臺(tái)積電和三星均已投入5nm工藝的量產(chǎn)，前者代工的產(chǎn)品包括蘋(píng)果A14、M1、華為麒麟9000等，后者則包括Exynos 1080以及傳言中的驍龍875等。

其實(shí)從7nm開(kāi)始，臺(tái)積電和三星就開(kāi)始引入EUV光刻，但過(guò)程層數(shù)較少。按照ASML（阿斯麥）的說(shuō)法，迭代到5nm后，EUV的層數(shù)達(dá)到了14層，包括但不限于觸點(diǎn)、過(guò)孔以及關(guān)鍵金屬層等過(guò)程。未來(lái)的3nm、2nm，對(duì)EUV的依賴將更甚。

作為目前唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的荷蘭ASML來(lái)說(shuō)，自然成了臺(tái)積電和三星爭(zhēng)搶的香餑餑，即便單臺(tái)價(jià)格達(dá)到了1.2億歐元（約合9.4億元人民幣）。

來(lái)自Digitimes的最新報(bào)道稱，臺(tái)積電為明年生產(chǎn)，已經(jīng)向ASML下定了至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)。簡(jiǎn)單估算的話，花費(fèi)的金額超120億元人民幣。

需要明白的是，EUV光刻機(jī)不是有錢(qián)就能買(mǎi)，因?yàn)锳SML每年的產(chǎn)能非常有限，2019年全年才出貨了26臺(tái)，今年上半年出貨了13臺(tái)，截至三季度結(jié)束累計(jì)才出貨23臺(tái)。

另外，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻機(jī)TWINSCAN NXE:3600D，生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm，不出意外的話，臺(tái)積電應(yīng)該是首批客戶。
責(zé)編AJX