OCV全稱是on chip variation，指的是在同一片wafer上，因為片上工藝的誤差，導致不同位置的chip性能不一樣。另外對于同一塊chip，不同位置上的同一類cell的性能也會有差異。

這些差異所影響最大的就是timing相關的東西，delay、transition什么的都會有所影響。為此我們引入OCV的概念，用來在設計階段模擬這些片上誤差。

舉一個具體的例子讓大家更好理解OCV的概念，比如一個cell的lib中的延時是10ns，同樣的電路，同樣的input和output，這顆cell做出來的實際延時可能是9.9ns，也可能是10.1ns，一般不會剛剛好就是某一個確定的數(shù)值，而是會在10ns左右浮動。

注意這個浮動并不是PVT影響的，純粹是片上工藝偏差所帶來的，就是說在同一個corner下，因為有OCV，一個cell的delay就不是固定的值。

這對我們timing的分析至關重要，如果不考慮OCV的影響，所分析出來的timing結果會過于樂觀。而我們一般signoff的時候都希望芯片在最悲觀的時候還可以正常工作才行。

為此，最傳統(tǒng)、樸素的想法就是給chip中的所有cell加上一個derate值，所有的delay都根據(jù)這個derate值來縮放。什么意思呢，比如說在算setup檢查的時候，launch path要delay最大，capture path要delay最小，我們就放大launch path上所有cell的delay值，減小capture path上所有cell的delay值。也就是說假設derate設為0.1，那么launch path和data path所有cell的delay要在原來lib的基礎上乘1.1，capture path上的cell要乘0.9。

這樣做出來的setup檢查才足夠悲觀，如果要是hold檢查則加的derate正相反。一般來說，我們會分別定義setup和hold檢查所用的derate值，而其中的early derate和late derate也會分別定義，并且對于每一種情況，clock path上的derate和data path上的derate也會分別定義。

具體的值是怎么來的我不知道，可能是經驗，也可能是經過復雜的模擬得出的。

好了，到這里已經介紹完了OCV的基本內容了，其中蘊含的基本思想已經介紹完畢。但這是遠遠不夠的，因為現(xiàn)在用的OCV已經不再是傳統(tǒng)的直接加上一個derate那么簡單了，隨著工藝的進步，人們后來又用了AOCV，目前又是主流POCV/SOCV。我這里就快速簡要介紹一下這兩種模式。

AOCV是advanced OCV，在傳統(tǒng)OCV的基礎上加入了cell級數(shù)和距離的考量，認為一個cell級數(shù)越深，和前一級cell距離越大，derate相應越大，反之derate越小。等于說AOCV模式會根據(jù)具體的design來動態(tài)調整derate值。

而POCV是認為所有的delay都是一個正態(tài)分布，我們算path的delay時是用delay的分布來加加減減，最終得出的整條path delay也對應一個分布，在最悲觀的情況下，如果需要取最大delay就用這個分布偏大的某個點，一般是mean值加3倍sigma；最小delay就是mean值減3倍sigma。

而現(xiàn)在，最新的技術已經不再用標準的高斯分布來模擬了，會再在原高斯分布的基礎上加一定偏移量，得出一個不對稱的分布來模擬delay。