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刻蝕

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刻蝕，英文為Etch，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻［1］相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。所謂刻蝕，實際上狹義理解就是光刻腐蝕，先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理，然后通過其它方式實現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。

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刻蝕資訊

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2020-12-29 標簽：ICP 刻蝕 3487 0

泛林集團推三款開創(chuàng)性的選擇性刻蝕產(chǎn)品此前宣布季度股息1.5美元每股

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泛林發(fā)布半導(dǎo)體刻蝕技術(shù)解決方案

近日，泛林集團發(fā)布了革新性的等離子刻蝕技術(shù)及系統(tǒng)解決方案Sense.i? 平臺，旨在為芯片制造商提供先進的功能和可擴展性，以滿足未來的創(chuàng)新需求。

2020-03-12 標簽：半導(dǎo)體刻蝕 3109 0

memsstar在MEMS領(lǐng)域的技術(shù)實力，以及近期取得的進展

雖然我們提供的產(chǎn)品是MEMS設(shè)備，但那只是我們技術(shù)和工藝的載體。我們的MEMS設(shè)備中包含的先進MEMS工藝經(jīng)驗和知識，并且我們團隊還專注于可能在10~1...

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濕法刻蝕工藝操作規(guī)程

通過化學(xué)反應(yīng)腐蝕掉硅片背面及四周的PN結(jié)以達到正面與背面絕緣的目的同時去除正面的磷硅玻璃層。

2022-09-06 標簽：工藝硅片刻蝕 3054 0

各種光刻技術(shù)你都了解嗎？

當制程節(jié)點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯...

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TMAH溶液對硅得選擇性刻蝕研究

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2022-05-20 標簽：刻蝕刻蝕機 2894 0

一種干法各向異性刻蝕石墨和石墨烯的方法

我們?nèi)A林科納研究了一種干法各向異性刻蝕石墨和石墨烯的方法，能夠通過調(diào)整蝕刻參數(shù)，如等離子體強度、溫度和持續(xù)時間，從邊緣控制蝕刻，蝕刻過程歸因于碳原子的氫...

2022-05-19 標簽：石墨烯刻蝕 2822 0

KOH硅濕化學(xué)刻蝕—江蘇華林科納半導(dǎo)體

氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術(shù)的堿金屬氫氧化物，是用于微加工硅片的最常用的硅蝕刻化學(xué)物質(zhì)之一。各向異性蝕刻優(yōu)先侵蝕基底。也就是說，它們...

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半導(dǎo)體前端工藝：刻蝕——有選擇性地刻蝕材料，以創(chuàng)建所需圖形

在半導(dǎo)體制程工藝中，有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝，如“清洗”、“刻蝕”等。如果說“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉，“刻蝕”工藝則是...

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半導(dǎo)體先進制程加速，國內(nèi)刻蝕設(shè)備有望突破國際壟斷

在芯片制造中，“光刻”和“刻蝕”是兩個緊密相連的步驟，也是非常關(guān)鍵的步驟?！肮饪獭本拖喈斢谟猛队暗姆绞桨央娐穲D“畫”在晶圓上。注意，這個時候，電路圖其實...

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***產(chǎn)業(yè)鏈廠商分析國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商迎新機遇

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2023-08-09 標簽：光刻機刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備 2485 0

泛林集團推開創(chuàng)性的選擇性刻蝕解決方案加速實現(xiàn)3D

通過與客戶、技術(shù)專家和產(chǎn)品團隊的合作，他們已經(jīng)在選擇性刻蝕創(chuàng)新方面實現(xiàn)突破，這將使世界領(lǐng)先的芯片制造商得以提供下一代3D邏輯和存儲設(shè)備。

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PFA管用途之一：供酸系統(tǒng)（CDS）

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2022-11-24 標簽：cds 刻蝕 2189 0

改善刻蝕均勻性的技術(shù)

摘要一種形成介電間隔物的方法，包括提供襯底，文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁該襯底包括具有第一多個柵極結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域和具有第二多個柵極結(jié)構(gòu)的第二區(qū)...

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非晶碳層的刻蝕特性研究

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2022-06-13 標簽：半導(dǎo)體刻蝕 2016 0

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