為爭(zhēng)取EUV頂級(jí)光刻機(jī)供貨，三星負(fù)責(zé)人拜訪AMSL荷蘭總部游說
據(jù)韓媒報(bào)道，三星電子副董事長(zhǎng)李在镕在本周三（10月14日）親自飛赴ASML（阿斯麥）荷蘭總部會(huì)晤。
陪同李在镕的是三星芯片業(yè)務(wù)負(fù)責(zé)人Kim Ki-nam，ASML方面CEO Peter Wennink和CTO Martin Van den Brink均出面接待，規(guī)格頗高。
據(jù)稱，雙方探討了的核心是EUV光刻機(jī)的供應(yīng)和裝配（5nm），同時(shí)也就面向AI等領(lǐng)域的下一代光刻機(jī)研發(fā)合作交換了意見，討論中還各自發(fā)表了對(duì)當(dāng)前新冠肺炎疫情的看法。
資料顯示，三星和ASML在EUV極紫外光刻上的合作可追溯到2000年，三星在2012年的時(shí)候還投資入股ASML以加強(qiáng)合作，目前，三星持有ASML 1.5%股份。
另?yè)?jù)了解，ASML正在開發(fā)NXE-5000，是其現(xiàn)有主力出貨EUV光刻機(jī)NXE-3400B的完全換代型號(hào)。
責(zé)編AJX
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
三星電子
+關(guān)注
關(guān)注
34文章
15891瀏覽量
182752 -
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1191瀏覽量
48644 -
AMSL
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
10瀏覽量
3336
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來，荷蘭 ASML 公
FF任命李雋擔(dān)任全球供應(yīng)鏈負(fù)責(zé)人
“公司”）今日宣布, 任命李雋為FF與FX全球供應(yīng)鏈負(fù)責(zé)人。李雋將對(duì)供應(yīng)鏈業(yè)務(wù)全面負(fù)責(zé)，并與各區(qū)域和各職能團(tuán)隊(duì)緊密合作，強(qiáng)化供應(yīng)商合作關(guān)系、提升運(yùn)營(yíng)韌性、提升價(jià)值鏈效率。此次任命也體現(xiàn)了公司持續(xù)打造世界級(jí)供應(yīng)鏈組織、支持創(chuàng)新與增
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來減小波長(zhǎng)，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會(huì)
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng)，尤
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
谷歌印度公共政策負(fù)責(zé)人Sreenivasa Reddy辭職
近日，谷歌發(fā)言人證實(shí)，公司印度公共政策負(fù)責(zé)人Sreenivasa Reddy已正式提交辭職申請(qǐng)并離職。這一消息引起了業(yè)界的廣泛關(guān)注。 Sreenivasa Reddy在加入谷歌之前，曾在微軟和蘋果
如何提高光刻機(jī)的NA值
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA，又名
光刻機(jī)的分類與原理
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹
納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用
日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝，設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在
三星芯片部門任命新負(fù)責(zé)人
和存儲(chǔ)芯片業(yè)務(wù)； 以前負(fù)責(zé)三星電子美國(guó)半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的執(zhí)行副總裁Han Jin-man被提拔為總裁，并擔(dān)任代工業(yè)務(wù)部負(fù)責(zé)人； 芯片工廠工程和運(yùn)營(yíng)主管Seok-woo Nam將調(diào)任代工業(yè)務(wù)首
用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm，芯片制程縮小至6
光刻機(jī)的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽(yù)為芯片制
今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)
1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道，三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA
發(fā)表于 10-31 10:56
?1394次閱讀
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論