圍繞5nm制造工藝節(jié)點(diǎn)的活動(dòng)正在迅速發(fā)展，這讓我們對(duì)必須克服的、日益復(fù)雜的無(wú)數(shù)設(shè)計(jì)問(wèn)題有了更深的認(rèn)識(shí)。

28nm之后，每個(gè)新節(jié)點(diǎn)的進(jìn)展都需要設(shè)計(jì)方與代工廠之間日益緊密的合作，他們正在開(kāi)發(fā)新工藝和規(guī)則平臺(tái)；還需要與EDA和IP供應(yīng)商之間日益緊密的合作，他們正在添加工具、方法和預(yù)先開(kāi)發(fā)的功能來(lái)完成所有這些工作。但是，5nm工藝增加了一些新的變化，包括在更關(guān)鍵的層上加入EUV光刻，以及更多的物理效應(yīng)和電氣效應(yīng)，這些效應(yīng)可能影響信號(hào)完整性、產(chǎn)量，以及制造后的老化和可靠性等各方面。

Arm公司物理設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)的研究員Jean-Luc Pelloie表示：“對(duì)于邏輯而言，5nm的挑戰(zhàn)是妥善管理標(biāo)準(zhǔn)單元和電網(wǎng)之間的相互作用，不用考慮標(biāo)準(zhǔn)單元就能建立電網(wǎng)的日子已經(jīng)一去不復(fù)返了。標(biāo)準(zhǔn)單元的體系結(jié)構(gòu)必須與電網(wǎng)實(shí)現(xiàn)相適應(yīng)。因此，電網(wǎng)的選擇必須基于邏輯體系結(jié)構(gòu)?！?/p>

在5nm處，如果從一開(kāi)始就沒(méi)有正確地考慮這種相互作用，則幾乎不可能解決IR壓降和電遷移問(wèn)題。

Pelloie表示：“適當(dāng)?shù)碾娋W(wǎng)也會(huì)限制后端處理（BEOL）效應(yīng)的影響，主要原因是，當(dāng)我們繼續(xù)微縮到5nm時(shí)，通孔和金屬電阻會(huì)增加。除了考慮電網(wǎng)的邏輯架構(gòu)外，規(guī)則的、均勻分布的電網(wǎng)也有助于減小這種影響。對(duì)于使用功率門(mén)限技術(shù)（power gates）的設(shè)計(jì)，則需要更頻繁地插入這些門(mén)，以免降低性能。這會(huì)導(dǎo)致功能區(qū)塊面積的增加，并且可以減小從先前的制程節(jié)點(diǎn)微縮時(shí)的面積增益?！?/p>

向10/7nm以下的每個(gè)新節(jié)點(diǎn)的遷移變得更加困難、耗時(shí)和昂貴。除了物理問(wèn)題，還有方法上的變化，甚至是工程師需要做的假設(shè)也有變化。

ANSYS公司半導(dǎo)體業(yè)務(wù)部產(chǎn)品工程總監(jiān)Ankur Gupta表示：“你有了高性能的系統(tǒng)，又有了更精確的系統(tǒng)，所以你可以做更多的分析。但許多工程團(tuán)隊(duì)仍必須擺脫傳統(tǒng)的IR假設(shè)和Margin。他們?nèi)孕杌卮鹗欠衲苓m應(yīng)更多corner的問(wèn)題。如果他們能夠適應(yīng)更多corner，那么他們會(huì)選哪個(gè)corner？這是行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)。當(dāng)運(yùn)行EM / IR分析時(shí)，它是工程師選擇運(yùn)行的矢量的強(qiáng)大功能。如果我能制造出正確的矢量，那么我本該早就做到了，但這不可能。 ”

選擇正確的矢量并不總是顯而易見(jiàn)的。Gupta指出：“技術(shù)正在迅速發(fā)展，隨著電壓和時(shí)序的結(jié)合，可以智能地選擇或識(shí)別弱點(diǎn)。這不僅僅是從網(wǎng)格弱點(diǎn)的角度來(lái)看，而是從網(wǎng)格弱點(diǎn)加上對(duì)延遲的敏感性、對(duì)處理變化的敏感性、對(duì)同步開(kāi)關(guān)的敏感性（總之是對(duì)一系列最終會(huì)影響路徑并導(dǎo)致失效的因素的敏感性）的角度來(lái)看。”

Gupta表示：“這改變了整個(gè)設(shè)計(jì)方法。能不能減小Margin？能不能設(shè)計(jì)一種可以在整個(gè)過(guò)程中收斂的流程？我是否可能使用統(tǒng)計(jì)電壓而不是平坦的保護(hù)帶寬IR壓降前置（flat guard band IR drop upfront），然后潛在地轉(zhuǎn)向這些DVD波形——真正準(zhǔn)確的DVD波形——以及在signoff空間中獲得高精確度的路徑？我可以分析芯片、封裝和系統(tǒng)嗎？我可以進(jìn)行所有這些分析嗎，這樣我就不會(huì)浪費(fèi)來(lái)自封裝的5%的Margin？在7nm工藝中，我們討論的是接近閾值的計(jì)算，就像是NTC的某些corner，而不是整個(gè)芯片，因?yàn)槟憧梢詤⒖家苿?dòng)芯片，他們并不總是運(yùn)行sub-500。有一些條件和模式可以讓你運(yùn)行sub-500。但在5nm處，因?yàn)檎w熱度范圍和整體功耗預(yù)算，移動(dòng)設(shè)備可能會(huì)在sub-500毫伏的各個(gè)corner運(yùn)行?！?/p>

不僅僅是移動(dòng)芯片，同樣的道理也適用于網(wǎng)絡(luò)、 GPU和AI芯片，因?yàn)楹芏嘣O(shè)計(jì)都有相同的總功率限制。他們把許多晶體管封裝在一個(gè)很小的空間里，總功耗將決定最大工作電壓。Gupta表示：“如果升級(jí)，你就沒(méi)有足夠的電力，如果整個(gè)芯片現(xiàn)在開(kāi)始以600毫伏或更低的電壓運(yùn)行，那么在800毫伏處你就沒(méi)有足夠的功率。那么，你需要幾十個(gè)低于500毫伏的corner，這將成為你的整個(gè)設(shè)計(jì)，讓你陷入‘必須擁有這些（分析）技術(shù)’的境地。在7nm之后，我們還看到了早期spice模型在5nm處的變化影響更大?！?/p>

在這些技術(shù)問(wèn)題和設(shè)計(jì)問(wèn)題中，有很多在一些節(jié)點(diǎn)上變得越來(lái)越糟糕。

Cadence公司研發(fā)副總裁Mitch Lowe表示：“還存在更具挑戰(zhàn)性的引腳訪問(wèn)范例，更復(fù)雜的布局和布線約束，更密集的電網(wǎng)支持，庫(kù)架構(gòu)和PG網(wǎng)格之間更緊密的對(duì)齊，更多且更嚴(yán)格的電遷移考慮，更低的電源電壓角，更復(fù)雜的庫(kù)建模、提取建模中的其他物理細(xì)節(jié)，更多及更新的DRC規(guī)則。顯然，EUV光刻至關(guān)重要，這確實(shí)可以減少多模式的挑戰(zhàn)和影響，但并不能消除。盡管EUV簡(jiǎn)化了一些事情，但仍有一些新的挑戰(zhàn)正待處理?！?/p>

EDA社區(qū)已經(jīng)處理了這些問(wèn)題一段時(shí)間。Lowe說(shuō)：“這是見(jiàn)證先進(jìn)EDA解決方案出現(xiàn)的時(shí)代。我們還有很多工作要做，但很明顯5nm技術(shù)將成功部署?！?/p>

EDA生態(tài)系統(tǒng)在大力投資持續(xù)PPA優(yōu)化，加強(qiáng)多個(gè)常見(jiàn)引擎的緊密關(guān)聯(lián)。Lowe表示，其中一個(gè)例子是將IR壓降和靜態(tài)時(shí)序分析（STA）相結(jié)合，來(lái)管理使用5nm傳統(tǒng)Margin方法固有的日益增加的風(fēng)險(xiǎn)。

也可能需要進(jìn)行其它更改，Synopsys設(shè)計(jì)集團(tuán)營(yíng)銷(xiāo)經(jīng)理Mark Richards指出，5nm尚不成熟，各種代工廠處于開(kāi)發(fā)計(jì)劃和執(zhí)行的不同階段。

“除了在積極轉(zhuǎn)向在非常短的時(shí)間內(nèi)提供生產(chǎn)就緒flow的主要的代工廠商外，也在對(duì)晶體管的架構(gòu)進(jìn)行研究，因?yàn)槟撤N程度上finFET正在向5nm節(jié)點(diǎn)延伸到極限?！盧ichards說(shuō)，“正如代工廠自己報(bào)道的那樣，這就是頂級(jí)性能優(yōu)勢(shì)有所下降的原因。當(dāng)你為滿足面積縮小的目標(biāo)而減少鰭片時(shí)，需要增加鰭片的高度來(lái)彌補(bǔ)減小的驅(qū)動(dòng)器。從性能來(lái)看，這帶來(lái)了固有的電容問(wèn)題，充電和放電時(shí)這些電容是有問(wèn)題的。”

三星和格羅方德宣布計(jì)劃轉(zhuǎn)向3nm節(jié)點(diǎn)的納米片F(xiàn)ET（nanosheet FET），臺(tái)積電正在追求3nm節(jié)點(diǎn)的納米片F(xiàn)ET和納米線。所有這些都是全柵FET（gate-all-around FET），在5nm以下需要減少柵極漏電。之間還有許多節(jié)點(diǎn)和半節(jié)點(diǎn)（stepping-stone node），這些節(jié)點(diǎn)可以減少遷移至全新技術(shù)的影響。

圖1：全環(huán)柵極FET。資料來(lái)源：Synopsys

預(yù)計(jì)在5nm節(jié)點(diǎn)，電和熱寄生效應(yīng)將大幅增加，弗勞恩霍夫集成電路研究所IIS的高級(jí)物理驗(yàn)證博士Christoph Sohrmann表示， “首先，F(xiàn)inFET設(shè)計(jì)將承受更強(qiáng)的自熱，雖然這可以在技術(shù)方面進(jìn)行處理，但減小的間距是一個(gè)設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)，不能完全被靜態(tài)設(shè)計(jì)規(guī)則覆蓋。設(shè)計(jì)中增強(qiáng)的熱/電耦合將有效地增加到芯片的敏感部分（如高性能SerDes可能的峰值可能會(huì)有限制）。但這很大程度上取決于用例和隔離策略。選擇正確的隔離技術(shù)-如設(shè)計(jì)層面和技術(shù)-需要更準(zhǔn)確、更快速的設(shè)計(jì)工具，特別是非常先進(jìn)節(jié)點(diǎn)中的寄生效應(yīng)。

我們希望這些工具的新的物理效果，這距離量子尺度并不遠(yuǎn)。為了使物理層面正確，需要許多測(cè)試結(jié)構(gòu)來(lái)適應(yīng)這些新工具的模型。這是一個(gè)耗時(shí)且昂貴的挑戰(zhàn)。我們還希望減少啟發(fā)式模型，模型中有更多的真實(shí)物理方法。最重要的是，代工廠要對(duì)這些參數(shù)和模型非常謹(jǐn)慎，該領(lǐng)域未來(lái)的所有標(biāo)準(zhǔn)也要考慮這點(diǎn)?！?/p>

對(duì)于3nm和3nm以下的節(jié)點(diǎn)，必須轉(zhuǎn)向新的晶體管結(jié)構(gòu)，來(lái)繼續(xù)實(shí)現(xiàn)新節(jié)點(diǎn)所期望的性能優(yōu)勢(shì)，Richards說(shuō)，“隨著引入越來(lái)越多的半節(jié)點(diǎn)，你基本上在某種程度上從下一個(gè)節(jié)點(diǎn)借用，當(dāng)你拋出一個(gè)中間的節(jié)點(diǎn)（boutique nodes）時(shí)，可以從下一個(gè)節(jié)點(diǎn)借用預(yù)計(jì)的優(yōu)勢(shì)，這就是我們?cè)谥虚g一些專門(mén)的節(jié)點(diǎn)中所看到的，但鑒于最終客戶的需求，他們非常重要，它們確實(shí)使我們的客戶積極地進(jìn)行產(chǎn)品交付。

對(duì)于任何新的流程節(jié)點(diǎn)，EDA和IP社區(qū)都需要進(jìn)行巨大的投資，以確保工具、庫(kù)和IP與新的技術(shù)規(guī)范和功能保持一致，其中一部分是新節(jié)點(diǎn)下設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)必須遵守的新流程的流程設(shè)計(jì)工具包。

整個(gè)行業(yè)中，單元和IP開(kāi)發(fā)公司和團(tuán)隊(duì)正在進(jìn)行大量的開(kāi)發(fā)工作。 “實(shí)際上，最大的變化和開(kāi)發(fā)工作在0.5級(jí)PDK或之前實(shí)現(xiàn)，” Richards說(shuō)， “一般來(lái)說(shuō)，從0.5開(kāi)始，PDK與預(yù)期的變化相比會(huì)變小。通常一切都已完成。在尋找路徑之間，0.1和0.5之間，大部分都完成了，然后其余部分逐漸減少，因?yàn)榈侥菚r(shí)你已經(jīng)有很多客戶做測(cè)試芯片，所以減少了所需的變化量。除此之外，它實(shí)際上是關(guān)于構(gòu)建和成熟參考流程、構(gòu)建方法，并真正支持在0.5到1.0時(shí)間范圍內(nèi)的那些，以確保真正芯片要實(shí)現(xiàn)的面積和性能?！?/p>

圖2：5nm納米片。資料來(lái)源：IBM

遷移或不遷移

目前，許多半導(dǎo)體公司的另一個(gè)考慮因素不是遷移到下一個(gè)節(jié)點(diǎn)，或至少不是那么快地遷移到下個(gè)節(jié)點(diǎn)，或是否向完全不同的方向移動(dòng)。

“新架構(gòu)將被接受，”西門(mén)子業(yè)務(wù)公司Mentor的總裁兼首席執(zhí)行官Wally Rhines說(shuō)，“他們將要設(shè)計(jì)成功。他們將在許多或大多數(shù)情況下進(jìn)行機(jī)器學(xué)習(xí)，因?yàn)槟愕拇竽X有能力從經(jīng)驗(yàn)中學(xué)習(xí)。我訪問(wèn)了大約20多家使用自己的專用AI處理器的公司，他們每個(gè)人都有自己的觀察角度。但是你會(huì)越來(lái)越多地在特定應(yīng)用中看到它們，它們將補(bǔ)充傳統(tǒng)的馮·諾依曼架構(gòu)。神經(jīng)形態(tài)計(jì)算將成為主流，它是我們?nèi)绾卧谟?jì)算效率、降低成本、在移動(dòng)和連接環(huán)境中完成工作的一個(gè)重要方面，目前我們必須去大型服務(wù)器場(chǎng)解決?！?/p>

其他人應(yīng)該堅(jiān)持到底，至少目前如此。

“我們的許多客戶已經(jīng)從事5nm工作，”Richards說(shuō)，“他們?cè)噲D弄清楚這個(gè)節(jié)點(diǎn)轉(zhuǎn)變給他們帶來(lái)了什么，因?yàn)楹苊黠@，紙上的微縮優(yōu)勢(shì)與他們?cè)谡鎸?shí)設(shè)計(jì)中可以實(shí)現(xiàn)的微縮優(yōu)勢(shì)非常不同——他們的設(shè)計(jì)具有自己的特定挑戰(zhàn)——所以他們“試圖弄清楚什么是真正的微縮，真正的性能優(yōu)勢(shì)是什么，這很好處理，從產(chǎn)品的角度來(lái)看它是一種很好的使用方法，也是一個(gè)好的計(jì)劃?！?/p>

目前來(lái)看，先期采用5nm的將是移動(dòng)應(yīng)用。他說(shuō)， “臺(tái)積電自己引用了N7 20％的bump工藝，據(jù)我所知，這是7 ++的未知bump工藝。實(shí)際上，移動(dòng)是一個(gè)很好的應(yīng)用，其面積相對(duì)于N7為45％——實(shí)際上將提供一個(gè)很大的差異化。你將獲得同樣重要的功耗和性能優(yōu)勢(shì)，但隨著最新IP核的復(fù)雜性和面積不斷增長(zhǎng)，你需要擁有開(kāi)發(fā)差異化群集的自由，而且積極的面積縮減（ggressive area shrinks）將允許這樣做。

關(guān)鍵指標(biāo)始終是性能、功耗和面積，所有這些指標(biāo)之間的權(quán)衡變得越來(lái)越困難。提高性能會(huì)帶來(lái)動(dòng)態(tài)功率的后續(xù)增加，這使得IR降低更具挑戰(zhàn)性。這需要更多時(shí)間來(lái)調(diào)整電網(wǎng)，使設(shè)計(jì)可以提供足夠的功率，但不會(huì)在整個(gè)過(guò)程中破壞設(shè)計(jì)的可布線性。

“功率的關(guān)鍵在于如何將功率降低到標(biāo)準(zhǔn)單元（standard cells），” Richards說(shuō)， “你不能把單元放在一起，因?yàn)樗鼤?huì)破壞電網(wǎng)的資源。這意味著在電源及其影響的早期flow中工作。在SoC設(shè)計(jì)中，你可能會(huì)看到非常不同的電網(wǎng)，具體取決于SoC上每個(gè)模塊的性能要求，因模塊而異。它必須按塊進(jìn)行調(diào)整，這本身就具有挑戰(zhàn)性。在進(jìn)行這些折衷時(shí)，設(shè)計(jì)平臺(tái)的分析和sign-off能力變得越來(lái)越重要?！?/p>

Narrower margin

同時(shí)，閾值和工作電壓之間的Margin在5nm節(jié)點(diǎn)很小，因此必須進(jìn)行額外的分析。

臺(tái)積電和三星都提到極低的Vt電池，這對(duì)于真正推動(dòng)5nm的性能至關(guān)重要，其中閾值和工作電壓非常接近。

“當(dāng)你處于那個(gè)相位時(shí)需要建模和捕獲發(fā)生的非線性和奇怪的行為，以便盡可能地降低它，”他說(shuō)，“顯然，在7nm時(shí)需要LVF（自由變化格式），因?yàn)楫?dāng)工作電壓變得非常非常低并且非常接近閾值時(shí)，但現(xiàn)在即使你正在運(yùn)行你不會(huì)考慮通過(guò)有效的極低電壓Vt電池進(jìn)行極低功耗設(shè)計(jì)，你回到了同一個(gè)位置。你已經(jīng)再次縮小了這個(gè)差距，現(xiàn)在LVF和建模這些東西非常重要?！?/p>

電感，電磁效應(yīng)

事實(shí)上，隨著向7nm和5nm節(jié)點(diǎn)的轉(zhuǎn)變，趨勢(shì)很明顯：頻率增加，Margin更小，集成電路更密集，以及新設(shè)備和材料，Helic市場(chǎng)營(yíng)銷(xiāo)副總裁Magdy Ababir強(qiáng)調(diào)說(shuō)。

他在最近的設(shè)計(jì)自動(dòng)化大會(huì)上表示，一個(gè)小組討論并辯論了以下概念：在何時(shí)何地應(yīng)包括全電磁（EM）驗(yàn)證；忽視磁效應(yīng)是否會(huì)導(dǎo)致開(kāi)發(fā)過(guò)程中出現(xiàn)更多的硅故障；應(yīng)用最佳實(shí)踐以避免EM耦合和跳過(guò)繁瑣的EM驗(yàn)證部分的方法仍然是一種有效的做法；如果這種方法可擴(kuò)展到5nm集成電路及以下；如果由電感耦合和模擬困難引起的緊密矩陣是工業(yè)沒(méi)有廣泛采用全EM模擬的主要原因;；以及在工具開(kāi)發(fā)，教育和研究方面可以做些什么來(lái)降低工業(yè)采用全EM模擬的障礙。

“小組成員都強(qiáng)烈同意，完整的EM分析至少在任何尖端芯片的一些關(guān)鍵部分是基礎(chǔ)。來(lái)自Synopsys的專家小組成員認(rèn)為，芯片中的一些關(guān)鍵位置需要這些功能，如時(shí)鐘，寬數(shù)據(jù)總線和配電，但主流數(shù)字設(shè)計(jì)還沒(méi)涉及這些。英特爾小組成員認(rèn)為，對(duì)于當(dāng)前的芯片，應(yīng)用最佳實(shí)踐和使用完整的EM模擬跳過(guò)仍然有效，但是這種方法不會(huì)延續(xù)到未來(lái)。來(lái)自英偉達(dá)的專家小組成員簡(jiǎn)單地說(shuō)，EM模擬是他的高頻SERDES設(shè)計(jì)的必要條件，Helic的專家小組成員在此強(qiáng)烈同意，并展示了意外的EM耦合導(dǎo)致關(guān)鍵芯片故障的例子。主持人認(rèn)為磁效應(yīng)已經(jīng)證明存在，并且在集成電路中已經(jīng)有一段時(shí)間非常重要，但是將磁效應(yīng)包含在仿真中，以及操縱由感應(yīng)耦合產(chǎn)生的非常大且密集的矩陣是完整的EM驗(yàn)證還不是主流的主要原因。每個(gè)人都同意在最佳和潛在失敗的過(guò)度設(shè)計(jì)中不包括EM效應(yīng)，”Abadir提出。

最后，專家組一致認(rèn)為，需要改進(jìn)處理EM驗(yàn)證、更好地了解磁效應(yīng)的工具，并對(duì)如何防止EM故障或甚至采用受磁效應(yīng)影響的設(shè)計(jì)進(jìn)行重大研究。該小組還同意，當(dāng)前更高頻率、更密集電路和器件縮小的趨勢(shì)加上芯片故障的爆炸性損失，使包括完整的EM驗(yàn)證勢(shì)在必行，他補(bǔ)充道。

5nm的另一個(gè)挑戰(zhàn)是波形傳播的準(zhǔn)確性。從運(yùn)行時(shí)刻的角度來(lái)看，波形傳播是非常昂貴的，因此需要在整個(gè)設(shè)計(jì)流程中捕獲波形。否則，sign-off時(shí)的意外是設(shè)計(jì)太大而無(wú)法關(guān)閉。

解決這些問(wèn)題的典型方法是在設(shè)計(jì)中添加Margin。但是自finFET出現(xiàn)以來(lái)，Margin已成為一個(gè)越來(lái)越棘手的問(wèn)題，因?yàn)槌叽缣∫灾劣陬~外的電路會(huì)降低縮放的PPA優(yōu)勢(shì)。因此，設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)不僅是增加Margin，而是被迫更加密切地遵守代工模型和規(guī)則。

“代工廠確實(shí)提供了代表corner模型的器件模型，”eSilicon IP工程副總裁Deepak Sabharwal說(shuō)，“在過(guò)去，你被告知corner模型捕捉到了制造的極端情況，但現(xiàn)在已經(jīng)不是這樣了。今天，仍有corner模型，但也有全局和本地的變化模型。全局變化捕獲全局制造手段，例如當(dāng)在代工廠運(yùn)行多個(gè)批次時(shí)，每個(gè)批次將以某種方式表現(xiàn)并且作為我的全局變量的一部分被捕獲。局部變化模型表示我在die上時(shí)我的die有一些元素（when I’m on a die and my die has a Gig of elements）。然后我有我的分布的中間點(diǎn)，以及那個(gè)分布上的異常點(diǎn)?！?/p>

在5nm節(jié)點(diǎn)，必須考慮全局和局部的變化，因?yàn)樗鼈兪沁f增的。

“與此同時(shí)，這些分析都是以經(jīng)驗(yàn)為導(dǎo)向的，”Sabharwal說(shuō)，“你增加多少M(fèi)argin，還要確保你不要過(guò)度增加？如果你設(shè)計(jì)太多的sigma，你最終會(huì)失去競(jìng)爭(zhēng)力。這就是你必須要注意的，而這正是經(jīng)驗(yàn)的來(lái)源。你必須確保你有足夠的Margin讓你可以在晚上睡覺(jué)，但不要因?yàn)榉湃胩嗖槐匾念~外面積來(lái)殺死你的產(chǎn)品?！?/p>

與任何時(shí)候相比，5nm節(jié)點(diǎn)都帶來(lái)了一系列新的挑戰(zhàn)。 “當(dāng)你考慮到芯片上的數(shù)十億組件時(shí)，它解釋了為什么當(dāng)你從一代轉(zhuǎn)向另一代時(shí)，構(gòu)建這些芯片所需的團(tuán)隊(duì)規(guī)模在增加。所有這些挑戰(zhàn)都在等著我們，這些問(wèn)題將繼續(xù)存在，人們將提出解決問(wèn)題的技巧，并繼續(xù)照常工作。工程實(shí)際上是建造能夠始終可靠工作的東西的藝術(shù)，”Sabharwal說(shuō)。