chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

佳能半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品即將開售, 可滿足高產(chǎn)能大型基板的封裝需求

牽手一起夢(mèng) ? 來源:環(huán)球網(wǎng)科技 ? 作者:佚名 ? 2020-06-29 14:58 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

6月23日消息,佳能1將在2020年7月上旬發(fā)售半導(dǎo)體光刻機(jī)的新產(chǎn)品——面向后道工序的i線2步進(jìn)式光刻機(jī)“FPA-8000iW”。該產(chǎn)品具備對(duì)應(yīng)尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。

該款新產(chǎn)品是佳能半導(dǎo)體光刻機(jī)產(chǎn)品線中,首個(gè)可對(duì)應(yīng)大型方形基板的面向后道工序的光刻機(jī)。該產(chǎn)品配備佳能自主研發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng),在實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)曝光的同時(shí),還能達(dá)到1.0微米的高解像力。因此,在使用可降低數(shù)據(jù)中心CPUGPU等能耗的有機(jī)基板的PLP4封裝工藝中,新產(chǎn)品將可以實(shí)現(xiàn)使用515×510mm大型方形基板進(jìn)行高效生產(chǎn)的用戶需求。由于該產(chǎn)品具有高解像力、大視場(chǎng)曝光性能以及高產(chǎn)能,因此在實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體封裝5的進(jìn)一步細(xì)微化和大型化的同時(shí),還可以降低成本。

■ 可滿足高產(chǎn)能大型基板的封裝需求

為了滿足使用方形基板進(jìn)行封裝工藝的需求,佳能開發(fā)了可以搬送515×510mm大型方形基板的新平臺(tái)。另外,針對(duì)在大型方形基板上容易發(fā)生的基板翹曲的問題,通過搭載新的搬送系統(tǒng),可在矯正10mm大翹曲的狀態(tài)下進(jìn)行曝光。因此,新產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)了高效生產(chǎn)大型半導(dǎo)體芯片的PLP工藝,可應(yīng)對(duì)要求高產(chǎn)能的用戶需求。

■ 實(shí)現(xiàn)1.0微米的解像力,對(duì)應(yīng)高端封裝

佳能自主研發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)52×68mm的大視場(chǎng)曝光,達(dá)到了方形基板封裝光刻機(jī)中高標(biāo)準(zhǔn)的1.0微米解像力。因此,實(shí)現(xiàn)了應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體芯片的高集成化、薄型化需求的PLP等高端封裝工藝,且可滿足各種用戶需求。

■ 什么是半導(dǎo)體光刻機(jī)的后道工序

在半導(dǎo)體器件的制造過程中,半導(dǎo)體光刻機(jī)起到“曝光”電路圖案的作用。通過一系列的曝光,在硅片上制造半導(dǎo)體芯片的過程稱為前道工序;保護(hù)精密的半導(dǎo)體芯片不受外部環(huán)境的影響,并在安裝時(shí)實(shí)現(xiàn)與外部電氣連接的封裝過程稱為后道工序。

■ 什么是PLP

PLP是Panel Level Packaging的縮寫,是指將多個(gè)半導(dǎo)體芯片排列在一個(gè)薄型方形大尺寸面板上并一次成型模制的封裝制造方法。與普通的300mm晶圓相比,可以一次性高效地將許多半導(dǎo)體芯片放置在晶圓上,從而實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能。

佳能半導(dǎo)體光刻機(jī)新產(chǎn)品即將開售, 可滿足高產(chǎn)能大型基板的封裝需求

半導(dǎo)體光刻機(jī)的市場(chǎng)動(dòng)向

隨著近幾年物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展,在半導(dǎo)體器件制造中,封裝基板變得越來越集成化,也越來越薄。例如,由于高性能CPU或FPGA連接到多個(gè)高速大容量存儲(chǔ)器,因此用于數(shù)據(jù)中心的高性能AI芯片的封裝,有集成化和大型化的發(fā)展趨勢(shì)。作為先進(jìn)的封裝技術(shù)之一,PLP不僅支持半導(dǎo)體器件的高度集成和薄型化,而且還通過大型基板的應(yīng)用實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)能,作為一種前景明朗的技術(shù)而備受關(guān)注。PLP通常用于制造追求高速處理的尖端半導(dǎo)體器件,例如AI芯片、HPC6等。(佳能調(diào)研)

1 為方便讀者理解,本文中佳能可指代:佳能(中國(guó))有限公司,佳能股份有限公司,佳能品牌等

2 使用了i線(水銀燈波長(zhǎng) 365nm)光源的半導(dǎo)體曝光裝置。1nm(納米)是10億分之1米。

3 1微米是100 萬分之 1米。(=1000 分之1mm)

4 Panel Level Packaging的縮寫。將多個(gè)半導(dǎo)體芯片排列在一個(gè)薄型方形大尺寸面板上并一次成型模制的封裝制造方法。

5 保護(hù)精密的半導(dǎo)體芯片不受外部環(huán)境的影響,并在安裝時(shí)實(shí)現(xiàn)與外部的電氣連接。

6 High-Performance Computing的縮寫。指使用計(jì)算機(jī)執(zhí)行計(jì)算量極大的處理。

責(zé)任編輯:gt

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    462

    文章

    53167

    瀏覽量

    453564
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    336

    文章

    29551

    瀏覽量

    251863
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    AI需求飆升!ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    7月16日,全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布,正式推出全球首款專為半導(dǎo)體后道工藝設(shè)計(jì)的無掩模光刻系統(tǒng)——DSP-100,這款設(shè)備為先進(jìn)封裝量身定制,可以容納600mm大
    的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?6426次閱讀
    AI<b class='flag-5'>需求</b>飆升!ASML新<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

    系列。該系列產(chǎn)品主要面向mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域,靈活適配硅片、藍(lán)寶石、SiC等不同襯底材料,滿足多樣化的膠厚
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?375次閱讀

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    %。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
    發(fā)表于 09-15 14:50

    今日看點(diǎn)丨佳能再開新光刻機(jī)工廠;中國(guó)移動(dòng)首款全自研光源芯片研發(fā)成功

    ? ? 時(shí)隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道,佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式
    發(fā)表于 08-05 10:23 ?2054次閱讀

    佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

    7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,
    的頭像 發(fā)表于 08-04 17:39 ?427次閱讀

    奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

    光刻機(jī)的成功搬入,意味著產(chǎn)線正式進(jìn)入設(shè)備安裝調(diào)試階段,距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標(biāo)指日待。這一目標(biāo)的實(shí)現(xiàn),將實(shí)現(xiàn)各類MEMS半導(dǎo)體傳感器
    的頭像 發(fā)表于 07-17 16:33 ?1236次閱讀
    奧松<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>入駐

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對(duì)電子束質(zhì)量的要求。 只有對(duì)聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇,以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的,使電子束分布在一條直線
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會(huì)

    【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?979次閱讀

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?747次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座如何安裝?

    半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 02-05 16:48 ?992次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>設(shè)備<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>防震基座如何安裝?

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?4971次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?3540次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    玻璃基板半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的“黑馬”選手

    近年來,隨著半導(dǎo)體行業(yè)的迅猛發(fā)展,對(duì)高性能、高密度的芯片封裝技術(shù)需求日益增長(zhǎng)。在這一背景下,玻璃基板作為一種新興的封裝材料,正逐漸嶄露頭角,
    的頭像 發(fā)表于 12-11 12:54 ?2372次閱讀
    玻璃<b class='flag-5'>基板</b>:<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>封裝</b>領(lǐng)域的“黑馬”選手

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?3751次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對(duì)精度要求極高,光刻機(jī)通過一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?6689次閱讀