資料介紹
新VD4 真空斷路器是ABB 馳名的滅弧室和澆注極柱研發(fā)和制造技術(shù),以及先進(jìn)的操動機(jī)構(gòu)研發(fā)、設(shè)計和生產(chǎn)技術(shù)的完美結(jié)臺。VD4 中壓真空斷路器的滅弧室被整體澆往在環(huán)氧樹脂中。整體澆注的極柱結(jié)構(gòu)更堅固,可為真空滅弧室提供更加充分的保護(hù),并可消除灰塵和潮氣對滅弧室的外絕緣能力的影響。滅弧室將開關(guān)的主觸頭永久密封在真空環(huán)境中,構(gòu)成開斷滅弧單元。
真空斷路器不需要滅弧和絕緣的介質(zhì)。實際上,滅弧室中不存在可被電離的物質(zhì)。在任何情況下,當(dāng)觸頭分離時,觸頭間的電弧通道僅僅由觸頭材料的金屬蒸氣構(gòu)成。電弧只能由外部能量維持,當(dāng)主回路電流在自然過零點時刻消失,電弧即不能維持。在此刻,急速下降的載流密度和快速凝聚的真空金屬蒸氣,使觸頭之間迅速恢復(fù)了絕緣。真空滅弧室因此恢復(fù)了絕緣能力以及耐受系統(tǒng)瞬態(tài)恢復(fù)電壓的能力,最終將電弧熄滅。即使在很小的開距下,真空也有很高的絕緣強(qiáng)度,因此只要在電流過零點的數(shù)毫秒之前將真空滅弧室的觸頭分開,即能保證成功開斷。
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