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集成電路是什么意思

工程師 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:h1654155205.5246 ? 2018-08-28 18:11 ? 次閱讀
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集成電路是什么意思

集成電路對一般人來說也許會有陌生感,但其實我們和它打交道的機(jī)會很多。計算機(jī)、電視機(jī)、手機(jī)、網(wǎng)站、取款機(jī)等等,數(shù)不勝數(shù)。除此之外在航空航天、星際飛行、醫(yī)療衛(wèi)生、交通運(yùn)輸、武器裝備等許多領(lǐng)域,幾乎都離不開集成電路的應(yīng)用,當(dāng)今世界,說它無孔不入并不過分。在當(dāng)今這信息化的社會中,集成電路已成為各行各業(yè)實現(xiàn)信息化、 智能化的基礎(chǔ)。無論是在軍事還是民用上,它已起著不可替代的作用。

集成電路是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個電路中所需的晶體管電阻、電容和電感等元件及布線互連一起,制作在一小塊或幾小塊半導(dǎo)體晶片或介質(zhì)基片上,然后封裝在一個管殼內(nèi),成為具有所需電路功能的微型結(jié)構(gòu);其中所有元件在結(jié)構(gòu)上已組成一個整體,使電子元件向著微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面邁進(jìn)了一大步。它在電路中用字母“IC”表示。集成電路發(fā)明者為杰克·基爾比(基于鍺的集成電路)和羅伯特·諾伊思(基于硅的集成電路)。

是20世紀(jì)50年代后期一60年代發(fā)展起來的一種新型半導(dǎo)體器件。它是經(jīng)過氧化、光刻、擴(kuò)散、外延、蒸鋁等半導(dǎo)體制造工藝,把構(gòu)成具有一定功能的電路所需的半導(dǎo)體、電阻、電容等元件及它們之間的連接導(dǎo)線全部集成在一小塊硅片上,然后焊接封裝在一個管殼內(nèi)的電子器件。其封裝外殼有圓殼式、扁平式或雙列直插式等多種形式。集成電路技術(shù)包括芯片制造技術(shù)與設(shè)計技術(shù),主要體現(xiàn)在加工設(shè)備,加工工藝,封裝測試,批量生產(chǎn)及設(shè)計創(chuàng)新的能力上。

為什么會產(chǎn)生集成電路?

我們知道任何發(fā)明創(chuàng)造背后都是有驅(qū)動力的,而驅(qū)動力往往來源于問題。那么集成電路產(chǎn)生之前的問題是什么呢?我們看一下1942年在美國誕生的世界上第一臺電子計算機(jī),它是一個占地150平方米、重達(dá)30噸的龐然大物,里面的電路使用了17468只電子管、7200只電阻、10000只電容、50萬條線,耗電量150千瓦。顯然,占用面積大、無法移動是它最直觀和突出的問題;如果能把這些電子元件和連線集成在一小塊載體上該有多好!我們相信,有很多人思考過這個問題,也提出過各種想法。

典型的如英國雷達(dá)研究所的科學(xué)家達(dá)默,他在1952年的一次會議上提出:可以把電子線路中的分立元器件,集中制作在一塊半導(dǎo)體晶片上,一小塊晶片就是一個完整電路,這樣一來,電子線路的體積就可大大縮小,可靠性大幅提高。這就是初期集成電路的構(gòu)想,晶體管的發(fā)明使這種想法成為了可能,1947年在美國貝爾實驗室制造出來了第一個晶體管,而在此之前要實現(xiàn)電流放大功能只能依靠體積大、耗電量大、結(jié)構(gòu)脆弱的電子管。晶體管具有電子管的主要功能,并且克服了電子管的上述缺點(diǎn),因此在晶體管發(fā)明后,很快就出現(xiàn)了基于半導(dǎo)體的集成電路的構(gòu)想,也就很快發(fā)明出來了集成電路。杰克·基爾比和羅伯特·諾伊斯在1958~1959期間分別發(fā)明了鍺集成電路和硅集成電路。

集成電路發(fā)展歷程

集成電路的發(fā)展經(jīng)歷了一個漫長的過程,以下以時間順序,簡述它的發(fā)展過程:

1906年,第一個電子管誕生;

1912年前后,電子管的制作日趨成熟引發(fā)了無線電技術(shù)的發(fā)展;

1918年前后,逐步發(fā)現(xiàn)了半導(dǎo)體材料;

1920年,發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體材料所具有的光敏特性;

1932年前后,運(yùn)用量子學(xué)說建立了能帶理論研究半導(dǎo)體現(xiàn)象(這也為經(jīng)典工藝所能達(dá)到的集成尺寸極限下了定論——7NM);

1946年,威廉。肖克利(硅谷創(chuàng)始人,杰出的電子工藝學(xué)家,物理學(xué)家)的研發(fā)小組成功研發(fā)半導(dǎo)體晶體管,使得IC大規(guī)模地發(fā)揮熱力奠定了基礎(chǔ);

1956年,硅臺面晶體管問世;

1960年12月,世界上第一塊硅集成電路制造成功;

1966年,美國貝爾實驗室使用比較完善的硅外延平面工藝制造成第一塊公認(rèn)的大規(guī)模集成電路;

1988年,16M DRAM問世,1平方厘米大小的硅片上集成有3500萬個晶體管,標(biāo)志著進(jìn)入超大規(guī)模集成電路階段的更高階段;

1997年,300MHz奔騰Ⅱ問世,采用0.25μm工藝,奔騰系列芯片的推出讓計算機(jī)的發(fā)展如虎添翼,發(fā)展速度讓人驚嘆;

2009年,intel酷睿i系列全新推出,創(chuàng)紀(jì)錄采用了領(lǐng)先的32納米工藝,并且下一代22納米工藝正在研發(fā)。集成電路制作工藝的日益成熟和各集成電路廠商的不斷競爭,使集成電路發(fā)揮了它更大的功能,更好的服務(wù)于社會。由此集成電路從產(chǎn)生到成熟大致經(jīng)歷了如下過程:

電子管——晶體管——集成電路——超大規(guī)模集成電路。

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