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標簽 > 光刻機
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光刻制造技術上取得進展 國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)高端領域彎道超車?
光刻機是集成電路制造的關鍵核心設備,為了在更小的物理空間集成更多的電子元件,單個電路的物理尺寸越來越小,主流光刻機在硅片上投射的光刻電路分辨率達到50-...
2016-12-13 標簽:光刻機 1.3萬 0
ASML與卡爾蔡司合作研發(fā)EUV光刻系統(tǒng) 2024年問世
半導體制造工藝是集成電路產(chǎn)業(yè)的核心,未來摩爾定律是否還能主宰產(chǎn)業(yè)發(fā)展就得看半導體工藝是否能在10nm以下的工藝繼續(xù)突破了,而在這個問題上,荷蘭ASML公...
記者23日從中科院光電技術研究所獲悉,該所微電子專用設備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。
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