資料介紹
紫外線曝光機(jī)是PCB 圖形轉(zhuǎn)移中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)的邁拉曬架雖然簡(jiǎn)便,但存在著
需要趕氣、效率低、不能實(shí)現(xiàn)精確對(duì)位的缺點(diǎn)。而雙玻璃曬架與傳統(tǒng)的邁拉曬架相比不僅具有不需要趕氣、效率高的優(yōu)點(diǎn),還可以實(shí)現(xiàn)手動(dòng)或自動(dòng)高精度對(duì)位。在結(jié)合中國(guó)市場(chǎng)的實(shí)際需求后,擬定了雙玻璃曬架實(shí)施方案,研究了玻璃的固定方式、腔體真空、底片吸附等問題。在大量的實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)上有效的解決了真空和重復(fù)精度兩個(gè)關(guān)鍵技術(shù)問題。雙玻璃曬架的成功研制還為實(shí)現(xiàn)手動(dòng)、半自動(dòng)以及全自動(dòng)對(duì)位的紫外線曝光機(jī)系統(tǒng)奠定了基礎(chǔ)。
關(guān)鍵詞:紫外線曝光機(jī), 印制電路板, 雙玻璃曬架
需要趕氣、效率低、不能實(shí)現(xiàn)精確對(duì)位的缺點(diǎn)。而雙玻璃曬架與傳統(tǒng)的邁拉曬架相比不僅具有不需要趕氣、效率高的優(yōu)點(diǎn),還可以實(shí)現(xiàn)手動(dòng)或自動(dòng)高精度對(duì)位。在結(jié)合中國(guó)市場(chǎng)的實(shí)際需求后,擬定了雙玻璃曬架實(shí)施方案,研究了玻璃的固定方式、腔體真空、底片吸附等問題。在大量的實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)上有效的解決了真空和重復(fù)精度兩個(gè)關(guān)鍵技術(shù)問題。雙玻璃曬架的成功研制還為實(shí)現(xiàn)手動(dòng)、半自動(dòng)以及全自動(dòng)對(duì)位的紫外線曝光機(jī)系統(tǒng)奠定了基礎(chǔ)。
關(guān)鍵詞:紫外線曝光機(jī), 印制電路板, 雙玻璃曬架
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