比利時Luceda公司是根植于比利時根特大學和IMEC的新興硅光設計EDA軟件提供商，近年來在中國市場表現(xiàn)非?；钴S，組織了多次硅光領域的培訓課程。這次的“名家芯思維”硅光發(fā)展與應用論壇期間，Luceda公司亞洲區(qū)代表曹如平博士攜手他們的合作伙伴，西門子旗下的老牌EDA設計軟件公司Mentor再次為中國客戶提供了關于硅光EDA設計工具的最新知識。21日上午，光纖在線編輯應邀采訪了曹如平博士和陳昇祐總監(jiān)。

作為硅光領域最重要的EDA工具提供商之一，曹博士和陳總監(jiān)對這個領域近年來的進展了如指掌。曹博士告訴編輯，最近兩年多來，許多客戶的設計團隊對EDA軟件的重視越來越高。最開始接觸硅光設計的時候，客戶多是只關心硬件方面的問題。而在不斷的實踐中，他們發(fā)現(xiàn)其實更多的問題是在設計軟件的使用上，比如對設計版圖的檢查和元件庫的使用等等。不同于微電子領域的設計工程師普遍有EDA的知識和經(jīng)驗，硅光工程師的背景多是光學背景。正是在設計中的許多實際問題，他們認識到在EDA工具使用上的欠缺，因此更加重視這個領域的工作。

Luceda和Mentor的產(chǎn)品能夠為硅光工程師提供什么樣的具體幫助呢？曹博士告訴編輯，EDA工具自動化大規(guī)模的版圖驗證功能為硅光工程師提供了極大的便利?，F(xiàn)在的硅光芯片設計普遍包括多個抽象的層次，EDA工具提供了對這些層次從上到下以及從下到上的全面視角。同時，他們的EDA工具還支持光與電設計更好的整合。陳總監(jiān)說，受惠于硅光器件以及CMOS兼容工藝發(fā)展的成熟，硅光的商業(yè)潛能已經(jīng)十分明確，硅基光電子集成線路設計必須滿足商業(yè)化的時程壓力、性能指標以及量產(chǎn)良率。Mentor是電子EDA設計的領先廠商，其中的 Tanner工具與 Luceda 整合成為硅基光電子集成線路的全流程設計平臺，他們已經(jīng)和世界上領先的各大硅基光電子晶圓代工廠合作開發(fā)許多個工藝設計套件 （PDK），提供和電子芯片設計同樣流暢的流程并處理光子與電子的基本差異，硅基光電子芯片設計師可以進行系統(tǒng)設計、原理圖設計、物理版圖設計、以及大規(guī)模光波導布線自動化，Tanner 平臺並整合業(yè)界標準Calibre 物理版圖驗證方法以及光刻仿真，實現(xiàn)符合可製造性的大規(guī)模設計。他們將微電子設計領域許多工具帶到光芯片領域，協(xié)助建立起光電一體的設計生態(tài)系統(tǒng)?？傊珽DA設計工具的使用大大提升了客戶流片的成功率，這正是Luceda和Mentor的產(chǎn)品對客戶的最大價值。期盼和國內硅基光電子工藝線以及芯片設計師合作，實現(xiàn)硅基光電子集成芯片國產(chǎn)化。

光電混合集成是近年來硅光領域的重要技術趨勢。陳總監(jiān)告訴編輯，他們正觀察到越來越多這樣的例子，比如在一些芯片公司GPU產(chǎn)品的設計中就開始使用更多的光互聯(lián)方案，同樣的例子還出現(xiàn)在陳總監(jiān)也在負責的物聯(lián)網(wǎng)領域。正因為如此，Mentor已經(jīng)在他們產(chǎn)品中引入更多光學設計的工具，比如Mentor公司的Tanner產(chǎn)品可以支持MEMS的光學設計。他們的Caliber驗證工具對于光電混合設計的版圖可以提供很好的檢查。

Luceda和Mentor的緊密合作為硅光設計工程師提供了便利的工具，為硅光大規(guī)模自動化提供了可能，也是硅光光電混合集成這一趨勢最好的注解。