中芯國際發(fā)布公告，公司同阿斯麥上海在今年2月1日簽訂經(jīng)修訂和重述的ASML批量采購協(xié)議。

據(jù)悉，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)，訂單總代價為12.16億美元。

荷蘭ASML兌現(xiàn)承諾

此次協(xié)議的達成，表示ASML兌現(xiàn)了此前許下的承諾。

2020年，ASML曾多次向中國客戶示好，顯現(xiàn)出希望加大雙方合作的意向。

2020年10月份，ASML首席財務(wù)官羅杰·達森回答“向中國出口光刻機”問題時表示，ASML可從荷蘭直接向中國出口DUV光刻機，而不受美國的限制。

在2020年11月舉行的中國進口博覽會上，ASML也在參展行列，并展示了DUV光刻機。

ASML中國區(qū)總裁沈波表示，公司對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度，對全球客戶一視同仁。

ASML的種種言行都透露出，ASML想同中國企業(yè)加大合作的愿望。而在如今，ASML也兌現(xiàn)了承諾，將DUV光刻機賣給中芯國際。

DUV光刻機與EUV光刻機

不過，對于更高端的EUV光刻機，ASML卻始終沒有松口。

DUV光刻機與EUV光刻機在光源、光路系統(tǒng)等方面有所差距，造成了二者在分辨率上的不同。

DUV光刻機采用了準分子激光作為光源，為193nm波長的光源。

而EUV光刻機則利用激光激發(fā)等離子發(fā)射EUV光子，原理更為復(fù)雜，獲取條件也更苛刻。不過，EUV光刻機的波長也更短，僅為13.5nm。

在光路系統(tǒng)方面，DUV光刻機主要利用的光的折射、透鏡與晶圓之間使用不同介質(zhì)可改變光刻性能的特點。

而EUV光刻機則利用了光的反射原理，且對環(huán)境的要求更為嚴格，需要真空操作。

盡管EUV光刻機各方面都更為復(fù)雜，但卻能帶來更高的分辨率。想要攻克5nm、3nm，離不開EUV光刻機的幫助。

因而，為搶占更多的市場，三星、臺積電都在爭搶更多的EUV光刻機。

雖然ASML本次出售給中芯國際的并非EUV光刻機，令人有些失望。但在DUV光刻機的實力也不同小覷，足以生產(chǎn)出7nm芯片。

國產(chǎn)7nm不再遙遠

在ASML DUV光刻機的助力下，中芯國際離7nm更近了一步。

據(jù)悉，在今年4月份，中芯國際7nm將進入風(fēng)險量產(chǎn)階段。一旦成功，中國芯片自給率無疑將再前進一步。

同時，更多DUV光刻機也將助力中芯國際進一步擴產(chǎn)。在全球缺芯危機蔓延的情況下，中芯國際將成為危機的受益者。
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