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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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英特爾與臺(tái)積電出投巨資建設(shè)450mm晶圓和EUV曝光
圍繞450mm晶圓和EUV(Extreme Ultraviolet,超紫外線)曝光等新一代半導(dǎo)體制造技術(shù)的動(dòng)向日趨活躍。2012年7月,全球最大的曝光...
2012-09-10 標(biāo)簽:英特爾臺(tái)積電半導(dǎo)體技術(shù) 1.4k 0
臺(tái)積電搶進(jìn)3D封裝技術(shù) 日月光不會(huì)直接競(jìng)爭(zhēng)
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入20nm以下制程后,不但封測(cè)技術(shù)愈加困難、投資門坎也愈來(lái)愈高,IC封測(cè)龍頭廠日月光(2311)營(yíng)運(yùn)長(zhǎng)吳田玉表示,臺(tái)積電(2330)本身就是...
ASML聲稱:EUV設(shè)備最快會(huì)在2016年推出
電子發(fā)燒友網(wǎng)訊: 光刻設(shè)備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經(jīng)投入到下一代元紫外線光刻技術(shù)(EUV)設(shè)備...
英特爾10nm設(shè)計(jì)規(guī)則初定,EUV技術(shù)恐錯(cuò)過良機(jī)
盡管英特爾在距今4年前便已開始計(jì)劃10nm節(jié)點(diǎn),但該公司目前正在敲定相關(guān)的制程設(shè)計(jì)規(guī)則,而EUV則遲遲未能參與此一盛晏?!癊UV趕不及參與10nm節(jié)點(diǎn)設(shè)...
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