10月14日，ASML發(fā)布了2020年第三季度財報：第三季度凈銷售額為40億歐元，凈利潤為11億歐元，毛利率達到47.5%。第三季度的新增訂單金額為29億歐元。

對于目前的業(yè)績，ASML總裁兼首席執(zhí)行官 Peter Wennink 表示：“我們第三季度的銷售額達到 40 億歐元， 超過我們的預期。毛利率維持在 47.5%。我們一共交付了 10 臺 EUV 系統(tǒng)，并在本季度實現(xiàn)了 14 臺系統(tǒng)的銷售收入。在過去的第三季度中，我們的業(yè)務沒有因為疫情受到大規(guī)模的負面影響。我們第三季度的新增訂單達到 29 億歐元，其中 5.95 億歐元來自 4 臺 EUV 設備。” 從這個說明我們可以看到，ASML EUV光刻機的售價約為1.48億歐元，折合人民幣11.74億元。

ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務情況。

Roger Dassen指出，在中國業(yè)務方面，去年中國本土客戶為ASML創(chuàng)造了約8億歐元的銷售額，今年將會更多，預計超過10億歐元。 關(guān)于美國有可能對中芯國際采取限制措施，Roger Dassen表示，ASML今年客戶以邏輯工藝領(lǐng)域為主，中芯國際則是ASML的主要邏輯工藝領(lǐng)域客戶。 “我們不會對特定的客戶情況進行推測或評論，但總的來說，我們會在法律和法規(guī)要求的范圍內(nèi)盡最大的能力繼續(xù)為客戶提供服務?！盧oger Dassen如是說。 Roger Dassen進一步指出，ASML了解美國當局目前的規(guī)章制度及其解釋，當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關(guān)，但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義（對于特定的中國客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運往此類客戶的零件或系統(tǒng)，ASML則需要為此申請出口許可證。 據(jù)Peter Wennink介紹，DUV光刻機方面，該公司在本季度對第一臺TWINSCAN NXT：2050i進行了質(zhì)量認證，并于第四季度初發(fā)貨。NXT：2050i是基于NXT平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進。由于這些創(chuàng)新，該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產(chǎn)率，NXT：2050i 將立即進入批量生產(chǎn)。

EUV光刻機方面，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B 系統(tǒng)在客戶處同時進行了生產(chǎn)率模組的升級，在三季度完成。ASML還披露他們?nèi)碌臉O紫外光刻機將在明年年中開始出貨的，型號為TWINSCAN NXE:3600D。

TWINSCAN NXE:3400B 在財報中，阿斯麥表示他們已經(jīng)敲定了TWINSCAN NXE:3600D的最終規(guī)格，這是 EUV 路線圖上的新機型，具體來說，30mJ/c㎡的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進機器匹配套準精度至1.1nm，計劃于2021年中期開始發(fā)貨，客戶還需要一定時間等待，價格應該不會低于現(xiàn)款老型號的1.2億美元。 值得注意的是，在2019年的年報中，阿斯麥就曾披露他們在研發(fā)新一代的極紫外光刻機，但當時他們是計劃在2022年年初開始出貨，2024或者2025年大規(guī)模生產(chǎn)。三季度財報中披露在明年年中開始出貨，也就意味著出貨時間較原計劃提前了半年。 極紫外光刻機是7nm和5nm芯片制程工藝所必不可少的設備，目前全球只有阿斯麥能供應。臺積電、三星這兩大芯片代工商的制程工藝都已提升到了7nm和5nm，他們所需要的極紫外光刻機也全部仰仗于阿斯麥，全新的TWINSCAN NXE:3600D的首臺，預計也會交由這兩家代工商中的一家。 三星正試圖通過EUV技術(shù)來增強其芯片制造能力。自2000年以來，三星一直與ASML合作，以提高其在半導體制造領(lǐng)域的競爭力。2012年，韓國科技巨頭甚至對ASML進行了戰(zhàn)略投資。三星在韓國平澤市建設一條新的生產(chǎn)線，該生產(chǎn)線專注于基于EUV的5納米及以下工藝技術(shù)。

據(jù)韓聯(lián)社報道，日前，三星電子副董事長李在镕（Lee Jae-yong）與ASML Holding NV的高管會面，李與ASML高管討論了超紫外線（EUV）設備的供應計劃，他還參觀了ASML的工廠，以檢查其EUV設備的生產(chǎn)。 目前，ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數(shù)方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/c㎡，每小時可曝光125片晶圓。

TWINSCAN NXE:3400C 據(jù)悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺光刻機收入，出貨了10臺EUV光刻機。

對于第四季度的市場和銷售預期，Peter Wennink 表示：“我們期待第四季度的銷售額將在36億歐元到38億歐元之間，毛利率約在 50%。研發(fā)成本約 5.5 億歐元，銷售及管理費用約 1.4 億歐元。我們將實現(xiàn) 2020 年全年的銷售預期。預估 2020 年度有效稅率在 14%左右。“ 展望2021年，Peter Wennink認為，5G，人工智能和高性能計算將推動先進制程邏輯芯片和存儲芯片的市場需求，這些都需要使用先進的光刻機。
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