團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

由福建福晶科技股份有限公司牽頭，聯(lián)合中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所、閩都創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)室、中國(guó)工程物理研究院等多所科研院所聯(lián)合起草的《光熱透鏡法弱吸收率測(cè)試儀》（標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：T/COEMA 220—2025）團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，通過(guò)了中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)組織的評(píng)審，并于2025年3月5日起實(shí)施。

此次發(fā)布的團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范了光熱透鏡法弱吸收率測(cè)試儀（PLI, Photothermal-Lensing absorption measuring instrument）的術(shù)語(yǔ)、原理與組成、要求、試驗(yàn)方法，以及儀器產(chǎn)品的檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等，涵蓋從研制到生產(chǎn)等多方面內(nèi)容，從而明確光熱透鏡法弱吸收率測(cè)試儀的定義和應(yīng)用范圍，為市場(chǎng)提供清晰指引；同時(shí)為研究人員提供統(tǒng)一測(cè)試方法，促進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新和應(yīng)用拓展。

福晶科技作為全球知名的LBO晶體、BBO晶體、Nd:YVO?晶體、超精密光學(xué)元件、衍射光學(xué)元件、高功率光隔離器、聲光器件及電光器件的龍頭廠商，在激光光學(xué)等光電領(lǐng)域深耕三十余年，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在激光制造、光通訊以及前沿科學(xué)研究等方面。在產(chǎn)品的各道檢測(cè)環(huán)節(jié)，福晶科技運(yùn)用眾多先進(jìn)高精密光學(xué)檢測(cè)儀器來(lái)保證產(chǎn)品品質(zhì)，在晶體、精密光學(xué)元件和激光器件的檢測(cè)方面積累沉淀了豐富的理論知識(shí)、實(shí)操經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)實(shí)力。正是憑借深厚的技術(shù)研發(fā)底蘊(yùn)與創(chuàng)新能力，公司測(cè)試中心自主開(kāi)發(fā)了一系列精密光學(xué)檢測(cè)儀器，攻克解決國(guó)內(nèi)“小眾”檢測(cè)設(shè)備難求或價(jià)高的問(wèn)題。如公司推出的PLI弱吸收測(cè)試儀，CRD高反射率測(cè)量?jī)x和晶體生長(zhǎng)紋測(cè)試儀等，其測(cè)試精度、穩(wěn)定性和一致性得到長(zhǎng)期的驗(yàn)證，測(cè)試結(jié)果獲得了國(guó)內(nèi)外客戶的一致認(rèn)可。

目前，國(guó)內(nèi)光電行業(yè)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)尚不統(tǒng)一，檢測(cè)設(shè)備種類(lèi)繁多且質(zhì)量參差不齊，這在一定程度上制約了國(guó)內(nèi)光電行業(yè)的健康發(fā)展。作為全球光電行業(yè)晶體材料領(lǐng)域的標(biāo)桿企業(yè)，福晶科技有責(zé)任推動(dòng)國(guó)內(nèi)相關(guān)行業(yè)檢測(cè)設(shè)備和技術(shù)的國(guó)產(chǎn)化和標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程，為此向市場(chǎng)推出了自主研發(fā)的光熱透鏡法弱吸收率測(cè)試儀，并牽頭組織了該標(biāo)準(zhǔn)的制定工作，從而填補(bǔ)了我國(guó)在光學(xué)材料弱吸收率檢測(cè)儀器領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)空白，為激光元件、光學(xué)薄膜、晶體材料等關(guān)鍵領(lǐng)域的高精度檢測(cè)儀器提供了技術(shù)規(guī)范。

福晶科技研制的PLI100弱吸收測(cè)試儀測(cè)量精度可達(dá)1 ppm，可實(shí)現(xiàn)一維深度掃描、表面吸收和體吸收的區(qū)分測(cè)量、時(shí)間掃描等功能，支持定制多泵浦光源和二維吸收分布掃描功能。目前，福晶已經(jīng)為多家企業(yè)、院校交付多款定制儀器產(chǎn)品，滿足客戶差異化的科研需求，通過(guò)高精度測(cè)量為光學(xué)元件性能優(yōu)化提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。

PLI100弱吸收測(cè)試儀

1. 產(chǎn)品參數(shù)

2. 測(cè)試實(shí)例

PLI100可根據(jù)定制需求實(shí)現(xiàn)不同波段下膜吸收、體吸收的測(cè)試，重復(fù)精度不大于5%，滿足團(tuán)標(biāo)《光熱透鏡法弱吸收率測(cè)試儀》（T/COEMA 220—2025）的相關(guān)規(guī)定。

圖1.熔石英樣品1064nm膜吸收曲線

圖2.熔石英樣品532nm膜吸收曲線

圖3. LBO晶體基體吸收