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ASML DUV光刻機(jī)亮相,讓邊緣定位精度不斷提高

牽手一起夢 ? 來源:快科技 ? 作者:雪花 ? 2020-11-06 14:54 ? 次閱讀
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正在進(jìn)行的第三屆進(jìn)博會上,***巨頭ASML也參展了,并且還在自己的展臺上曬出展示了DUV***。

據(jù)悉,ASML之所以沒有展示新的EUV***,主要是因?yàn)樗麄兡壳叭圆荒芟蛑袊隹贓UV***,而此次展示的DUV***可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案,包括先進(jìn)控制能力的***臺計(jì)算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù),讓邊緣定位精度不斷提高。

在這之前,ASML CFO Roger Dassen在財(cái)報(bào)會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)情況,其表示一些情況下,出口***是不需要許可證的。

Roger Dassen指出,ASML了解美國當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋,當(dāng)然也知道這些與特定的中國客戶密切相關(guān),但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義(對于特定的中國客戶),則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng),且無需出口許可證。

美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、***等,但并沒有限制其他國家對中國進(jìn)口,荷蘭并不在美國的禁令范圍內(nèi)。

目前的***主要分為EUV***和DUV***。DUV***,分為干分式與液浸式兩種。其中,液浸式于ASML手中誕生,其波長雖然有193nm,但等效為134nm,經(jīng)過多重曝光后,液浸式***也能夠達(dá)到7nm工藝。但是,每多一次曝光都會使得制造成本大大提升,而且良品率也難以控制。

EUV***采用13.5nm波長的光源,是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說,就算DUV(深紫外線)***能從尼康、佳能那里找到替代,但如果沒有ASML的EUV***,芯片巨頭臺積電、三星Intel的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

責(zé)任編輯:gt

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