chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

企業(yè)號介紹

全部
  • 全部
  • 產(chǎn)品
  • 方案
  • 文章
  • 資料
  • 企業(yè)

芯矽科技

專業(yè)濕法設備的制造商,為用戶提供最專業(yè)的工藝解決方案

96內(nèi)容數(shù) 3.6w瀏覽量 0粉絲

動態(tài)

  • 發(fā)布了文章 2025-07-21 14:38

    硅清洗機配件有哪些

    硅清洗機的配件種類繁多,具體取決于清洗工藝類型(如濕法化學清洗、超聲清洗、等離子清洗等)和設備結構。以下是常見的配件分類及典型部件:一、核心功能配件清洗槽(Tank)材質:耐腐蝕材料(如PFA、PTFE、聚丙烯PP或不銹鋼316L)。類型:單槽、多槽串聯(lián)(如RCA清洗用SC-1/SC-2槽)、噴淋槽等。功能:容納清洗液(如DHF、BOE、SC溶液等),直接接
    336瀏覽量
  • 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-07-15 15:25

    QDR清洗設備 芯矽科技

    產(chǎn)品型號:qdrqxsb 非標定制:根據(jù)客戶需求定制
    116瀏覽量
  • 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-07-15 15:14

    臥式石英管舟清洗機 芯矽科技

    產(chǎn)品型號:wssygzqxj 非標定制:根據(jù)需求定制
    43瀏覽量
  • 發(fā)布了文章 2025-07-15 15:00

    晶圓蝕刻擴散工藝流程

    晶圓蝕刻與擴散是半導體制造中兩個關鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術要點的詳細介紹:一、晶圓蝕刻工藝流程1.蝕刻的目的圖形化轉移:將光刻膠圖案轉移到晶圓表面,形成所需的電路或結構(如金屬線、介質層、硅槽等)。材料去除:通過化學或物理方法選擇性去除暴露的薄膜或襯底。2.蝕刻分類干法蝕刻:依賴等離子體或離子束(如ICP、R
  • 發(fā)布了文章 2025-07-15 14:59

    晶圓蝕刻后的清洗方法有哪些

    晶圓蝕刻后的清洗是半導體制造中的關鍵步驟,旨在去除蝕刻殘留物(如光刻膠、蝕刻產(chǎn)物、污染物等),同時避免對晶圓表面或結構造成損傷。以下是常見的清洗方法及其原理:一、濕法清洗1.溶劑清洗目的:去除光刻膠、有機殘留物和部分蝕刻產(chǎn)物。常用溶劑:丙酮(Acetone):溶解正性光刻膠。醋酸乙酯(EthylAcetate):替代丙酮的環(huán)保溶劑。N-甲基吡咯烷酮(NMP)
  • 發(fā)布了文章 2025-07-14 13:15

    酸性溶液清洗劑的濃度是多少合適

    酸性溶液清洗劑的濃度選擇需綜合考慮清洗目標、材料特性及安全要求。下文將結合具體案例,分析濃度優(yōu)化與工藝設計的關鍵要點。酸性溶液清洗劑的合適濃度需根據(jù)具體應用場景、清洗對象及污染程度綜合確定,以下是典型范圍和參考:1.一般工業(yè)清洗(金屬除銹、氧化層)硫酸(H?SO?):5%~15%適用于去除鐵銹、氧化鋁等,濃度過高易導致金屬過腐蝕或氫脆。鹽酸(HCl):5%~
    801瀏覽量
  • 發(fā)布了文章 2025-07-14 13:11

    去離子水清洗的目的是什么

    去離子水清洗的核心目的在于有效去除物體表面的雜質、離子及污染物,同時避免普通水中的電解質對被清洗物的腐蝕與氧化,確保高精度工藝環(huán)境的純凈。這一過程不僅提升了產(chǎn)品質量,還為后續(xù)加工步驟奠定了良好基礎,是精密制造、半導體生產(chǎn)、醫(yī)藥研發(fā)等領域不可或缺的關鍵環(huán)節(jié),其重要性貫穿整個高質量生產(chǎn)流程。去離子水清洗主要有以下目的:1.去除雜質和污染物溶解并清除可溶性物質:去
    573瀏覽量
  • 發(fā)布了文章 2025-06-30 16:47

    槽式清洗和單片清洗最大的區(qū)別是什么

    槽式清洗與單片清洗是半導體、光伏、精密制造等領域中兩種主流的清洗工藝,其核心區(qū)別在于清洗對象、工藝模式和技術特點。以下是兩者的最大區(qū)別總結:1.清洗對象與規(guī)模槽式清洗:批量處理:一次性清洗多個工件(如半導體晶圓、光伏硅片、金屬零件等),通常以“槽”為單位裝載。適用場景:適合大批量生產(chǎn),尤其是對清潔度要求一致且工藝相同的產(chǎn)品(如集成電路封裝前的引腳清洗、汽車零
    815瀏覽量
  • 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-06-30 14:11

    硅片清洗機設備 徹底完成清洗任務

    產(chǎn)品型號:gpqxjsb 非標定制:根據(jù)客戶需求定制
    66瀏覽量
  • 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-06-30 13:58

    晶圓清洗臺通風櫥 穩(wěn)定可靠

    產(chǎn)品型號:jyqxttfc 非標清洗:根據(jù)客戶需求定制
    50瀏覽量

企業(yè)信息

認證信息: 專業(yè)半導體濕制程設備

聯(lián)系人:暫無

聯(lián)系方式:
該企業(yè)不支持查看

地址:暫無

公司介紹:暫無

查看詳情>