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極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。