作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進工藝的光刻機，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機他們還是獨一份。

日前在上海的第三屆進出口博覽會上，ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波在采訪中表示，他們對進博會開放、合作的理念很認同，這也是ASML公司長期以來支持行業(yè)和客戶發(fā)展的信念。

沈波透漏，ASML與中國的淵源極深，最早一臺光刻機是于1988年進入中國，迄今已經(jīng)32年了。

2000年ASML還在天津正式成立了分公司，目前已在中國設(shè)有12個辦公室，11個倉儲物流中心，2處開發(fā)中心，1個培訓(xùn)中心，共擁有1000多名員工。

根據(jù)沈波的消息，這么多年來他們已經(jīng)為中國國內(nèi)地區(qū)的半導(dǎo)體客戶累積提供了700多臺裝機。

隨著國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，國內(nèi)客戶購買的光刻機等產(chǎn)品也越來越多，根據(jù)ASML的財報，今年Q2、Q3季度中，公司發(fā)往國內(nèi)地區(qū)的光刻機占了全球銷量的20%。

在這次進博會上，ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高，目前的DUV光刻機可以制造7nm及以上工藝的半導(dǎo)體芯片。
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