眾所周知的是啊，如果問到我們國家最為急缺的技術(shù)是什么，相信很多的觀眾朋友都會脫口而出三個字：“光刻機”！。

今天就和大家來好好聊聊光刻機這個東西。 大家可能都很清楚，在當今世界上，擁有原子彈的國家可不少，滿打滿算達到了9個。而擁有制造尖端光刻機能力的國家，在地球上僅有兩個國家能夠掌握，他們分別是日本和荷蘭。 毫不忌諱地說，制造先進光刻機的技術(shù)，比原子彈還要稀有。

首先我們要明確的一點，這個光刻機到底是個什么東西？ 眾所周知的是，當今世界上的任何電子設(shè)備幾乎都難以離開芯片這一樣關(guān)鍵子系統(tǒng)，制造芯片的工藝也逐步進化，到現(xiàn)在已經(jīng)進入到了5納米級。 而在制造芯片的過程當中，有這么一項步驟，那就是利用紫外線來去除掉晶圓表面的保護膜，完成這一個步驟的機器，我們就叫它為光刻機，或者我們也可以叫它曝光機。

明白了這一點之后，我們來看看它、制造這個玩意的難度都在哪兒。 首先的問題，就是在光源之上。光刻機必須要穩(wěn)定輸出高功率的光線，來支持其在晶圓上的刻蝕，并且處于其產(chǎn)業(yè)化的規(guī)模要求，其在耗電這一項也有著極致的追求。 而后，就是在模板上的制作了。在制造芯片之前，光刻機需要根據(jù)芯片的電路圖來制造一個相應(yīng)的掩模板，在足夠堅硬的材料上使用激光繪圖，為芯片制造工作來打一個“模板”，單純就在這一項上，就足夠勸退不少國家了。 然后就是這個叫做透鏡的東西了。透鏡的作用在于將模板上的電路圖進行等比例縮小，然后在硅片上以電路圖的形式呈現(xiàn)出來，是制造芯片所需要的關(guān)鍵性元件，以制作光學器件聞名的這個德國的蔡司，也無法把光刻機的透鏡給做出來。 然后就是光刻時所需要的移動臺，它控制了在芯片生產(chǎn)時的紋路刻蝕，移動精度越高，所能加工的芯片精度也越高。 這對于一個國家的硬件實力和軟件實力，都是極大的考驗，即便是美國，也無法做到壟斷生產(chǎn)移動臺這樣的設(shè)備。 最后一點也是最重要的一點，那就是錢的問題了，像光刻機這樣的暴利高精尖裝備，其所需要的投入也是巨大的。 目前代表了世界最先進水準的荷蘭ASML，其光刻機的研發(fā)經(jīng)費和相關(guān)子系統(tǒng)上的投入也是十分的巨大，并且無法獨自承擔研發(fā)經(jīng)費。 ASML的光刻機制造都是交由美國、日本、德國這樣的經(jīng)濟大國來進行分攤，完全稱得上是一個國際項目了。 也是由于這一點，ASML在光刻機的出售問題上，很大程度上要看這些大股東們的臉色。

平心而論，作為世界頂級芯片制造技術(shù)的基石，對于任何一個大國來說，光刻機都是不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。 但基于國際環(huán)境的不斷變化，來自于海外的進口設(shè)備逐漸緊縮，這就使得中國人不得不在制造光刻機上開啟了漫長而又曲折的探索道路。 而就從當下的情況而言，中國的半導體企業(yè)已著眼于本土化光刻機的研發(fā)與制造。但正所謂羅馬不是一日建成的，西方國家積淀了幾十年的技術(shù)，并不是單純靠著一腔熱血就能突破的。 目前的中國企業(yè)，已經(jīng)對中低端的光刻機技術(shù)實現(xiàn)了突破了，這對于確保我國芯片制造上的國防戰(zhàn)略安全有著極其特殊的意義，畢竟在信息化戰(zhàn)爭的條件下，即便是一個小小的單兵手表，都需要通過芯片作為依托，來對戰(zhàn)場環(huán)境進行一個信息交互，從而達到提升部隊作戰(zhàn)能力的根本目標。

而在事實上，中國目前所面臨的芯片困境，同幾十年前所面臨的難題幾乎是如出一轍。

但中國的專家學者們，憑借著他們獨到而又前沿的眼光，為我國的技術(shù)發(fā)展貢獻出了重要的力量。

我們有理由相信嗎，在物質(zhì)條件和生活水平更好的當下，中國的科研人員們，會在適當?shù)臅r候給我們所有人來一個大驚喜。

原文標題：比原子彈還稀有，全世界僅兩個國家掌握，光刻機為什么這么難？

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