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美國(guó)技術(shù)封鎖或?qū)⒅浦腥蘸献鏖_(kāi)發(fā)光刻機(jī)

如意 ? 來(lái)源:OFweek電子工程網(wǎng) ? 作者:科技圈里的那些事 ? 2020-10-19 10:59 ? 次閱讀
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近日,日經(jīng)報(bào)道稱美國(guó)的技術(shù)封鎖可能會(huì)助推中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展,中日有望合作開(kāi)發(fā)光刻機(jī)。

報(bào)道稱,以美國(guó)限制華為、中芯國(guó)際的供應(yīng)鏈為例,盡管有美國(guó)政府的出口限制,但中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍可迂回以對(duì)。

中國(guó)有1000多家新興的半導(dǎo)體相關(guān)公司,如果華為和中芯國(guó)際從這些公司購(gòu)買進(jìn)口的半導(dǎo)體芯片、設(shè)計(jì)軟件以及生產(chǎn)設(shè)備,實(shí)際上就可以進(jìn)行半導(dǎo)體采購(gòu)并擴(kuò)充制造設(shè)備。

目前,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)技術(shù)被荷蘭ASML公司牢牢掌握在手中,而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)都由美國(guó)把持。日經(jīng)表示,中國(guó)企業(yè)或?qū)⑾騼杉胰毡竟咎峁┵Y金,以共同開(kāi)發(fā)除EUV以外的新型光刻機(jī)。
責(zé)編AJX

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    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

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    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

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    用來(lái)提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

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    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

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    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?6332次閱讀
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    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1905次閱讀
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