歐洲啟動1nm及光芯片試驗線
近日，歐洲五大頂尖研究機構(gòu)——比利時imec、法國CEA-Leti、德國Fraunhofer-Gesellschaft、意大利Consiglio Nazionale delle Ricerche及西班牙ICFO齊聚一堂，共同揭幕了首批五條依據(jù)歐盟《芯片法案》設(shè)立的試驗線。此舉旨在縮小研究與制造之間的鴻溝，強化CMOS半導體生態(tài)系統(tǒng)。
其中，imec牽頭的NanoIC試驗線尤為引人注目。該項目耗資高達14億美元，不僅將超越當前正在研發(fā)的2nm工藝技術(shù)，更將覆蓋從1nm至7A(即0.7nm)的尖端工藝領(lǐng)域。NanoIC試驗線的啟動，標志著歐洲在半導體技術(shù)研發(fā)方面邁出了重要一步。
此外，NanoIC試驗線還匯聚了眾多合作伙伴，包括芬蘭VTT、羅馬尼亞CSSNT、愛爾蘭廷德爾國家研究所，以及光刻設(shè)備巨頭ASML。這些合作伙伴的加入，無疑將為NanoIC試驗線提供強大的技術(shù)支持和資源保障。
此次五條試驗線的啟動，不僅體現(xiàn)了歐洲在半導體領(lǐng)域的雄心和實力，更將為全球半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的活力和動力。未來，隨著這些試驗線的深入運營和發(fā)展，歐洲有望在半導體技術(shù)領(lǐng)域取得更多突破性成果。
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