半導體設(shè)備光刻機防震基座如何安裝？

半導體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應工作環(huán)境。由于半導體設(shè)備...

2025-02-05 標簽：光刻機基座半導體設(shè)備 595 0

如何提高光刻機的NA值

本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會...

2025-01-20 標簽：NA光刻機 1250 0

光刻機的分類與原理

本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光...

2025-01-16 標簽：半導體光刻機 2287 0

組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)...

2025-01-07 標簽：照明光源光刻機 2073 0

用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展，但當光刻機的光源波長...

2024-11-24 標簽：芯片制造光刻機光刻技術(shù) 2297 0

一文看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

? 集成電路作為現(xiàn)代信息技術(shù)的核心與基石，其發(fā)展一直遵循著Intel創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出的摩爾定律：價格不變時，約每隔18-24個月，集成度增加一倍...

2024-11-22 標簽：集成電路光刻機 4337 0

光刻機的基本原理和核心技術(shù)

雖然DUVL機器可以通過多重曝光技術(shù)將線寬縮小到7-5納米，但如果要獲得更小的線寬，DUVL已經(jīng)達到了極限。采用EUV作為光源的極紫外光刻（EUVL）成...

2024-04-25 標簽：光源晶體管光刻機 4903 0

光刻機的常見類型解析

光刻機有很多種類型，但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設(shè)備，因為有些分類僅是在某一分類下的分類。

2024-04-10 標簽：攝像機晶體管光刻機 2697 0

碳化硅晶片C面與硅面的存在原因探究

Si-Si鍵能大小為 310 kJ/mol，可以理解鍵能是把這兩個原子拉開的力度，鍵能越大，需要拉開的力越大。 Si-C鍵原子間距為 1.89 ?，...

2024-03-26 標簽：SiC晶片光刻機 1573 0

光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程

光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EU...

2024-03-21 標簽：芯片集成電路芯片制造 8263 0

刻蝕機是干什么用的 刻蝕機和光刻機的區(qū)別

刻蝕機的刻蝕過程和傳統(tǒng)的雕刻類似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過化學腐蝕或物理磨蝕等方式將...

2024-03-11 標簽：芯片制造光刻光刻機 1.4萬 0

淺談不同階段光刻機工作方式

在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數(shù)...

2024-03-08 標簽：芯片制造光刻光刻機 1939 0

一文解析半導體設(shè)計電路的“光刻工藝”

利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

2024-03-06 標簽：集成電路光刻機光刻膠 1450 0

EUV反射鏡的鍍膜工藝：如何選擇合適的鍍膜機

對基板移動進行仔細管理和將基板支架的機械公差降至最低，實現(xiàn)無與倫比的厚度均勻性濺射工藝的卓越穩(wěn)定性和極高水平的層厚度精度。

2024-02-21 標簽：光譜反射鏡鍍膜機 1889 0

淺談半導體設(shè)備高精密陶瓷關(guān)鍵部件的技術(shù)

對于芯片制造來講，光刻是一個必不可少的環(huán)節(jié)，可以說，沒有光刻機，就沒有現(xiàn)代芯片產(chǎn)業(yè)。在集成電路制造過程中，光刻工藝的費用約占制造成本的1/3 左右，耗費...

2024-01-31 標簽：芯片制造CMP光刻機 3270 0

高數(shù)值孔徑EUV光刻：引領(lǐng)下一代芯片制造的革命性技術(shù)

摩爾定律是指在給定面積的硅片上，晶體管的數(shù)量大約每兩年翻一番，這種增益推動了計算技術(shù)的發(fā)展。在過去半個世紀里，我們將該定律視為一種類似進化或衰老的不可避...

2024-01-24 標簽：摩爾定律晶體管芯片制造 1183 0

晶圓需要拋光的原因分析

　光刻機的鏡頭要實現(xiàn)納米級的成像分辨率，就得拼命增大鏡片的數(shù)值孔徑（Numerical Aperture），但這同時會導致焦深（DoF）的下降，焦深是指...

2024-01-22 標簽：晶圓芯片制造半導體器件 1221 0