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晶訊自研B41全頻段FBAR濾波器推出,采用獨家的單晶薄膜電極技術

牽手一起夢 ? 來源:麥姆斯咨詢 ? 作者:佚名 ? 2020-04-23 14:46 ? 次閱讀
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近日,晶訊聚震科技有限公司(簡稱:晶訊)在珠海正式發(fā)布了其自主研制的B41全頻段FBAR濾波器及B40濾波器。據(jù)《5G手機射頻前端模組和連接性的影響-2019版》報告預測,移動設備及WiFi連接部分整體射頻前端市場規(guī)模將從2017年150億美元增長到2023年350億美元,年復合增長率達到14%。其中作為射頻前端最大市場的濾波器從2017-2023年將增長3倍左右,復合增長率達到19%。而目前射頻濾波器芯片市場主要被Broadcom、Skyworks、Qorvo村田等美日國際巨頭壟斷,國內自給率較低。

晶訊自研B41全頻段FBAR濾波器推出,采用獨家的單晶薄膜電極技術

據(jù)晶訊介紹,本次推出的FBAR濾波器獨創(chuàng)的單晶摻雜壓電材料和單晶薄膜電極技術,可重新定義FBAR諧振器和濾波器性能,同時創(chuàng)新性發(fā)明一種全新的低成本晶圓級Bump-on-Via WLP封裝技術。采用上述技術設計生產(chǎn)的SC-FBAR濾波器在支持高功率的同時可以縮小封裝尺寸,擁有行業(yè)最薄的WLP封裝、大帶寬、高帶外抑制以及低插損等優(yōu)異性能。B41、B40濾波器均不需要額外的外部匹配。

此外,晶訊透露將于2020年Q3發(fā)布高性能5G n79濾波器、n77+n79同向雙工器及一款低成本高性能的B3雙工器;于2020年Q4發(fā)布B1+B3四工器。

晶訊成立于2017年,由行業(yè)領軍人卓爾先生(Dror Hurvits)在珠海創(chuàng)立,是國內唯一一家擁有多項美國專利的高性能FBAR濾波器IDM制造商。晶訊已經(jīng)獲得9項美國發(fā)明專利授權,另有19項美國及中國專利申請正在審批中;其專利池涵蓋濾波器設計、諧振器結構、封裝方法及生產(chǎn)制造等環(huán)節(jié);在未來的18個月內,晶訊專利數(shù)量將增加一倍。5G時代,晶訊可為手機、模組、智能終端及小型基站客戶提供世界級的高性能SC-FBAR濾波器、雙工器和多工器。

晶訊Dror Hurwitz的FBAR濾波器發(fā)明專利

據(jù)悉,晶訊在天津用于研發(fā)及生產(chǎn)的先進制程中心,是全球唯一擁有外延摻雜壓電薄膜和電極薄膜能力的半導體工廠,具備出色的量產(chǎn)Trimming能力。晶訊目前6寸晶圓產(chǎn)能可達到1500片/月,并將于2020年下半年擴展至5000片/月。

值得注意的是,在國產(chǎn)替代大背景下,國內射頻前端芯片廠商也迎來良好的發(fā)展時機。據(jù)晶訊介紹,持續(xù)的創(chuàng)新及知識產(chǎn)權積累讓晶訊突破了美國和日本公司對于BAW/FBAR濾波器的專利和技術壟斷,也獲得了國內領先的半導體公司、產(chǎn)業(yè)基金和上市公司的投資。

責任編輯:gt

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