資料介紹
SiO2 薄膜具有良好的硬度、光學(xué)、介電性質(zhì)及耐磨、抗蝕、機(jī)械等特性,在光學(xué)、微電子等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景
SiO2薄膜已經(jīng)是一種普通應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域的重要膜層(增透膜、多層膜、保護(hù)膜、濾光片…等)。在光學(xué)薄膜濾光片中,SiO2 薄膜是很好的一種單層抗反射膜,更是最常用的一種低折射率膜層,用來(lái)鍍制多層光學(xué)薄膜濾光片;在鍍膜工藝中,作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層;在半導(dǎo)體技術(shù)方面,常用來(lái)當(dāng)作絕緣層的一種材料。
SiO2薄膜其穿透區(qū)涵蓋0.15μm 至 8μm,具有很小的吸收損耗;和多數(shù)不同材料的基板擁有良好的附著性,表面也具有良好的耐刮性;結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,不易與其他材料發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生變質(zhì),具有耐酸性、抗腐蝕的優(yōu)點(diǎn)。
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