刻蝕機能替代光刻機嗎
刻蝕機不能代替光刻機。光刻機的精度和難度的要求都比刻蝕機高出很多，在需要光刻機加工的時候刻蝕機有些不能辦到，并且刻蝕機的精度十分籠統(tǒng)，而光刻機對精度的要求十分細致，所以刻蝕機不能代替光刻機。
刻蝕機和光刻機無論是從工藝、流程、設(shè)備性能、精度等方面都有很大的區(qū)別，主要區(qū)別如下：
光刻機的難度大于刻蝕機，光刻機是把圖案印上去，而刻蝕機是根據(jù)打印的圖案去掉有無圖案的部分，將剩下的留下。
審核編輯：姚遠
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1198瀏覽量
48820 -
刻蝕機
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
58瀏覽量
4857
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
集成電路芯片制備中的光刻和刻蝕技術(shù)
光刻與刻蝕是納米級圖形轉(zhuǎn)移的兩大核心工藝，其分辨率、精度與一致性共同決定器件性能與良率上限。
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
如何確定12英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等不同設(shè)備所需的防震基座類型和數(shù)量？-江蘇泊蘇系統(tǒng)集
確定 12 英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關(guān)鍵考量如下：
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進光刻機交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進光刻機成功交付，并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2110次閱讀
佳能9月啟用新光刻機工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
芯明天壓電納米技術(shù)如何幫助刻蝕機打造精度天花板
在半導(dǎo)體制造流程中，每一塊納米級芯片的誕生，背后都是一場在原子層面展開的極致精密較量。而在這場微觀世界的“精密之戰(zhàn)”中，刻蝕機堪稱光刻機的最佳搭檔，二者協(xié)同發(fā)力，推動著芯片制造的精密進程。它們的性能
金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕，影響器件性能。同時，光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像建造摩天大樓
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座如何安裝？
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
工商網(wǎng)監(jiān)
評論