近日，北京證監(jiān)局披露了華卓精科的第三期輔導(dǎo)工作報(bào)告，公司擬登陸科創(chuàng)板。據(jù)公司官網(wǎng)顯示，其生產(chǎn)的光刻機(jī)雙工件臺(tái)，打破了ASML公司在工件臺(tái)上的技術(shù)壟斷，成為世界上第二家掌握雙工件臺(tái)核心技術(shù)的公司。

華卓精科成立時(shí)間為2012年5月9日，曾在新三板掛牌上市，于2019年2月13日起終止在新三板掛牌。公司主要從事半導(dǎo)體制造裝備及其關(guān)鍵零部件研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售與技術(shù)服務(wù)，其中光刻機(jī)雙工件臺(tái)是公司稱(chēng)作為核心戰(zhàn)略產(chǎn)品。

北京華卓精科科技股份有限公司由清華IC裝備團(tuán)隊(duì)在清華大學(xué)及其下屬“北京-清華工業(yè)技術(shù)研究院”和02專(zhuān)項(xiàng)的支持下創(chuàng)立，是一家肩負(fù)著專(zhuān)項(xiàng)重大科研成果產(chǎn)業(yè)化重任的高新技術(shù)企業(yè)。公司建立初衷在于將清華大學(xué)在02專(zhuān)項(xiàng)中積累的高端壟斷技術(shù)落地產(chǎn)業(yè)化，通過(guò)“技術(shù)輻射＆下行”的方式，面向國(guó)內(nèi)市場(chǎng)提供產(chǎn)業(yè)界急需的高端零部件、子系統(tǒng)類(lèi)產(chǎn)品。

光刻機(jī)雙工件臺(tái)是什么？

光刻機(jī)中最關(guān)鍵的兩個(gè)子系統(tǒng)，一個(gè)是超精密曝光光學(xué)系統(tǒng)，另外一個(gè)就是超精密工件臺(tái)系統(tǒng)。雙工件臺(tái)，即在一臺(tái)光刻機(jī)內(nèi)有兩個(gè)承載晶圓的工件臺(tái)。兩個(gè)工件臺(tái)相互獨(dú)立，但同時(shí)運(yùn)行，一個(gè)工件臺(tái)上的晶圓做曝光時(shí)，另一個(gè)工件臺(tái)對(duì)晶圓做測(cè)量等曝光前的準(zhǔn)備工作。當(dāng)曝光完成之后，兩個(gè)工件臺(tái)交換位置和職能，如此循環(huán)往復(fù)實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的高產(chǎn)能。

雙工件臺(tái)的發(fā)明使光刻機(jī)的產(chǎn)能有了大幅度提高。傳統(tǒng)的光刻機(jī)中只有一個(gè)工件臺(tái)，晶圓的上下片、測(cè)量、對(duì)準(zhǔn)、曝光都是順序進(jìn)行的；而在雙工件臺(tái)中，大部分測(cè)量、校正工作可以在另一個(gè)工件臺(tái)上并行。先進(jìn)光刻機(jī)要求有極高的對(duì)準(zhǔn)精度，而對(duì)準(zhǔn)精度與所需要的測(cè)量的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記數(shù)目成反比，即測(cè)量的標(biāo)識(shí)越多，所能表達(dá)的對(duì)準(zhǔn)精度越高。大量的測(cè)量必然導(dǎo)致單工件臺(tái)光刻機(jī)的產(chǎn)能進(jìn)一步下降。一般曝光的時(shí)間要大于測(cè)量和校正的時(shí)間，因此，在雙工件臺(tái)設(shè)計(jì)中系統(tǒng)可以做更多更復(fù)雜的測(cè)量，而不影響產(chǎn)能。

圖1雙工件臺(tái)（TWINSCAN）光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖

中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)發(fā)展到什么階段？

<電子發(fā)燒友>查閱資料發(fā)現(xiàn)華卓精科主要還是專(zhuān)注于高端零部件、子系統(tǒng)類(lèi)產(chǎn)品，比如光刻機(jī)雙工件臺(tái)。整體而言，國(guó)內(nèi)可以生產(chǎn)光刻機(jī)的廠商相當(dāng)少，目前來(lái)看，上海微電裝備的發(fā)展在國(guó)內(nèi)最為領(lǐng)先，是國(guó)內(nèi)唯一一家生產(chǎn)高端前道光刻機(jī)整機(jī)的公司，其目前可生產(chǎn)加工90nm工藝制程的光刻機(jī)，同時(shí)承擔(dān)國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝專(zhuān)項(xiàng)”（02專(zhuān)項(xiàng)）的65nm光刻機(jī)研制，代表國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)最高水平。

上海微電子裝備光刻機(jī)主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造領(lǐng)域，2018年出貨大概在50-60臺(tái)之間。資料顯示，上海微電子SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。

圖：上海微電子SSX600系列光刻機(jī)主要產(chǎn)品型號(hào)及參數(shù)

事實(shí)上，上海微電子的光刻機(jī)技術(shù)水平與國(guó)際巨頭的差距，基本上可以反應(yīng)目前國(guó)內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)在國(guó)際的位置。很明顯，上海微電子與國(guó)際三巨頭尼康、佳能（中高端光刻機(jī)市場(chǎng)已基本沒(méi)落）、ASML（中高端市場(chǎng)近乎壟斷）仍然存在很大差距。不過(guò)，有知乎網(wǎng)友認(rèn)為，新技術(shù)的創(chuàng)新與應(yīng)用，比學(xué)習(xí)現(xiàn)有知識(shí)技術(shù)的追趕，更難超越更具有偶然性，這也是為什么發(fā)達(dá)國(guó)家增長(zhǎng)率越來(lái)越低，而中國(guó)作為發(fā)展中國(guó)家的增長(zhǎng)卻相當(dāng)快，中國(guó)的光刻機(jī)制造會(huì)越來(lái)越好。

從2018年各個(gè)光刻機(jī)制造商的銷(xiāo)售數(shù)據(jù)，可以看出發(fā)展逐漸趨于平緩。

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨374臺(tái)，較2017年的294臺(tái)增加80臺(tái)，增長(zhǎng)27.21%。ASML、Nikon、Canon三巨頭光刻機(jī)總營(yíng)收118.92億歐元，較2017年增長(zhǎng)25.21%。從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來(lái)看，全年共出貨134臺(tái)。其中ASML出貨120臺(tái)，占有9成的市場(chǎng)。

2018年ASML光刻機(jī)出貨224臺(tái)，營(yíng)收達(dá)82.76億歐元，較2017年成長(zhǎng)35.74%。其中EUV光刻機(jī)營(yíng)收達(dá)18.86億歐元，較2017年增加7.85億歐元。EUV光刻機(jī)出貨18臺(tái)，較2017年增加7臺(tái)；ArFi光刻機(jī)出貨86臺(tái)，較2017年增加10臺(tái)；ArF光刻機(jī)出貨16臺(tái)，較2017年增加2臺(tái)；KrF光刻機(jī)出貨78臺(tái)，增加7臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨26臺(tái)，和2017年持平。

2018年單臺(tái)EUV平均售價(jià)1.04億歐元，較2017年單臺(tái)平均售價(jià)增長(zhǎng)4%。而在2018年一季度和第四季的售價(jià)更是高達(dá)1.16億歐元。目前全球知名廠商包括英特爾Intel、三星Samsung、臺(tái)積電TSMC、SK海力士SKHynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國(guó)際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。2018年中國(guó)已經(jīng)進(jìn)口多臺(tái)ArFi光刻機(jī)，包括長(zhǎng)江存儲(chǔ)、華力微二期。

2018年度（非財(cái)年），Nikon光刻機(jī)出貨106臺(tái)，營(yíng)收達(dá)20.66億歐元，較2017年成長(zhǎng)25.29%。2018年度，Nikon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨36臺(tái)，比2017年度增加9臺(tái)，增長(zhǎng)33.33%。其中ArFi光刻機(jī)出貨5臺(tái)，較2017年度減少1臺(tái)；ArF光刻機(jī)出貨9臺(tái)，較2017年度增加1臺(tái)；KrF光刻機(jī)出貨5臺(tái)，較2017年度增加3臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨17臺(tái)，較2017年度增加6臺(tái)。Nikon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨36臺(tái)中，其中全新機(jī)臺(tái)出貨19臺(tái)，翻新機(jī)臺(tái)出貨17臺(tái)。2018年度，Nikon面板（FPD）用光刻機(jī)出貨70臺(tái)。

2018年Canon光刻機(jī)出貨183臺(tái)，營(yíng)收達(dá)15.5億歐元，較2017年微增1.6%。2018年Canon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨達(dá)114臺(tái)，較2017年增加44臺(tái)，增長(zhǎng)62.85%。但是主要是i-line、KrF兩個(gè)低端機(jī)臺(tái)出貨。2018年全年面板（FPD）用光刻機(jī)出貨69臺(tái)。

而國(guó)內(nèi)的發(fā)展情況如何呢？國(guó)家重大專(zhuān)項(xiàng)人員投入上正在加大力度，遵循系統(tǒng)工程的開(kāi)發(fā)流程，整機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和集成能力很好，目前產(chǎn)品輻射到泛半導(dǎo)體行業(yè)中低端光刻機(jī)和類(lèi)光刻機(jī)設(shè)備，產(chǎn)品市場(chǎng)前景不錯(cuò)。封裝光刻機(jī)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)80%以上占有率，在東南亞也有銷(xiāo)售；LED光刻機(jī)近期發(fā)力，訂單多的干不完，年前，6代TFT面板光刻機(jī)已出廠，進(jìn)入量產(chǎn)節(jié)奏。

整體而言，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)與國(guó)外光刻機(jī)企業(yè)存在差距，但是不管是在市場(chǎng)占有率，還是一些關(guān)鍵技術(shù)上，都在逐漸突破。

本文為電子發(fā)燒友綜合報(bào)道