昨（20）日，三星電子副會長李在镕視察了該公司首條基于極紫外光刻(EUV)技術的晶圓生產線V1。期間，李在镕再次明確，將在2030年使三星電子成為邏輯芯片領域的世界第一。

據BusinessKorea報道，三星電子指出，李在镕在昨日參觀了該工廠的EUV生產線后，與DS業(yè)務部門的總裁進行了實地會晤。三星設備解決方案部門（DS）包括半導體和顯示器兩大重要產品線，此次會晤似乎也顯示出李在镕勢在必得的決心。

據了解，V1產線于2018年2月動工，投資約60億美元，若未來全線建成，預計總投資將達到20萬億韓元。

“V1包含了紫外光線（Ultra Violet）和勝利（Victory）的意思，”三星電子的一位高管稱?！拔覀冇媱澑鶕磥淼氖袌銮闆r對V1線進行額外投資。”

與此同時，三星電子判斷，掌握EUV工藝對于緊跟臺積電至關重要。因為利用短波紫外線光源在晶圓上雕刻半導體電路，與ArF方法相比，先進的工藝可以制造出更精細的電路，適用于10納米以下的超精細工藝，是制備高性能、低功耗半導體的關鍵。

在三星電子該條V1產線上，除了生產7納米芯片外，還將生產5納米和3納米半導體。據悉，從2月初開始量產的7納米產品將于3月份交付全球客戶。

李在镕當天還對員工們表示，“去年，我們播下了成為系統(tǒng)半導體龍頭的目標的種子，而今天，我們率先實現了這一目標?！?/p>