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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>音視頻類>LCOS和MILC技術分析

LCOS和MILC技術分析

2008-10-25 | rar | 555 | 次下載 | 5積分

資料介紹

LCOS和MILC技術分析??
內(nèi)容摘要:本文介紹LOGS和MILG技術的近來發(fā)展及應用。LGOS技術是矽基CMOS集戚電路技術和LGD技術相結合的反射式顯示技術,它具有高密度、高解析度顯示特點,應用於投影顯示和頭盔顯示。MILG技術是金屬誘導橫向晶體生長技術,此技術成功地應用到低溫p-Si TFT,并成為激退火低溫p一Si TFT技術的有力競爭者。它具有設備投入低、工藝筒便可靠、重復性好、均勻性好等特點。MlLG將成為低溫p一Si TFT的核心技術,受到TFT產(chǎn)業(yè)界的重視。
?
直視式大螢幕電視和顯示器尚未大量投放市場,使投影顯示發(fā)展活躍起來,其中LCOS(LiquidCrystalonSilicon)反射式投影顯示剛剛迸人市場,引起人們的重視。因為LCOS技術借矽基CMOS積體電路技術,在單晶矽片上CMOS陣列取代a一Si TFT LCD中玻璃基板上a一Si TFT陣列,相比之下前者生產(chǎn)技術更成熟,還有單晶矽遷移率遠高於a一Si遷移率,因此不僅適合於高密度、高解析度、高開口率顯示,而且可以周邊驅(qū)動電路集成一體,甚至可以集成資訊處埋系統(tǒng)。但LCOS微型顯示通過光學系統(tǒng)放大圖像幾十到幾百倍,帶來液晶顯示技術的新問題。本文介LCOS的應用和市場、LCOS基本結構、光學系統(tǒng)及液晶顯示中的新問題。

本文還要介紹MILC(Metal Induced Lateral Crystallization:金屬誘導橫向晶體生長)技術。此技術正在形成產(chǎn)業(yè)化的低溫多晶矽技術,成為準分子鐳射退火技術約有力競爭者,受到低溫p一Si TFT LCD企業(yè)家的高度重視。
LCOS
圖1表示LCOS應用范圍和市場。LCOS應用於頭盔顯示、拼接式顯示、前投影和背投影顯示。近期前投影和拼接式顯示占主導,遠期背投影占主導,今後LCOS主要應用於數(shù)位化HDTV。2000年產(chǎn)值為5億美元,到2004年產(chǎn)值將達到23億美元,年增長率為46.5%。
圖2表示LCOS結構。在單晶矽片上集成CMOS和存貯電容器的陣列,通過開孔把漏電極和圖元電極連結,圖元電極用鋁做成反射電極。為防止強光照射溝道,加一層金屬檔光層。另一側基板是ITO電極的玻璃板。液晶層盒厚愛圖元尺寸限制,一般盒厚取幾微米。LC0S前投影放大倍數(shù)大,顯示區(qū)內(nèi)不能用控制盒厚的隔墊物,或者盒厚取小於2微米,可用隔墊物。
圖3表示軸上光學投影系統(tǒng)。用金屬鹵化物燈(亮度6000流明以上)或氖燈(亮度60000流明),用拋物面反射鏡過濾紫外光和紅外光,再用冷反射鏡過濾紅外光,通過聚焦透鏡和復眼透鏡得到均勻的平行光,然後分色鏡分光,再通過PBS得到偏振光,通過LCOS反射進行合成并通過變焦透鏡投影到螢幕。在軸上投影系統(tǒng)緊湊性好,但很難得到高對比度。

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