在電子元件可靠性管控中，“分層”是非密封封裝產(chǎn)品的核心隱患——它可能導(dǎo)致元件散熱失效、信號(hào)傳輸異常，甚至引發(fā)整體故障。

IPC/JEDEC聯(lián)合發(fā)布的《J-STD-035A非密封封裝電子元件的聲學(xué)顯微鏡》標(biāo)準(zhǔn)，不僅規(guī)范了聲學(xué)顯微鏡（SAT）的檢測(cè)流程，更明確了分層的判斷標(biāo)準(zhǔn)，成為行業(yè)排查該類缺陷的“黃金準(zhǔn)則”。

本文將聚焦標(biāo)準(zhǔn)中的分層檢測(cè)核心內(nèi)容，為電子制造、質(zhì)檢及采購(gòu)環(huán)節(jié)提供專業(yè)指引。

一。標(biāo)準(zhǔn)定位

分層檢測(cè)的“統(tǒng)一標(biāo)尺”

《IPC/JEDEC J-STD-035A-非密封封裝電子元件的聲學(xué)顯微鏡》首次發(fā)布于1999年，2022年12月重新修訂，是針對(duì)非密封封裝電子元件的無損聲學(xué)檢測(cè)專用標(biāo)準(zhǔn)。其核心目標(biāo)之一，就是通過標(biāo)準(zhǔn)化的聲學(xué)掃描方法，精準(zhǔn)識(shí)別元件內(nèi)部“分層”缺陷，并建立統(tǒng)一的判斷與記錄體系，解決不同企業(yè)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)不統(tǒng)一、結(jié)果不可比的痛點(diǎn)。

標(biāo)準(zhǔn)明確：分層檢測(cè)需通過聲學(xué)顯微鏡的A/B/C/T掃描模式，覆蓋元件內(nèi)部關(guān)鍵接口，且所有判斷需基于“可復(fù)現(xiàn)的檢測(cè)流程”與“明確的缺陷界定指標(biāo)”，確保檢測(cè)結(jié)果的權(quán)威性與一致性。

二、先懂“檢測(cè)基礎(chǔ)”

分層觀測(cè)的核心維度

要準(zhǔn)確判斷分層，需先明確標(biāo)準(zhǔn)定義的“檢測(cè)對(duì)象”與“觀測(cè)工具”——這是分層判斷的前提。

1分層觀測(cè)的4種核心模式

標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，分層檢測(cè)需依賴以下4種聲學(xué)掃描模式，不同模式對(duì)應(yīng)分層判斷的不同維度：

A-mode（A-Scan）

聚焦“單點(diǎn)驗(yàn)證”——通過單點(diǎn)的振幅、相位與飛行時(shí)間數(shù)據(jù)，確認(rèn)疑似分層位置的信號(hào)異常是否為真實(shí)缺陷（而非成像干擾）。

B-mode（B-Scan）

聚焦“深度分析”——沿X-Z/Y-Z平面生成截面圖，直觀顯示分層在元件內(nèi)部的深度、延伸范圍（如從芯片表面延伸至基板）。

C-mode（C-Scan）

聚焦“平面定位”——在特定深度的X-Y平面生成圖像，精準(zhǔn)標(biāo)注分層的平面位置、面積大?。ㄈ缧酒锹涞?mm2分層）。

T-mode（T-Scan）

聚焦“初步篩查”——通過整體穿透掃描，快速判斷元件是否存在大面積分層（適用于批量檢測(cè)的初篩環(huán)節(jié)）。

2分層易發(fā)生的7大關(guān)鍵區(qū)域

標(biāo)準(zhǔn)在聲學(xué)顯微鏡檢查表中，明確了分層檢測(cè)的“必查區(qū)域”——這些區(qū)域是元件內(nèi)部應(yīng)力集中、界面結(jié)合易失效的部位，也是分層的高發(fā)區(qū)：

三、核心重點(diǎn)

分層判斷的“硬標(biāo)準(zhǔn)”

《IPC/JEDEC J-STD-035A非密封封裝電子元件的聲學(xué)顯微鏡》在聲學(xué)顯微鏡檢查表中，給出了分層判斷的“量化+定性”雙重指標(biāo)——這是行業(yè)唯一明確的分層判斷依據(jù)，需逐點(diǎn)核對(duì)。

1通用判斷原則：先區(qū)分“缺陷vs干擾”

標(biāo)準(zhǔn)強(qiáng)調(diào)，所有分層判斷需先排除“成像偽影（干擾信號(hào)）”，避免誤判?？赏ㄟ^以下2步驗(yàn)證：

A-mode驗(yàn)證

在疑似分層位置采集A掃描信號(hào)——若信號(hào)顯示“振幅突變”“相位反轉(zhuǎn)”（與正常bonded區(qū)域信號(hào)差異顯著），則初步判定為分層；

物理輔助驗(yàn)證（必要時(shí)）

若A-mode無法確認(rèn)，需結(jié)合元件結(jié)構(gòu)（如基板材質(zhì)、封裝厚度）或局部物理檢測(cè)，確認(rèn)是否為真實(shí)分層。

2分層判斷的“具體指標(biāo)”（按檢測(cè)側(cè)分類）

標(biāo)準(zhǔn)將分層檢測(cè)分為“電路側(cè)掃描”與“非電路側(cè)掃描”，兩類場(chǎng)景的判斷指標(biāo)各有側(cè)重，需嚴(yán)格按檢查表記錄：

▲電路側(cè)掃描

▲非電路側(cè)掃描

01電路側(cè)掃描：

聚焦“芯片與信號(hào)傳輸相關(guān)區(qū)域”

電路側(cè)是元件核心功能區(qū)，分層可能直接影響信號(hào)與散熱，判斷需更精細(xì)：

Type I（封裝材料/芯片表面分層）

需記錄：受影響的芯片數(shù)量、分層面積占芯片表面的“平均百分比”（如某芯片分層面積占比15%）、分層位置（角落/邊緣/中心）；

關(guān)鍵要求：若分層覆蓋芯片活性區(qū)（如鍵合pad周圍），需額外標(biāo)注“是否靠近信號(hào)傳輸點(diǎn)”。

Type II（芯片貼裝區(qū)分層）

需記錄：受影響的貼裝區(qū)域數(shù)量、分層面積占粘貼區(qū)的“平均百分比”、分層是否導(dǎo)致“芯片與基板剝離”（通過B-mode確認(rèn)深度）。

Type III

（封裝材料/基板（芯片側(cè)）分層）

需記錄：分層位置（基板邊緣/中心）、分層長(zhǎng)度（如沿基板邊緣延伸3mm）、是否與TypeI/II分層連通（形成“貫通性缺陷”）。

Type V（封裝材料/引線框架分層）

需記錄：受影響的引線數(shù)量、分層占引線長(zhǎng)度的“最大百分比”（如某引線分層占長(zhǎng)度的40%）、是否覆蓋鍵合區(qū)（如楔形鍵合點(diǎn)周圍分層）。

02非電路側(cè)掃描

聚焦“基板與散熱相關(guān)區(qū)域”

非電路側(cè)分層雖不直接影響信號(hào)，但可能導(dǎo)致散熱失效，判斷需關(guān)注“大面積分層”與“結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性”：

Type IV（封裝材料/基板背面分層）

需記錄：分層面積占基板背面的“平均百分比”、分層是否集中在“散熱片貼合區(qū)”（若有散熱片）、是否導(dǎo)致基板翹曲（通過C-mode平面度分析）。

Type VII（散熱片/基板分層）

需記錄：分層面積占散熱片貼合區(qū)的“平均百分比”、是否導(dǎo)致“散熱片局部脫離”（通過B-mode確認(rèn)散熱片與基板的間隙）。

03分層的“否決性指標(biāo)”

必須記錄的關(guān)鍵風(fēng)險(xiǎn)

標(biāo)準(zhǔn)明確，若分層滿足以下任一條件，需判定為“高風(fēng)險(xiǎn)缺陷”，需重點(diǎn)標(biāo)注并評(píng)估是否合格：

分層與“裂紋連通”

通過B-mode確認(rèn)分層延伸至裂紋，形成“缺陷通道”；

分層覆蓋“關(guān)鍵功能區(qū)”

如覆蓋引線鍵合點(diǎn)、芯片敏感電路區(qū)；

分層面積超標(biāo)

若結(jié)合其他標(biāo)準(zhǔn)（如J-STD-020），分層面積超過規(guī)定閾值（如某類元件允許最大分層面積5%）；

分層導(dǎo)致“結(jié)構(gòu)失效”

如芯片因分層脫離基板、散熱片因分層失去導(dǎo)熱功能。

四、分層檢測(cè)的“設(shè)備與流程保障”

要確保分層判斷準(zhǔn)確，標(biāo)準(zhǔn)對(duì)“檢測(cè)設(shè)備”與“操作流程”提出了嚴(yán)格要求——這是避免“判斷誤差”的基礎(chǔ)。

1分層檢測(cè)的設(shè)備配置要求

核心設(shè)備

需使用“反射式聲學(xué)顯微鏡”或“穿透式聲學(xué)顯微鏡”（額外配備獨(dú)立接收換能器）；

校準(zhǔn)工具

必須配備“標(biāo)準(zhǔn)參考封裝件”（含“有分層”與“無分層”的標(biāo)準(zhǔn)樣品），用于校準(zhǔn)設(shè)備靈敏度（避免因增益不當(dāng)導(dǎo)致分層漏判/誤判）；

輔助工具

樣品架需確保元件“平面度穩(wěn)定”（避免傾斜導(dǎo)致分層信號(hào)偏移），耦合介質(zhì)需用去離子水（避免氣泡干擾信號(hào)）。

2分層檢測(cè)的流程規(guī)范（關(guān)鍵4步）

設(shè)備校準(zhǔn)

用標(biāo)準(zhǔn)參考件驗(yàn)證——無分層樣品應(yīng)無異常信號(hào)，有分層樣品需準(zhǔn)確顯示分層位置與面積，否則調(diào)整換能器頻率、增益；

樣品準(zhǔn)備

將元件固定于耦合介質(zhì)中，排除表面氣泡（氣泡會(huì)模擬分層信號(hào)，導(dǎo)致誤判）；

多模式掃描

先通過穿透模式初篩，再用C-mode定位疑似分層，最后用A/B-mode驗(yàn)證缺陷真實(shí)性；

記錄與判定

按檢查表填寫分層類型、位置、面積，結(jié)合標(biāo)準(zhǔn)指標(biāo)判定是否合格，并保存A/B/C/T模式圖像（用于追溯）。

五、避坑指南

分層判斷的“常見誤區(qū)”

標(biāo)準(zhǔn)在潛在圖像陷阱中，特別列出了分層判斷的“易誤判場(chǎng)景”，需重點(diǎn)規(guī)避：

1信號(hào)丟失≠分層

若增益設(shè)置過低、換能器頻率過高（導(dǎo)致信號(hào)衰減），可能誤判為分層——需通過調(diào)整設(shè)備參數(shù)重新掃描；

2表面干擾≠分層

元件表面的劃痕、指紋、Mark、pad扎痕，可能在C-mode中顯示“暗區(qū)”——需用A-mode驗(yàn)證（表面干擾無相位突變，分層有明顯相位差異）；

3聚焦錯(cuò)誤≠分層

若換能器聚焦不在目標(biāo)界面（如聚焦在封裝材料表面而非芯片表面），可能顯示“虛假分層信號(hào)”——需通過B-mode調(diào)整聚焦深度，重新確認(rèn)。

六、標(biāo)準(zhǔn)的行業(yè)價(jià)值

分層管控的“定心丸”

對(duì)于電子行業(yè)而言，《IPC/JEDEC J-STD-035A非密封封裝電子元件的聲學(xué)顯微鏡》中的分層判斷標(biāo)準(zhǔn)，不僅是“檢測(cè)指南”，更是“質(zhì)量共識(shí)”：

對(duì)制造商

可建立標(biāo)準(zhǔn)化的分層篩查流程，提前攔截缺陷品，避免因分層導(dǎo)致的客戶投訴；

對(duì)質(zhì)檢方

有明確的判斷依據(jù)，無需依賴“經(jīng)驗(yàn)主義”，檢測(cè)結(jié)果更具說服力；

對(duì)采購(gòu)方

可將標(biāo)準(zhǔn)要求納入供應(yīng)商協(xié)議，確保接收的元件“分層管控達(dá)標(biāo)”，降低下游產(chǎn)品風(fēng)險(xiǎn)。

總之，非密封封裝電子元件的分層檢測(cè)，需以《IPC/JEDEC J-STD-035A非密封封裝電子元件的聲學(xué)顯微鏡》為核心依據(jù)——從“模式選擇→區(qū)域覆蓋→指標(biāo)判斷→流程保障”全環(huán)節(jié)落地標(biāo)準(zhǔn)要求，才能真正實(shí)現(xiàn)“精準(zhǔn)識(shí)別、有效管控”。

季豐電子上海、嘉善、成都、深圳RA 實(shí)驗(yàn)室均配有SAT設(shè)備和專業(yè)人員，對(duì)IPC/JEDEC J-STD-035A標(biāo)準(zhǔn)通過了 CNAS、ISO17025 資質(zhì)認(rèn)證，歡迎咨詢與委案！郵箱：sales@giga-force.com。

季豐電子

季豐電子成立于2008年，是一家聚焦半導(dǎo)體、先進(jìn)材料、先進(jìn)裝備、新型能源等領(lǐng)域的軟硬件研發(fā)及檢測(cè)類技術(shù)服務(wù)的賦能型平臺(tái)企業(yè)。公司主營(yíng)分為四大板塊，分別為基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)室、軟硬件開發(fā)、測(cè)試封裝和儀器設(shè)備，可為芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試、材料裝備、新型能源等產(chǎn)業(yè)客戶提供一站式的軟硬件方案、檢測(cè)分析類技術(shù)服務(wù)及實(shí)驗(yàn)室部署方案。

季豐電子通過國(guó)家級(jí)專精特新“重點(diǎn)小巨人”、國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、上海市“科技小巨人”、上海市企業(yè)技術(shù)中心、研發(fā)機(jī)構(gòu)、公共服務(wù)平臺(tái)等企業(yè)資質(zhì)認(rèn)定，通過了ISO9001、 ISO/IEC17025、CMA、CNAS、IATF16949、ISO/IEC27001、ISO14001、ISO45001、ANSI/ESD S20.20等認(rèn)證。公司員工超1100人，總部位于上海，在浙江、北京、深圳、成都等地設(shè)有子公司。