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      電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>模擬數(shù)字>CMOS和TTL電路探討

      CMOS和TTL電路探討

      2012-02-06 | pdf | 3.24 MB | 次下載 | 10積分

      資料介紹

      通常以為T(mén)TL門(mén)的速度高于“CMOS門(mén)電路。影響TTL門(mén)電路工作速度的主要因素是電路內(nèi)部管子的開(kāi)關(guān)特性、電路結(jié)構(gòu)及內(nèi)部的各電阻數(shù)值。電阻數(shù)值越大，作速度越低。管子的開(kāi)關(guān)時(shí)間越長(zhǎng)，門(mén)的工作速度越低。門(mén)的速度主要體現(xiàn)在輸出波形相對(duì)于輸入波形上有“傳輸延時(shí)”tpd。將tpd與空載功耗P的乘積稱(chēng)“速度-功耗積”，做為器件性能的一個(gè)重要指標(biāo)，其值越小，表明器件的性能越 好（一般約為幾十皮（10-12）焦耳）。與TTL門(mén)電路的情況不同，影響CMOS電路工作速度的主要因素在于電路的外部，即負(fù)載電容CL。CL是主要影響器件工作速度的原因。由CL所決定的影響CMOS門(mén)的傳輸延時(shí)約為幾十納秒。

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