根據(jù)IC Insights發(fā)布的11月更新McClean報(bào)告顯示，預(yù)計(jì)2019年半導(dǎo)體TO5企業(yè)（即三星，英特爾，臺(tái)積電，SK海力士和美光）資本支出所占份額將達(dá)到68%，這一數(shù)據(jù)將創(chuàng)下歷史新高。超過此前的記錄高位67%。

報(bào)告數(shù)據(jù)顯示，1994年，前五名的支出企業(yè)僅占行業(yè)總支出的25％，因此大公司增加其資本支出份額的趨勢一直沒有減弱（圖1）。

圖1：1994年~2019年半導(dǎo)體企業(yè)資本支出的份額趨勢

圖2顯示了三星和臺(tái)積電2019年第四季度的資本支出趨勢。如圖所示，兩家公司在年初時(shí)的支出都相對(duì)較低，然后其在第二季度的支出增加到了較為適度的水平。此外，兩家公司在2019年Q3的電話會(huì)議中宣布，他們計(jì)劃將今年第四季度的支出增加到創(chuàng)紀(jì)錄的水平。

圖2：2019年第四季度三星和臺(tái)積電資本支出趨勢

預(yù)計(jì)2019年第四季度臺(tái)積電的資本支出會(huì)增加至51.47億美元，環(huán)比將增長64％。在這個(gè)水平上，這將是該公司季度支出的歷史新高，比2014年第一季度的37.99億美元的歷史記錄高出36％。

與此同時(shí)，他還是唯一一家提供領(lǐng)先技術(shù)的純晶圓代工廠，并且對(duì)其7nm工藝的需求非常強(qiáng)勁，預(yù)計(jì)該工藝將占該公司2019年第四季度銷售額的33％。目前，其大部分投資將針對(duì)其7nm和5nm技術(shù)的產(chǎn)能擴(kuò)張。

三星宣布計(jì)劃在今年Q4創(chuàng)下其半導(dǎo)體支出的新季度最高記錄，其中絕大部資本支出將用建立存儲(chǔ)器基礎(chǔ)設(shè)施，以滿足中長期需求。該公司計(jì)劃2019年第四季度的資本支出為79億美元，與2019年第三季度相比增長81%。這一水平將比三星在2017年第四季度的季度最高支出68.77億美元高出15％。

對(duì)于2019年全年，三星半導(dǎo)體資本支出預(yù)計(jì)為199億美元，較2018年的支出下降8％。然而，該公司2017年，2018年和2019年的半導(dǎo)體資本支出總額預(yù)計(jì)為658億美元，比同期第二大支出最多的英特爾多。此外，三星在2017-2019年的658億美元半導(dǎo)體資本支出將是同期所有中國本土半導(dǎo)體供應(yīng)商總支出308億美元的兩倍多。