三星斥資買新一代光刻機(jī) 中芯光刻機(jī)最新消息
據(jù)韓國媒體報(bào)道稱，三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
High-NA EUV光刻機(jī)精密度更高、設(shè)計(jì)零件更多，是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵，據(jù)悉，三星電子已獲得ASML今年EUV光刻機(jī)產(chǎn)能中的18臺。這意味三星僅在EUV光刻機(jī)上就將投資超過4兆韓元。
光刻機(jī)依然來自ASML，全球只有ASML可以量產(chǎn)，其它公司暫時(shí)還沒有能力研發(fā)出光刻機(jī)。
據(jù)外媒報(bào)道，半導(dǎo)體巨頭ASML的下一代光刻機(jī)將在2023年上半年產(chǎn)出第一臺樣機(jī)，并且有5份試驗(yàn)機(jī)訂單將在2024年交貨，臺積電、英特爾、三星這些頂級芯片廠商，預(yù)計(jì)將在2025年開始使用最新一代光刻機(jī)的量產(chǎn)機(jī)。
有網(wǎng)友推測，中芯國際買EUV光刻機(jī)至少還要再等3年。如果3年后針對EUV光刻機(jī)的出貨限制被解除，中芯國際或能買到EUV光刻機(jī)。
文章綜合快科技、雪花、良言科技、科技強(qiáng)哥說
編輯：黃飛
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
中芯國際
+關(guān)注
關(guān)注
27文章
1448瀏覽量
67811 -
三星電子
+關(guān)注
關(guān)注
34文章
15894瀏覽量
182968 -
摩爾定律
+關(guān)注
關(guān)注
4文章
640瀏覽量
80735 -
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1198瀏覽量
48820
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光
光刻機(jī)的“精度錨點(diǎn)”：石英壓力傳感器如何守護(hù)納米級工藝
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式
今日看點(diǎn)丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世；智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?2983次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機(jī)交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ?
發(fā)表于 08-13 09:41
?2114次閱讀
光刻機(jī)實(shí)例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備
光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇，以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會
【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對
不只依賴光刻機(jī)！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一
什么是光刻機(jī)的套刻精度
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座如何安裝？
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行，因此選擇的搬運(yùn)工具如
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻
工商網(wǎng)監(jiān)
評論