(yīng)用場景
- 半導(dǎo)體制造：清洗擴(kuò)散爐石英舟、光刻機(jī)部件、CVD石墨載具等。
- 光伏行業(yè)：太陽能電池片承載石英舟的顆粒與金屬污染去除。
- 光學(xué)加工：光學(xué)鏡片模具、石英坩堝的納米級清潔。
- 科研實(shí)驗(yàn)：實(shí)驗(yàn)室級高精度器件清洗（如MEMS傳感器、量子芯片載體）。
QDR清洗設(shè)備以“四維清洗+真空干燥”為核心，結(jié)合智能化與安全性設(shè)計(jì)，為高端制造業(yè)提供高精度、高效率的清洗解決方案，助力提升產(chǎn)品良率與工藝穩(wěn)定性。
