PEBBLE BEACH，加利福尼亞州 - 芯片加工材料的收入從一歲開始變得急需研究分析師在本周的營(yíng)銷會(huì)議上表示，半導(dǎo)體回收和行業(yè)已經(jīng)轉(zhuǎn)向0.18微米的設(shè)計(jì)規(guī)則。

2000年晶圓廠材料支出將增長(zhǎng)9.4％至136億美元，而1999年為124億美元。 Rose J. Rose of Rose Associates在年度行業(yè)戰(zhàn)略研討會(huì)上，由半導(dǎo)體設(shè)備和材料國際（SEMI）貿(mào)易集團(tuán)贊助。他預(yù)測(cè)，空白硅片和光掩模的收入增長(zhǎng)將是今年最強(qiáng)勁的，分別為17.3％和13.4％。根據(jù)他的預(yù)測(cè)（見下表），最低的增長(zhǎng)率將是濕化學(xué)品（3％）和光刻膠材料（6％）。

1996年初期的低迷和當(dāng)年市場(chǎng)疲軟隨后，許多材料供應(yīng)商走軟，導(dǎo)致“大量收購”，羅斯在國際空間站的演講中表示。

硅材料公司現(xiàn)在看到三年內(nèi)晶圓價(jià)格首次上漲，他告訴此次會(huì)議。在IC制造商和供應(yīng)商之間的談判中，用于0.18微米工藝的200毫米直徑晶圓的價(jià)格上漲10-12％，他說（見1月12日?qǐng)?bào)道）。

Photomask的收入也在反彈據(jù)羅斯稱，在1998年“停頓”之后。他預(yù)測(cè)2000年光掩模的收入將達(dá)到25.67億美元，而1999年為22.64億美元?！靶碌?a target="_blank">電路設(shè)計(jì)在使用光學(xué)鄰近校正（OPC）技術(shù)處理復(fù)雜的相移掩模時(shí)會(huì)產(chǎn)生巨大的額外成本，”這位資深材料分析師表示。加利福尼亞州洛斯阿爾托斯市。

但羅斯還警告說，光刻膠供應(yīng)商仍然面臨著巨大的障礙，因?yàn)樗麄冊(cè)噲D為193納米光刻技術(shù)制造新的化學(xué)配方。 “我們相信光刻膠可能是未來五年材料食品鏈中的薄弱環(huán)節(jié)，因?yàn)镮C制造商依賴248納米和擴(kuò)展的193納米配方來滿足未來的需求，”他說。 “157納米配方的工作很少，即使它們計(jì)劃在五年內(nèi)完全投入生產(chǎn)?！?/p>

2000年光刻膠的支出將達(dá)到7.48億美元，增長(zhǎng)7％羅斯預(yù)測(cè)，從1999年的6.99億美元起。他說，光刻膠輔助設(shè)備將在2000年再增加4.89億美元的收入，比1999年的4.68億美元增長(zhǎng)4％。

濕化學(xué)品收入預(yù)計(jì)僅增長(zhǎng)3％至6.99億美元1999年的天然氣銷售額將達(dá)到6.8億美元，今年的天然氣銷售額將增長(zhǎng)8％，達(dá)到16.34億美元，去年為15.15億美元。

晶圓廠材料將用于資金 64.77億美元 $ 75.98億 <$ td> 3.35億美元