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OLED供應鏈受波及?傳世界化工巨頭斷供華為

XcgB_CINNO_Crea ? 來源:YXQ ? 2019-05-30 14:25 ? 次閱讀
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美國高務部正式將華為列入“實體清單”,禁止美企向華為出售相關技術和產(chǎn)品,美國政府不惜動用國家力量打壓華為,已到令人發(fā)指的地步。

高通、谷歌、ARM、微軟、SD聯(lián)盟、wifi聯(lián)盟等單位先后響應美國商務部號召,紛紛宣布對華為公司斷供。近日,化工巨頭美資企業(yè)陶氏也公開發(fā)函宣布對華為斷供,也加入到圍剿華為的行列之中。

陶氏是世界上最大的綜合性化工企業(yè)和有機硅巨頭企業(yè),陶氏產(chǎn)品種類極多,涵蓋粘接、封裝、隔熱、絕緣等多類電子化學品。陶氏旗下新生品牌-陶熙,更是有機硅產(chǎn)品和技術的領導者。而眾所周知,有機硅材料在電子產(chǎn)品中有著極為廣泛的應用。

比如當下我國正在大量投產(chǎn)OLED顯示面板產(chǎn)線,但是OLED顯示面板中的核心發(fā)光材料,其專利及市場目前基本被美、日、德幾家主要廠商所壟斷。其中陶氏化學在紅色主體材料上擁有核心專利,市場占有率也處于領先。

又如硅晶圓CMP拋光墊材料。CMP技術是晶圓制造的核心工藝。CMP技術即化學機械拋光,是指在晶圓制造過程中,使用化學及機械力對晶圓進行平坦化處理的過程。國際上普遍認為,器件特征尺寸在0.35μm 以下時,必須進行全局平面化以保證光刻影像傳遞的精確度 和分辨率,而CMP 是目前幾乎唯一的可以提供全局平面化的技術。而陶氏的CMP拋光墊占了全球90%以上的市場份額。

早在2013年,陶氏就與華為確定了全球技術合作關系。如今受美國“實體清單”事件的影響,陶氏與華為終止這一合作關系,必將給雙方帶來一定損失。

其中陶氏化學所供應的顯示材料主要業(yè)務歸于電子材料中,OLED中的細分業(yè)務發(fā)光材料的銷售額處于全球領先地位。

陶氏的顯示材料業(yè)務集中于規(guī)模較大且正在不斷發(fā)展的FPD(平板顯示)市場,包括新興的OLED(有機發(fā)光二極管)領域。

顯示用化學品:有機硅樹脂 有機鈍化for OLED、低溫固化型絕緣膜、黑色柱狀間隔物、具備BOA低誘電率的黑色材料、應用于噴印、銅工藝、高溫等領域的定制化材料、MVA 條、G,I-line 光阻、下一代Cu, APC去除劑

除了OLED材料外,半導體行業(yè)也會受到波及陶氏的半導體技術業(yè)務部主要服務于半導體市場的兩個核心領域:化學機械研磨和光刻技術。

化學機械研磨產(chǎn)品: 半導體技術業(yè)務部為半導體、硅片和存儲介質的研磨和平面化提供材料,包括:軟研磨墊和硬研磨墊、獨特的研磨漿料

光刻產(chǎn)品和材料: 半導體技術業(yè)務部提供先進的光刻膠用在半導體晶圓上制作出電路圖形、抗反射涂層以改善成像、 和電鍍化學品,包括:193納米浸入式光刻材料、193納米光刻膠、抗反射涂層(BARCs) 、墊層材料(Underlayers) 、表面涂層材料(Topcoats) 、各種不同曝光光源用光刻膠,EUV、KrF(248nm)、ArF(193nm)、i-線、g-線光刻膠、193納米(ArF)和248納米(DUV)光源用抗反射涂層、顯影液和輔助化學品

顯示用薄膜:用于控制LCD背光系統(tǒng)亮度的涂覆和擠出薄膜、用于觸摸屏和LCD偏振片制造的功能薄膜、亮度薄膜、擴散片、反射片、微透鏡薄膜、多功能薄膜、集成性的光學濾光片解決方案、子部件: NIR濾光片,調色、涂覆ITO 的PET、光學保護薄膜、緩釋層、功能性硬質涂層和抗反射薄膜

此次斷供對于國內采用陶氏材料的廠商可能會有不小范圍的影響,不過此次禁售不會受影響的是未曾與華為公司產(chǎn)生間接的供應鏈關系。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:OLED供應鏈受波及?傳世界化工巨頭陶氏化學對華為斷供

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