前言

濕法制程工藝即制造過程中需要使用化學藥液的工藝，被廣泛使用于集成電路、平板顯示、太陽能光伏等領域的制造過程中。以集成電路領域為例，晶圓制造過程中，去膠、顯影、刻蝕、清洗都屬于濕法制程是，都離不開濕電子化學品的使用。

隨著我國各行業(yè)對芯片需求的日益增長，這類型儀器購買量日益增加。然而市場上濕法制程相關設備基本以非標定制為主，設備體型大，交付時間長、造價高昂，往往忽略了實驗室對場地、成本控制的要求。

華林科納濕電子化學品工作站解決方案

作為在泛半導體濕法制程領域深耕二十年的華林科納，在濕法設備的設計與生產(chǎn)中積累了豐富的經(jīng)驗，為實驗室用戶精心打造的濕電子化學品工作站，以標準模塊化設計，滿足實驗室在處理濕電子化學品過程中的需求。提供包括勻膠、去膠、顯影、酸洗、堿洗、QDR清洗、超聲波清洗、干燥等功能。特有的智能排風及FFU凈化系統(tǒng)，保障了實驗人員的安全和實驗結(jié)果的準確。濕電子化學品工作站標準化生產(chǎn)，造價低、組合靈活，可以滿足集成電路、光伏、液晶顯示等眾多行業(yè)及各類研究機構(gòu)和大學院校的實驗需求，努力為濕法制程研究保駕護航！