近日，華中科技大學(xué)劉世元教授團(tuán)隊成功打破國外壟斷，成功研發(fā)中國首款完全自主可控的OPC芯片光刻軟件。

沒有它，即使有***，也沒有辦法保證高良率、大批量、低成本的制造芯片！

目前，全球OPC工具軟件市場被ASML-Brion、Synopsys、Mentor等三家美國公司壟斷。

***系統(tǒng)巨頭ASML

“從基礎(chǔ)研究到產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，我們團(tuán)隊整整走了十年。十年磨一劍，就是要解決芯片從設(shè)計到制造整個環(huán)節(jié)被國外卡脖子的問題！”劉世元接受湖北衛(wèi)視采訪時表示。

劉世元動情地表示,“希望自己的研究成果能夠快速應(yīng)用到實際生產(chǎn)中，轉(zhuǎn)化成產(chǎn)品，為中國芯片制造做出貢獻(xiàn)。今后，他還將帶領(lǐng)團(tuán)隊和由他所創(chuàng)辦的宇微光學(xué)軟件有限公司加快產(chǎn)品推廣步伐，加快進(jìn)入國內(nèi)外芯片制造市場，力爭在全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈中占有一席之地！”

武漢宇微光學(xué)軟件有限公司

OPC芯片光刻軟件，即光學(xué)鄰近校正（Optical Proximity Correction）軟件，是用于增強(qiáng)芯片光刻效果的一種軟件。目的是為了保證芯片光刻過程中圖形的邊緣得到完整的刻蝕。

光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，但是由于光學(xué)鄰近效應(yīng)的存在，原始版圖通過光線照射到硅片表面成像時，會發(fā)生一定的失真，如出現(xiàn)線寬不均、線端縮短、邊角圓化等光學(xué)鄰近效 應(yīng)，因此需要采用一些技術(shù)手段校正。通常是通過改變硅片表面的曝光強(qiáng)度，最終使得曝光 后硅片上輪廓與期望得到的目標(biāo)輪廓相似。

光學(xué)鄰近效應(yīng)

計算光刻流程

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華中科技大學(xué)（Huazhong University of Science and Technology），簡稱華科大 ，位于湖北省武漢市，是中華人民共和國教育部直屬的綜合性研究型全國重點大學(xué)、國家“雙一流”“985工程”“211工程”、“強(qiáng)基計劃”“111計劃”等計劃成員。

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劉世元教授簡介

劉世元教授

劉世元（Liu Shiyuan，Professor），機(jī)械科學(xué)與工程學(xué)院、光學(xué)與電子信息學(xué)院雙聘教授，華中科技大學(xué)集成電路測量裝備研究中心主任，同時也是光谷實驗室集成電路測量檢測技術(shù)創(chuàng)新中心主任。他早年師從著名機(jī)械學(xué)家楊叔子院士，于1998年獲工學(xué)博士學(xué)位。

主要從事納米光學(xué)測量技術(shù)與儀器、集成電路IC制造在線測量技術(shù)與裝備、光刻成像理論與計算光刻、新型橢偏儀研制與光電材料表征測量等方面的研究工作，致力于光學(xué)工程、精密機(jī)械、儀器科學(xué)、集成電路、光電材料等學(xué)科的交叉融合，強(qiáng)調(diào)基礎(chǔ)研究與產(chǎn)業(yè)應(yīng)用并重。

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