在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,電氣過應(yīng)力(EOS)和靜電放電(ESD)是導(dǎo)致芯片失效的兩大主要因素,約占現(xiàn)場失效器件總數(shù)的50%。它們不僅直接造成器件損壞,還會(huì)引發(fā)長期性能衰退和可靠性問題,對生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量構(gòu)成嚴(yán)重威脅。
關(guān)于ESD
ESD(Electrostatic Discharge) 即靜電放電,指物體因接觸摩擦積累電荷后,與導(dǎo)體接近或接觸時(shí)發(fā)生的瞬間電子轉(zhuǎn)移現(xiàn)象。放電電壓可達(dá)數(shù)千伏,能直接擊穿敏感的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。
其產(chǎn)生方式主要包括:人體放電模型(HBM)——人體靜電經(jīng)芯片引腳放電;機(jī)器放電模型(MM)——自動(dòng)化設(shè)備累積靜電傳導(dǎo)至芯片;元件充電模型(CDM)——帶電芯片引腳接觸接地體時(shí)內(nèi)部電荷釋放;電場感應(yīng)模型(FIM)——外部電場變化引發(fā)芯片內(nèi)部電荷重分布。
ESD的危害呈現(xiàn)多重性:一是直接造成晶體管擊穿、金屬連線斷裂等物理損壞;二是引發(fā)閾值電壓漂移等參數(shù)退化,導(dǎo)致性能不穩(wěn)定;三是形成微觀損傷,降低器件長期可靠性;四是導(dǎo)致數(shù)據(jù)丟失或誤操作,威脅系統(tǒng)安全。其隱蔽性和隨機(jī)性進(jìn)一步增加了防控難度。
關(guān)于ESD的防護(hù)需采取綜合措施:
耗散:使用表面電阻為10?–1011Ω的防靜電臺(tái)墊、地板等材料;
泄放:通過接地導(dǎo)線、防靜電手環(huán)/服裝/鞋實(shí)現(xiàn)人員與設(shè)備接地;
中和:在難以接地的區(qū)域采用離子風(fēng)機(jī)中和電荷;
屏蔽:利用法拉第籠原理對靜電源或產(chǎn)品進(jìn)行主動(dòng)/被動(dòng)屏蔽;
增濕:提高環(huán)境濕度作為輔助手段;
電路設(shè)計(jì):在敏感元器件集成防靜電電路,但需注意其防護(hù)能力存在上限。
關(guān)于EOS
EOS(Electrical Over Stress) 指芯片承受的電壓或電流超過其耐受極限,通常由持續(xù)數(shù)微秒至數(shù)秒的過載引發(fā)。
主要誘因包括:電源電壓瞬變(如浪涌、紋波)、測試程序熱切換導(dǎo)致的瞬態(tài)電流、雷電耦合、電磁干擾(EMI)、接地點(diǎn)反跳(接地不足引發(fā)高壓)、測試設(shè)計(jì)缺陷(如上電時(shí)序錯(cuò)誤)及其他設(shè)備脈沖干擾。
EOS的失效特征以熱損傷為主:過載電流在局部產(chǎn)生高熱,導(dǎo)致金屬連線大面積熔融、封裝體碳化焦糊,甚至金/銅鍵合線燒毀。即使未造成物理破壞,也可能因熱效應(yīng)誘發(fā)材料特性衰退,表現(xiàn)為參數(shù)漂移或功能異常。更嚴(yán)重的是,EOS損傷會(huì)顯著降低芯片的長期可靠性,增加后期故障率。
EOS防護(hù)的核心是限制能量注入:
阻容抑制:串聯(lián)電阻限制進(jìn)入芯片的能量;
TVS二極管:并聯(lián)瞬態(tài)電壓抑制器疏導(dǎo)過壓能量,建議搭配電阻使用以分擔(dān)浪涌沖擊;
材料防護(hù):采用靜電屏蔽包裝和抗靜電材料;
工作環(huán)境:使用防脈沖干擾的安全工作臺(tái),定期檢查無靜電材料污染;
設(shè)計(jì)加固:優(yōu)化芯片耐壓結(jié)構(gòu)及布局走線,減少電磁干擾影響。
芯片級(jí)保護(hù)器
為應(yīng)對ESD/EOS威脅,需在電路中增設(shè)專用保護(hù)器件:
ESD保護(hù)器:吸收并分散靜電放電的高能量,防止瞬時(shí)高壓脈沖損傷核心芯片,作用類似"防護(hù)罩"。
EOS保護(hù)器:限制過電壓幅值,通過疏導(dǎo)能量充當(dāng)"安全閥",避免持續(xù)過應(yīng)力導(dǎo)致熱積累。
不同應(yīng)用場景對保護(hù)器參數(shù)要求各異:
汽車領(lǐng)域:需耐受-55℃~150℃極端溫度、36V高電壓及300A浪涌電流,符合AEC-Q101認(rèn)證;
工業(yè)與物聯(lián)網(wǎng):要求-40℃~85℃工作范圍及±15kV ESD防護(hù)能力,通過JEDEC標(biāo)準(zhǔn);
消費(fèi)電子:側(cè)重低結(jié)電容(0.1pF~2000pF)和±8kV ESD防護(hù),適應(yīng)2.5V~30V電壓環(huán)境。
保護(hù)器通常置于信號(hào)線/電源線與核心IC之間,確保過電壓在到達(dá)敏感元件前被攔截,顯著提升系統(tǒng)魯棒性。
失效分析與防控策略
區(qū)分ESD與EOS失效是診斷的關(guān)鍵:ESD因納秒級(jí)高壓放電,多表現(xiàn)為襯底擊穿、多晶硅熔融等點(diǎn)狀損傷;而EOS因持續(xù)熱效應(yīng),常引發(fā)氧化層/金屬層大面積熔融或封裝碳化。但短脈沖EOS與ESD損傷形態(tài)相似,且ESD可能誘發(fā)后續(xù)EOS,此時(shí)需通過模擬測試復(fù)現(xiàn)失效:對芯片施加HBM/MM/CDM模型(ESD)或毫秒級(jí)過電應(yīng)力(EOS),對比實(shí)際失效特征以確定根源。
產(chǎn)線改良需針對性施策:
加強(qiáng)ESD防護(hù):檢查人員接地設(shè)備、工作臺(tái)防靜電材料有效性,控制環(huán)境濕度;
抑制電氣干擾:為電源增加過壓保護(hù)及噪聲濾波裝置,避免熱插拔操作;
優(yōu)化接地設(shè)計(jì):杜絕接地點(diǎn)反跳(電流轉(zhuǎn)換引發(fā)高壓);
規(guī)范操作流程:嚴(yán)格執(zhí)行上電時(shí)序,隔離外部脈沖干擾源。
直接轉(zhuǎn)載來源:“Jeff的芯片世界”公眾號(hào)授權(quán)轉(zhuǎn)載
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原文標(biāo)題:常見芯片失效原因—EOS/ESD介紹
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