chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

結型場效應晶體管工作原理

姚小熊27 ? 來源:網(wǎng)絡整理 ? 作者:網(wǎng)絡整理 ? 2020-08-07 17:15 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

結型場效應晶體管工作原理

結型場效應晶體管(Junction Field-Effect Transistor,JFET):JFET是由p-n結柵極(G)與源極(S)和漏極(D)構成的一種具有放大功能的三端有源器件。其工作原理就是通過電壓改變溝道的導電性來實現(xiàn)對輸出電流的控制。

對于結型場效應晶體管(JFET),最常見到的是耗盡型JFET(D-JFET),即在0柵偏壓時就存在有溝道 的JFET;一般,不使用增強型JFET(E-JFET)——在0柵偏壓時不存在溝道 的JFET。這主要是由于長溝道E-JFET在使用時較難以產生出導電的溝道、從而導通性能不好的緣故。不過,由于高速、低功耗電路中應用的需要,有時也需要采用E-JFET。

JFET導電的溝道在體內。耗盡型和增強型這兩種晶體管在工藝和結構上的差別主要在于其溝道區(qū)的摻雜濃度和厚度。D-JFET的溝道的摻雜濃度較高、厚度較大,以致于柵pn結的內建電壓不能把溝道完全耗盡;而E-JFET的溝道的摻雜濃度較低、厚度較小,則柵pn結的內建電壓即可把溝道完全耗盡。

但是,對于短溝道E-JFET,情況則有所不同,因為這種晶體管的漏極電壓可以作用到源極附近,使得溝道中的勢壘降低,所以能夠形成導電溝道。這種E-JFET從本質上來說也就是靜電感應晶體管。

在導電機理上與JFET相同的場效應晶體管就是Schottky柵極場效應晶體管(MESFET),這里只是用金屬-半導體接觸的Schottky結代替了p-n結作為柵極。

另外還有一種場效應晶體管,就是高電子遷移率晶體管(HEMT),這種器件在結構上與MESFET類似,但是在工作機理上卻更接近于MOSFET

此外,MOSFET的襯偏效應實際上也就是JFET的一種作用。

結型場效應晶體管工作特性

對于耗盡型的JFET,在平衡時(不加電壓)時,溝道電阻最??;電壓Vds和Vgs都可改變柵p-n結勢壘的寬度,并因此改變溝道的長度和厚度(柵極電壓使溝道厚度均勻變化,源漏電壓使溝道厚度不均勻變化),使溝道電阻變化,從而導致Ids變化,以實現(xiàn)對輸入信號的放大。

當Vds較低時,JFET的溝道呈現(xiàn)為電阻特性,是所謂電阻工作區(qū),這時漏極電流基本上隨著電壓Vds的增大而線性上升,但漏極電流隨著柵極電壓Vgs的增大而平方式增大;進一步增大Vds時,溝道即首先在漏極一端被夾斷,則漏極電流達到最大而飽和(飽和電流搜大小決定于沒有被夾斷的溝道的電阻),這就是JFET的飽和放大區(qū),這時JFET呈現(xiàn)為一個恒流源。

JFET的放大作用可用所謂跨導gm = δIds / δVgsS ](Vds =常數(shù)) 來表示,要求跨導越大越好。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • JFET
    +關注

    關注

    3

    文章

    191

    瀏覽量

    23294
  • 場效應晶體管

    關注

    6

    文章

    401

    瀏覽量

    20348
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    場效應晶體管器件的發(fā)展歷程

    2010年,愛爾蘭 Tyndall 國家研究所的J.P.Colinge 等人成功研制了三柵無場效應晶體管,器件結構如圖1.15所示。從此,半導體界興起了一股研究無場效應晶體管的熱潮
    的頭像 發(fā)表于 05-19 16:08 ?632次閱讀
    無<b class='flag-5'>結</b><b class='flag-5'>場效應晶體管</b>器件的發(fā)展歷程

    場效應晶體管詳解

    當代所有的集成電路芯片都是由PN或肖特基勢壘所構成:雙極晶體管(BJT)包含兩個背靠背的PN
    的頭像 發(fā)表于 05-16 17:32 ?949次閱讀
    無<b class='flag-5'>結</b><b class='flag-5'>場效應晶體管</b>詳解

    場效應晶體管的結構解析

    場效應晶體管(Junction Field-Effect Transistor, JFET)是在同一塊 N半導體上制作兩個高摻雜的P區(qū),并將它們連接在一起,所引出的電極稱為柵極(
    的頭像 發(fā)表于 05-14 17:19 ?2037次閱讀
    <b class='flag-5'>結</b><b class='flag-5'>型</b><b class='flag-5'>場效應晶體管</b>的結構解析

    LT8822SS共漏N溝道增強場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT8822SS共漏N溝道增強場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-26 16:00 ?1次下載

    LT8814EFF具有ESD保護的雙N溝道增強場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT8814EFF具有ESD保護的雙N溝道增強場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-25 17:28 ?0次下載

    TC1201低噪聲和中功率GaAs場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《TC1201低噪聲和中功率GaAs場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-17 17:15 ?0次下載

    LT1541SIJ P溝道增強場效應晶體管數(shù)據(jù)表

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT1541SIJ P溝道增強場效應晶體管數(shù)據(jù)表.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-07 11:33 ?1次下載

    LT1756SJ N溝道增強場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT1756SJ N溝道增強場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-05 17:29 ?0次下載

    LT1729SI P溝道增強場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT1729SI P溝道增強場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-04 18:05 ?0次下載

    LT1728SJ P溝道增強場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT1728SJ P溝道增強場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-04 18:02 ?0次下載

    LT1725SI P溝道增強場效應晶體管規(guī)格書

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《LT1725SI P溝道增強場效應晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 03-04 16:32 ?0次下載

    鰭式場效應晶體管制造工藝流程

    FinFET(鰭式場效應晶體管)從平面晶體管到FinFET的演變是一種先進的晶體管架構,旨在提高集成電路的性能和效率。它通過將傳統(tǒng)的平面晶體管轉換為三維結構來減少短溝道
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:15 ?2192次閱讀
    鰭式<b class='flag-5'>場效應晶體管</b>制造工藝流程

    Nexperia共源共柵氮化鎵(GaN)場效應晶體管的高級SPICE模型

    電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《Nexperia共源共柵氮化鎵(GaN)場效應晶體管的高級SPICE模型.pdf》資料免費下載
    發(fā)表于 02-13 15:23 ?7次下載
    Nexperia共源共柵氮化鎵(GaN)<b class='flag-5'>場效應晶體管</b>的高級SPICE模型

    互補場效應晶體管的結構和作用

    隨著半導體技術不斷逼近物理極限,傳統(tǒng)的平面晶體管(Planar FET)、鰭式場效應晶體管(FinFET)從平面晶體管到FinFET的演變,乃至全環(huán)繞柵或圍柵(GAA
    的頭像 發(fā)表于 01-24 10:03 ?4196次閱讀
    互補<b class='flag-5'>場效應晶體管</b>的結構和作用

    一文解析現(xiàn)代場效應晶體管(FET)的發(fā)明先驅

    朱利葉斯·埃德加·利利恩菲爾德在1925年申請的專利為場效應晶體管奠定了理論基礎。 雖然第一個工作場效應晶體管(FET)直到1945年才出現(xiàn),但這個想法早在近20年前,即朱利葉斯·埃德加·利利恩
    的頭像 發(fā)表于 01-23 09:42 ?1294次閱讀
    一文解析現(xiàn)代<b class='flag-5'>場效應晶體管</b>(FET)的發(fā)明先驅