ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無(wú)霸的存在，而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎，無(wú)奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。

中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)，不過(guò)ASML對(duì)這個(gè)機(jī)器是不放行的，主要是美國(guó)強(qiáng)制要求。

EUV光刻機(jī)是光刻機(jī)在發(fā)展過(guò)程中的第五代產(chǎn)品，由于采用了極紫外線，它的最小工業(yè)節(jié)點(diǎn)到了 22nm-7nm，可以說(shuō)是世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備——而這種設(shè)備，只有ASML能造出來(lái)。

2018年4月，中芯國(guó)際向ASML訂購(gòu)了一臺(tái) EUV 光刻機(jī)，價(jià)值1.2億美元（約合人民幣8億元），預(yù)計(jì)2019年年初交貨。后來(lái)此事被報(bào)道后，ASML回應(yīng)稱(chēng)，對(duì)包括中國(guó)客戶在內(nèi)的全球客戶都一視同仁，且向中國(guó)出售EUV光刻機(jī)并沒(méi)有違反《瓦森納協(xié)定》。當(dāng)時(shí)，荷蘭政府的確向 ASML 發(fā)放了出口許可證。

不過(guò)，最終這個(gè)交易也沒(méi)有形成，根據(jù)知情人士的說(shuō)法，美國(guó)立即盯上了這筆交易——接下來(lái)的幾個(gè)月里，美方官員至少四次與荷蘭官員開(kāi)會(huì)，討論可否直接封殺這筆交易。

此后，關(guān)于 EUV 光刻機(jī)向中國(guó)出口，ASML 的官方說(shuō)法一直是：公司仍在等待新許可證申請(qǐng)的批準(zhǔn)。

在這之前，ASML CFO Roger Dassen在財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中談到了與中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的業(yè)務(wù)情況，其表示一些情況下，出口光刻機(jī)是不需要許可證的。

Roger Dassen指出，ASML了解美國(guó)當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋?zhuān)?dāng)然也知道這些與特定的中國(guó)客戶密切相關(guān)，但如果廣泛的來(lái)理解其規(guī)章制度對(duì)ASML的總體含義（對(duì)于特定的中國(guó)客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國(guó)客戶提供DUV光刻系統(tǒng)，且無(wú)需出口許可證。

美國(guó)僅僅是限制了美國(guó)不能給中國(guó)出口芯片、光刻機(jī)等，但并沒(méi)有限制其他國(guó)家對(duì)中國(guó)進(jìn)口，荷蘭并不在美國(guó)的禁令范圍內(nèi)。

目前的光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV光刻機(jī)，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長(zhǎng)雖然有193nm，但等效為134nm，經(jīng)過(guò)多重曝光后，液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會(huì)使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

EUV光刻機(jī)采用13.5nm波長(zhǎng)的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說(shuō)，就算DUV（深紫外線）光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒(méi)有ASML的EUV光刻機(jī)，芯片巨頭臺(tái)積電、三星、Intel的5nm產(chǎn)線就無(wú)法投產(chǎn)。

責(zé)任編輯：PSY