高純度熱壓燒結(jié)碳化硅陶瓷外延生長基座是半導(dǎo)體制造和先進(jìn)電子產(chǎn)業(yè)中的關(guān)鍵部件,廣泛應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)和分子束外延(MBE)等工藝中。該基座在高溫、腐蝕性及高真空環(huán)境下支撐襯底,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量外延層生長。其性能直接取決于材料的物理化學(xué)特性,并通過熱壓燒結(jié)工藝優(yōu)化,以滿足嚴(yán)苛的工業(yè)需求。
從物理化學(xué)性能分析,高純度熱壓燒結(jié)碳化硅陶瓷展現(xiàn)出卓越的綜合特性。物理方面,它具有極高的硬度(莫氏硬度約9.5),耐磨性強(qiáng),能承受機(jī)械應(yīng)力;熔點(diǎn)高達(dá)2700°C以上,熱穩(wěn)定性優(yōu)異;熱導(dǎo)率約120 W/m·K,利于熱量快速傳導(dǎo),減少熱梯度;熱膨脹系數(shù)較低(約4.0×10??/K),確保尺寸穩(wěn)定性,避免熱應(yīng)力開裂?;瘜W(xué)方面,碳化硅陶瓷在高溫下抗氧化和耐腐蝕性能突出,能抵抗酸、堿及鹵素氣體侵蝕,純度通常超過99.99%,雜質(zhì)元素如鐵、鈉含量極低,這避免了對外延過程的污染,保障了半導(dǎo)體層的電學(xué)性能。熱壓燒結(jié)工藝進(jìn)一步提升了材料性能:通過高溫(2000°C以上)和高壓(20-50 MPa)同時作用,碳化硅顆粒間結(jié)合緊密,形成致密微觀結(jié)構(gòu),氣孔率低于1%,從而增強(qiáng)力學(xué)強(qiáng)度(抗彎強(qiáng)度可達(dá)500 MPa以上)和熱震穩(wěn)定性。這些特性使基座在長期高溫循環(huán)中保持完整性和功能。
與其他工業(yè)陶瓷材料相比,高純度熱壓燒結(jié)碳化硅陶瓷外延生長基座具有明顯優(yōu)缺點(diǎn)。相較于氧化鋁陶瓷,碳化硅的熱導(dǎo)率高出3-4倍,熱沖擊抗力更強(qiáng),更適合快速升降溫場景,但成本和加工難度較高;與氮化鋁陶瓷相比,碳化硅的機(jī)械強(qiáng)度和硬度更優(yōu),耐磨性更好,但介電常數(shù)稍高,可能在部分高頻應(yīng)用中受限,然而對于外延基座,碳化硅的高溫負(fù)載能力和化學(xué)惰性更具優(yōu)勢;相對于氧化鋯陶瓷,碳化硅的熱導(dǎo)率高且熱膨脹匹配性更好,但韌性較低,脆性較大,需通過設(shè)計優(yōu)化來彌補(bǔ)。在半導(dǎo)體外延應(yīng)用中,碳化硅基座的主要優(yōu)點(diǎn)包括:高熱導(dǎo)率確保溫度均勻性,提升外延層質(zhì)量;高純度和化學(xué)惰性避免污染源;長使用壽命降低維護(hù)成本。缺點(diǎn)則集中于加工復(fù)雜性:碳化硬度高,精密加工成復(fù)雜形狀需專用設(shè)備,且熱壓燒結(jié)工藝能耗較高,導(dǎo)致制品價格高于普通陶瓷??傮w而言,碳化硅陶瓷在外延生長基座領(lǐng)域綜合性能領(lǐng)先,尤其適用于GaN、SiC等寬禁帶半導(dǎo)體制造。
制品的生產(chǎn)制造過程涉及多個精密步驟,以確保最終性能。首先,原料選取高純度亞微米級碳化硅粉末,純度需達(dá)99.995%以上,通過化學(xué)凈化去除金屬雜質(zhì)。接著,粉末與少量燒結(jié)助劑(如硼或鋁基添加劑)混合,以促進(jìn)致密化,但需控制添加量以維持純度。成型階段采用熱壓燒結(jié)技術(shù):將混合物置于石墨模具中,在惰性氣氛(如氬氣)下,施加20-50 MPa壓力并加熱至2000-2200°C,保溫數(shù)小時,使顆粒通過擴(kuò)散和再結(jié)晶實(shí)現(xiàn)致密結(jié)合。此過程需精確控制溫度曲線和壓力分布,以避免微觀缺陷。燒結(jié)后,毛坯進(jìn)行精密加工,包括金剛石工具磨削、拋光,達(dá)到亞微米級表面粗糙度和平整度,確?;c襯底緊密接觸。最后,通過清洗和檢測環(huán)節(jié),如X射線衍射分析純度和超聲波探傷檢查完整性,保證制品符合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。海合精密陶瓷有限公司在該領(lǐng)域擁有先進(jìn)技術(shù),其熱壓燒結(jié)碳化硅陶瓷基座以高一致性和可靠性著稱,生產(chǎn)過程中集成自動化監(jiān)控,優(yōu)化了工藝參數(shù),提升了成品率。
碳化硅陶瓷性能參數(shù)
適合的工業(yè)應(yīng)用主要集中于高技術(shù)領(lǐng)域。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,該基座用于MOCVD和MBE設(shè)備,支撐硅、碳化硅或氮化鎵外延生長,是制造LED、射頻器件和功率半導(dǎo)體的核心部件;其高熱導(dǎo)率有助于散熱,提升器件效率和壽命。在光伏行業(yè),它用于薄膜太陽能電池的沉積過程,耐腐蝕性延長了設(shè)備使用壽命。此外,在航空航天和核能領(lǐng)域,碳化硅陶瓷基座可應(yīng)用于高溫傳感器或反應(yīng)堆組件,得益于其輻射穩(wěn)定性。海合精密陶瓷有限公司的產(chǎn)品已批量供應(yīng)全球半導(dǎo)體設(shè)備商,支持了5G通信和電動汽車等新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展。隨著寬禁帶半導(dǎo)體需求增長,高純度熱壓燒結(jié)碳化硅陶瓷外延生長基座的應(yīng)用將進(jìn)一步擴(kuò)展,推動制造工藝向更高精度和可靠性演進(jìn)。
-
陶瓷材料
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
44瀏覽量
10664 -
碳化硅
+關(guān)注
關(guān)注
26文章
3396瀏覽量
51961
發(fā)布評論請先 登錄
12英寸碳化硅外延片突破!外延設(shè)備同步交付
【新啟航】碳化硅外延片 TTV 厚度與生長工藝參數(shù)的關(guān)聯(lián)性研究
從襯底到外延:碳化硅材料的層級躍遷與功能分化
碳化硅器件的應(yīng)用優(yōu)勢
碳化硅陶瓷光模塊散熱基板
碳化硅晶圓特性及切割要點(diǎn)
EAB450M12XM3全碳化硅半橋功率模塊CREE
切割進(jìn)給量與碳化硅襯底厚度均勻性的量化關(guān)系及工藝優(yōu)化
碳化硅MOSFET的優(yōu)勢有哪些
碳化硅外延晶片硅面貼膜后的清洗方法
高純熱壓碳化硅陶瓷外延基座的性能優(yōu)勢與制造工藝解析
評論